光学玻璃制造技术

技术编号:12611782 阅读:133 留言:0更新日期:2015-12-30 10:58
本发明专利技术提供一种折射率为1.86-1.92、阿贝数为36-42的高折射低色散光学玻璃。光学玻璃,其重量百分比组成包括:B2O3:1-30%;SiO2:0-20%;La2O3:25-55%;Gd2O3:5-40%;Y2O3:0-25%;Yb2O3:0-10%;Ta2O5:0-10%;Nb2O5:1-30%;TiO2:0-10%;ZrO2:0.5-20%;WO3:0-10%;ZnO:0-15%;Al2O3:0-10%;GeO2:0-10%;Bi2O3:0-10%;不含有PbO和F。本发明专利技术通过引入适量具有高折射率低色散作用的稀土类氧化物并优化这些组分配比,可得到具有优异的透过率的高折射率低色散光学玻璃。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及一种具有高折射率低色散特性的光学玻璃,W及由所述光学玻璃形成 的玻璃预制件和光学元件。
技术介绍
阳002]高折射率低色散光学玻璃形成的透镜与由高折射率高色散光学玻璃形成的透镜 进行组合,能够修正色差,使光学系统小型化,特别是折射率nd为1. 86-1. 92、阿贝数Vd为 36-42的高折射率低色散光学玻璃,市场需求日益增大。 日本特开2001-348244、特开2007-269584、中国CN101386469A中均公开了此类高 折射低色散光学玻璃,其说明书实施例中折射率为1.86 W上的光学玻璃组分中均含有大 量的Ta2〇e,而TazOji于昂贵的稀±类氧化物。因此,为了抑制高折射率低色散光学玻璃原 料成本的增加,希望能够减少Ta2〇e含量。同时,摄像或投射等光学系统的光学元件对光学 玻璃透过率要求较高,如果高折射低色散光学玻璃形成的透镜透射光量不足,会影响光学 系统的透射光量大幅度下降或骤减,因此希望光学玻璃的透过率性能优异。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种折射率nd为1.86-1. 92、阿贝数Vd为 36-42的高折射低色散光学玻璃,该玻璃在降低玻璃组分中Ta2〇5#量的同时,所述玻璃具 有优异的透过率。 阳0化]本专利技术还要提供一种由上述光学玻璃形成的玻璃预制件和光学元件。 本专利技术解决技术问题所采用的技术方案是:光学玻璃,其重量百分比组成包括: B203:1-30% ;SiO2:0-20% ;其中,Si〇2《62〇3山曰2〇3:25-55% ;Gd2〇3:5-40% ;Y 203:0-25% ; Yb2〇3:〇-10% ;Ta2〇5:〇-l〇% ;佩2〇5:1-30% ;Ti〇2:〇-l〇% ;Zr〇2:〇. 5-20% ;Nb2〇5>Zr〇2; Nb2〇s/(Nb2〇5+Ti〇2+Zr〇2)范围在0. 4-0.8;W〇3:〇-10% ;化0 :0-15%;A1 203:0-10%;Ge〇2: 0-10% ;Bi2〇3:〇-l〇% ;不含有PbO和F;玻璃折射率为1.86-1. 92,阿贝数为36-42。其中,还含有訊2〇3:〇-1%和 / 或Sn〇2:〇-l%和 / 或Ce〇2:〇-l%。 其中,B203:5-25%和 / 或SiO2:0. 1-15%和 / 或La2〇3:3〇-52%和 / 或Gd2〇3:5-35% 和 / 或Y203: 1-20 % 和 / 或化 2〇5:〇-5 % 和 / 或佩 2〇5:2-25 % 和 / 或TiO2:0.1-5 % 和 / 或 Zr〇2:1-15 % 和 / 或W0 3:0-5 % 和 / 或化0 :0-10 % 和 / 或R2〇 :〇-5 % 和 / 或R0 :0-5 % 和 / 或Al2〇3:〇-5% 和 / 或GeO2:0-5% 和 / 或Bi2〇3:〇-5% 和 / 或訊203:0-0. 5 % 和 / 或SnO2: 0-0. 5%和 / 或Ce〇2:〇-〇. 5%。 其中,Si〇2/(Si〇2+B2〇3)范围为 0. 1-0. 45 ;和 / 或Y2(V(La2〇3+Gd2〇3巧2〇3)在 0. 01-0. 15 ;和 / 或佩2〇5/^(Nb2〇5+Ti〇2+Zr〇2)范围为 0. 45-0. 7 ;和 / 或(佩2〇5+化2〇5+2'〇2)/ (Si〇2+B2〇3)的范围小于 1 ;和 / 或狂nO+Y2〇3)/La2〇3的范围为 0. 05-0. 3。 其中,Si(V(Si〇2+B2〇3)范围为 0. 25-0. 4 ;和 / 或Y2〇3ALa2〇3+Gd2〇3+Y2〇3)在 0. 05-0. 12 ;和 / 或佩2〇s/(Nb2〇5+Ti〇2+Zr〇2)范围为 0. 48-0. 6 ;和 / 或(佩2〇5+化2〇5+2'〇2)/ (Si〇2+B2〇3)的范围为 0. 1-0. 9;和 / 或狂nO+Y2〇3)/La2〇3范围为 0. 08-0. 15。 柳川其中,(佩2〇5巧a2〇5+Zr〇2V(Si〇2+B2〇3)的范围为 0. 5-0. 8。 其中,玻璃折射率范围为1.87-1.91;玻璃的阿贝数的范围为37-41。 其中,玻璃折射率范围为1.88-1.90;玻璃的阿贝数的范围为38-40。 玻璃预制件,采用上述的光学玻璃制成。 光学元件,采用上述的光学玻璃制成。 本专利技术的有益效果是:通过降低玻璃组份中化2〇5含量,引入适量的La2〇3、Gd2〇3、 Y2O3及孔203等具有高折射率低色散作用的稀上类氧化物组分,并引入适量比例的Nb205或 Ti〇2中的一种或两种,并优化运些组分的配比,可得到具有优异的透过率的高折射率低色 散光学玻璃,W及由所述光学玻璃形成的玻璃预制件和光学元件。【具体实施方式】I、光学玻璃 下面对本专利技术的光学玻璃的组成详细地进行说明,各玻璃组分的含量、总含量只 要没有特别说明,则使用重量%进行表示,玻璃组分的含量与总含量之比W重量比表示。另 夕F,在W下的说明中,提到规定值W下或规定值W上时也包括该规定值。B203是玻璃网络形成组分,具有提高玻璃可烙性并降低玻璃态转变溫度的作用。为 了达到上述效果,本专利技术引入1 %W上或更多的B203,但当其引入量超过30%时,则玻璃稳 定性会下降,并且折射率下降,无法得到本专利技术的高折射率。因此,本专利技术的B203的含量为 1-30 %,B203含量的优选范围为5-25 %,更优选的范围为7-20 %。 Si〇2具有改善玻璃的热稳定性的作用,并可W增大玻璃烙融W及成型时的粘度。 但若其含量超过20%,则玻璃变得很难烙,且无法获得本专利技术所需要的折射率。因此,本发 明的Si〇2的含量为0-20%,SiO2含量的优选范围为0. 1-15%,更优选的范围为3-12 %。 为了改善玻璃烙融性、维持玻璃稳定性W及维持适于烙融玻璃的成形的粘性,本 专利技术引入的Si〇2含量应小于或等于B 2〇3含量,即SiO B 2〇3。 同时为了得到透过率高的玻璃,抑制玻璃的烙融溫度的上升,减少、抑制烙化到烙 融玻璃中的销离子等使着色恶化的物质的混入量,并有效调整本专利技术玻璃的阿贝数范围, 本专利技术将Si〇2/(Si〇2+B2〇3)范围优选在0. 5W下,更优选范围为0. 1-0. 45,进一步优选范围 为 0.25-0. 4。 1曰2〇3是获得本专利技术所需光学特性的必须组分。当La2〇3的含量小于25%时,难 W实现所需要的光学特性;但当其含量超过55%时,玻璃耐失透性与烙融性能均恶化。因 此,本专利技术的La2〇3的含量为25-55%,La2〇3含量的优选范围为30-52%,更优选的范围为 35-50%。 W24] 本专利技术中通过Gd2〇3与La2〇3共存,可W提高形成玻璃的稳定性,但当Gd2〇3含量 低于5%时,上述效果不明显;如果其含量超过40%时,则玻璃耐失透性降低,形成玻璃的 稳定性变差。因此,本专利技术的Gd2〇3的含量为5-40 %,优选范围为5-35 %,更优选范围为 10-30%。本专利技术高折射低色散作用的组分优选还引入Y203,可改善玻璃的烙融性、耐失透 性,同时还可降低玻璃析晶上限溫度,但若其含量超过25%,则玻璃的稳定性、耐失透性降 本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学玻璃,其特征在于,其重量百分比组成包括:B2O3:1‑30%;SiO2:0‑20%;其中,SiO2≤B2O3;La2O3:25‑55%;Gd2O3:5‑40%;Y2O3:0‑25%;Yb2O3:0‑10%;Ta2O5:0‑10%;Nb2O5:1‑30%;TiO2:0‑10%;ZrO2:0.5‑20%;Nb2O5≥ZrO2;Nb2O5/(Nb2O5+TiO2+ZrO2)范围在0.4‑0.8;WO3:0‑10%;ZnO:0‑15%;Al2O3:0‑10%;GeO2:0‑10%;Bi2O3:0‑10%;不含有PbO和F;玻璃折射率为1.86‑1.92,阿贝数为36‑42。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙伟
申请(专利权)人:成都光明光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:四川;51

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