本实用新型专利技术公开了一种离子注入机中质量分析器的入口部件,包括材料均为高纯度等静压石墨的第一平板和第二平板,第一平板与第二平板平行相对设置,且通过两个连接件固定连接起来,形成一截面为方形的飞行通道;第一平板和第二平板的内表面具有凸凹不平的花纹。本实用新型专利技术将直接接触离子束的入口部件设计成等静压石墨材料,可以有效解决金属入口部件不耐高温的问题;且杂质含量降低到5ppm以内,形成高纯度的等静压石墨材料,可以有效降低杂质含量对离子注入工艺参数的影响。将第一平板和第二平板的内表面设计成具有凸凹不平的花纹面,可以有效粘结非需要的离子束,提高入口部件收集非需要离子的能力。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体行业的离子注入设备,具体是涉及一种离子注入机中质量分析器的入口部件。
技术介绍
离子注入机主要由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成。离子源是离子注入机的主要部位,作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子,决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子,当外来电子的能量高于原子的电离电位时,通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外,还出现正电子和二次电子。正离子进入质量分析器选出需要的离子,再经过加速器获得较高能量,由四级透镜聚焦后进入靶室,进行离子注入。质量分析器的入口部件是离子飞行管道的入口,质荷比不满足掺杂条件的非需要的离子束在此收集,质荷满足掺杂条件的离子束通过该入口部件,但是,现有技术中,该入口部件为金属材料,存在耐高温问题,且金属材料存在杂质较多,容易造成金属污染等问题。此外,该入口部件的内表面通常为光滑表面,无法有效的收集非需要的离子束。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本技术提出一种离子注入机中质量分析器的入口部件,能够有效解决耐高温问题,减少金属污染,且可以有效粘结非需要的离子束。本技术的技术方案是这样实现的:—种离子注入机中质量分析器的入口部件,包括材料均为高纯度等静压石墨的第一平板和第二平板,所述第一平板与所述第二平板平行相对设置,且通过两个连接件固定连接起来,形成一截面为方形的飞行通道;所述第一平板和所述第二平板的内表面具有凸凹不平的花纹。作为本技术的进一步改进,两个所述连接件的材料均为等静压石墨。作为本技术的进一步改进,所述等静压石墨的纯度高于95ppm。本技术的有益效果是:本技术提供一种离子注入机中质量分析器的入口部件,将直接接触离子束的入口部件设计成等静压石墨材料,由于等静压石墨具有良好的耐高温特性,可以有效解决金属入口部件不耐高温的问题;且利用纯化技术,最高可将等静压石墨的杂质含量降低到5ppm以内,形成高纯度的等静压石墨材料,可以有效降低杂质含量对离子注入工艺参数的影响。尤其是将第一平板和第二平板的内表面设计成具有凸凹不平的花纹面,可以有效粘结非需要的离子束,提高入口部件收集非需要离子的能力。【附图说明】图1为本技术一视角结构示意图;图2为本技术另一视角结构示意图。结合附图,作以下说明:I——第一平板2——第二平板3——连接件 4——飞行通道5——花纹【具体实施方式】为使本技术能够更加明显易懂,下面结合附图对本专利技术的【具体实施方式】做详细的说明。如图1和图2所示,一种离子注入机中质量分析器的入口部件,包括材料均为高纯度等静压石墨的第一平板I和第二平板2,所述第一平板与所述第二平板平行相对设置,且通过两个连接件3固定连接起来,形成一截面为方形的飞行通道4 ;所述第一平板和所述第二平板的内表面具有凸凹不平的花纹5。这样,本技术将直接接触离子束的入口部件设计成等静压石墨材料,由于等静压石墨具有良好的耐高温特性,可以有效解决金属入口部件不耐高温的问题;且利用纯化技术,最高可将等静压石墨的杂质含量降低到5ppm以内,形成高纯度的等静压石墨材料,可以有效降低杂质含量对离子注入工艺参数的影响。尤其是将第一平板和第二平板的内表面设计成具有凸凹不平的花纹面,可以有效粘结非需要的离子束,提高入口部件收集非需要离子的能力。优选的,两个所述连接件的材料均为等静压石墨。优选的,所述等静压石墨的纯度高于95ppm。本技术的工作原理为:在一定的磁场强度下,通过质量分析器(磁分析器)可改变入口部件内不同荷质比的离子偏转路径,从而将非需要的离子束筛选出来,并收集于入口部件的花纹面上。以上实施例是参照附图,对本技术的优选实施例进行详细说明。本领域的技术人员通过对上述实施例进行各种形式上的修改或变更,但不背离本技术的实质的情况下,都落在本技术的保护范围之内。【主权项】1.一种离子注入机中质量分析器的入口部件,其特征在于:包括材料均为等静压石墨的第一平板(I)和第二平板(2),所述第一平板与所述第二平板平行相对设置,且通过两个连接件(3)固定连接起来,形成一截面为方形的飞行通道(4);所述第一平板和所述第二平板的内表面具有凸凹不平的花纹(5)。2.根据权利要求1所述的离子注入机中质量分析器的入口部件,其特征在于:两个所述连接件的材料均为等静压石墨。3.根据权利要求1所述的离子注入机中质量分析器的入口部件,其特征在于:所述等静压石墨的纯度高于95ppm。【专利摘要】本技术公开了一种离子注入机中质量分析器的入口部件,包括材料均为高纯度等静压石墨的第一平板和第二平板,第一平板与第二平板平行相对设置,且通过两个连接件固定连接起来,形成一截面为方形的飞行通道;第一平板和第二平板的内表面具有凸凹不平的花纹。本技术将直接接触离子束的入口部件设计成等静压石墨材料,可以有效解决金属入口部件不耐高温的问题;且杂质含量降低到5ppm以内,形成高纯度的等静压石墨材料,可以有效降低杂质含量对离子注入工艺参数的影响。将第一平板和第二平板的内表面设计成具有凸凹不平的花纹面,可以有效粘结非需要的离子束,提高入口部件收集非需要离子的能力。【IPC分类】H01J37/317【公开号】CN204905209【申请号】CN201520550305【专利技术人】芮敏之 【申请人】美尔森先进石墨(昆山)有限公司【公开日】2015年12月23日【申请日】2015年7月27日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种离子注入机中质量分析器的入口部件,其特征在于:包括材料均为等静压石墨的第一平板(1)和第二平板(2),所述第一平板与所述第二平板平行相对设置,且通过两个连接件(3)固定连接起来,形成一截面为方形的飞行通道(4);所述第一平板和所述第二平板的内表面具有凸凹不平的花纹(5)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:芮敏之,
申请(专利权)人:美尔森先进石墨昆山有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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