用于形成导电图案的组合物和方法以及其上具有导电图案的树脂结构技术

技术编号:12568456 阅读:113 留言:0更新日期:2015-12-23 11:24
本发明专利技术涉及一种用于形成导电图案的组合物,使用该组合物形成导电图案的方法以及具有该导电图案的树脂结构,所述组合物能够通过非常简单的工艺在各种聚合物树脂产品或树脂层上形成精美导电图案。所述用于形成导电图案的组合物包含聚合物树脂,以及包含第一金属和第二金属的非导电金属化合物,其中,所述非导电金属化合物具有三维结构,该三维结构包括多个包含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有互相二维连接的共边八面体的第一层,和包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之间的第二层;以及通过电磁照射由非导电金属化合物形成包含第一金属或第二金属或其离子的金属核。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及一种用于形成导电图案的组合物、使用该组合物形成导电图案的方法 W及具有该导电图案的树脂结构,所述组合物能够通过非常简单的工艺在各种聚合物树脂 产品或树脂层上形成精美导电图案。
技术介绍
随着微电子技术近来的发展,对在聚合物树脂基底(或产品)例如各种树脂产品 或树脂层的表面上具有精美导电图案形成的结构的需求增加。在聚合物树脂基底的表面上 的导电图案和结构能够用于形成各种物品,例如集成至手机壳上的天线、各种传感器、MEMS 结构或RFID标签。 同样地,随着对在聚合物树脂基底的表面上形成导电图案技术的兴趣提高,已经 提出它的几项技术。然而,还未提出针对运些技术的更有效方法。 例如,根据现有技术,可W考虑通过在聚合物树脂基底的表面上形成金属层然后 进行光刻而形成导电图案的方法,或者通过印制导电胶形成导电图案的方法。然而,当根据 该技术形成导电图案时,劣势在于所需的工艺或设备变得太复杂,或者难W形成优异的精 美导电图案。 因此,需要不断发展能够通过更简单的工艺在聚合物树脂基底的表面上更有效地 形成精美导电图案的技术。
技术实现思路
[000引技术问题 本专利技术提供一种用于形成导电图案的组合物W及使用该组合物形成导电图案的 方法,所述组合物能够通过非常简单的工艺在各种聚合物树脂产品或树脂层上形成精美导 电图案。 此外,本专利技术提供一种具有所述导电图案的树脂结构,该导电图案由所述用于形 成导电图案的组合物等形成。[000引技术方案 本专利技术提供一种通过电磁照射用于形成导电图案的组合物,该组合物包含聚合物 树脂,W及含有第一金属和第二金属的非导电金属化合物, 其中,所述非导电金属化合物具有=维结构,该=维结构包括多个第一层,该第一 层包含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有二维相互连接的共边八面体,W及 第二层,该第二层包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之 间;并且 其中,通过电磁照射,由非导电金属化合物形成包含第一金属或第二金属或其离 子的金属核。 用于形成导电图案的组合物对于波长为约1000 nm至1200nm的激光电磁波显示约 25%W下,或者约10%至25%的反射率。 此外,在用于形成导电组合物的组合物中,非导电金属化合物的第二层中含有的 金属可W与二维结构互相连接,例如,通过与相邻第一层之间的八面体的顶点互相连接。所 述非导电金属化合物可W定义为具有R3m或PGs/mmc空间群的化合物。 更具体地,所述非导电金属化合物为包含第一金属和第二金属和X(氧、氮或硫) 的化合物,并且所述非导电金属化合物可W具有=维结构,该=维结构包括多个第一层,在 该第一层中,第一金属和第二金属中的至少一种金属和原子X形成W二维连接结构排列的 共边八面体,W及 第二层,该第二层包含与第一层的金属不同的金属,其中,第二层中的金属与相邻 第一层间的八面体的二维结构互相连接。 非导电金属化合物的具体实例可W为选自化化化、Ni化化、Ag化化、CuMo化、NiMo化、AgMo〇2、NiMn〇2、AgMn〇2、Ni化〇2、A评e〇2、CuW〇2、AgW〇2、NiW〇2、AgSn〇2、NiSn〇2和CuSnO2中的 一种或多种化合物,因此,通过电磁照射较好地形成金属核W便形成更优异的导电图案。 [001引同时,当用波长为约1000皿至1200皿的激光电磁波W约5至20W的平均功率照 射上述用于形成导电图案的组合物时,形成金属核。通过控制激光电磁照射的条件,可W在 组合物的聚合物树脂上更有效地形成金属核,因此,能够形成更优异的导电图案。 在用于形成导电图案的组合物中,所述聚合物树脂可W包括热固性树脂或热塑性 树脂,其更具体的实例可W为选自聚对苯二甲酸亚烷基醋树脂例如ABS树脂、聚对苯二甲 酸下二醇醋树脂或聚对苯二甲酸乙二醇醋树脂等、聚碳酸醋树脂、聚丙締树脂和聚邻苯二 甲酯胺树脂中的一种或多种。 此外,在用于形成导电图案的组合物中,相对于全部组合物,所述非导电金属化合 物的含量可W为约1重量%至10重量%,余量为聚合物树脂。 除了上述的聚合物树脂和预先确定的非导电金属化合物W外,用于形成导电图案 的组合物还可W包含选自热稳定剂、UV稳定剂、阻燃剂、润滑剂、抗氧化剂、无机填料、颜料 添加剂、冲击改性剂和功能改性剂中的一种或多种添加剂。 同时,本专利技术提供一种使用上述用于形成导电图案的组合物通过直接电磁照射而 在聚合物树脂基底例如树脂产品或树脂层上形成导电图案的方法。形成导电图案的方法可 W包括W下步骤:将用于形成导电图案的组合物模压成树脂产品或将其涂敷至另一产品W 形成树脂层;向树脂产品或树脂层的预定区域照射电磁波W由非导电金属化合物产生包含 第一金属或第二金属或其离子的金属核;W及对产生金属核的区域进行化学还原或电锻W 形成导电金属层。 在用于形成导电图案的方法的产生金属核的步骤中,可WW约5至20W的平均功 率照射波长为约1000 nm至1200nm的激光电磁波,因此,可W更有效地形成金属核并且可W 形成更优异的导电图案。 此外,当进行通过电磁照射产生金属核的步骤时,非导电金属化合物的一部分暴 露于树脂产品或树脂层的预定区域的表面上,并且由此产生金属核,从而形成被活化W具 有更高粘附性的表面(下文中,"粘附-活化表面")。接下来,通过金属核中包含的第一金 属或第二金属离子的化学还原或者通过对其进行无电解锻将导电金属离子进行化学还原, 因此可W在粘附-活化表面上形成导电金属层。在无电解锻中,当导电金属离子被化学还 原时,金属核作为种子与在电锻溶液中的导电金属离子形成强健。因此,可WW更简单的方 式选择性地形成导电金属层。 在还原或电锻步骤中,产生金属核的树脂产品或树脂层的预定区域可W用包含 还原剂的酸溶液或碱溶液处理,并且运种溶液可W包含选自甲醒、次憐酸盐、二甲胺棚烧 值MAB)、二乙胺棚烧值EAB)和阱中的一种或多种作为还原剂。在另一实施方案中,在还原 步骤中所述区域可W用包含还原剂和导电金属离子的无电解锻溶液处理。 同时,本专利技术提供一种具有上述导电图案的树脂结构,该导电图案使用上述用于 形成导电图案的组合物W及上述用于形成导电图案的方法得到。运种树脂结构可W包括聚 合物树脂基底;包含第一金属和第二金属,并且分散在聚合物树脂基底中的非导电金属化 合物, 其中,所述非导电金属化合物具有=维结构,该=维结构包括多个第一层,该第一 层包含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有二维相互连接的共边八面体,W及 第二层,该第二层包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之 间; 具有金属核的粘附-活化表面,该金属核包含暴露于聚合物树脂基底的预定区域 的表面上的第一金属或第二金属或其离子;W及 在所述粘附-活化表面上形成的导电金属层。 在树脂结构中,形成粘附-活化表面和导电金属层的预定区域与照射电磁波的聚 合物树脂基底的区域对应。[003引有益效果 根据本专利技术,可W提供一种用于形成导电图案的组合物,一种使用该组合物形成 导电图案的方法W及一种具有该导电图案的树脂结构,所述组合物能够通过非常简单的激 光电磁照射工艺在聚合物树脂基底例如多种聚合物树脂产品或树脂层上更有效地形成精 美导电图案。 用于形本文档来自技高网...
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【技术保护点】
一种通过电磁照射用于形成导电图案的组合物,包含聚合物树脂,以及包含第一金属和第二金属的非导电金属化合物,其中,所述非导电金属化合物具有三维结构,该三维结构包括多个第一层,该第一层包含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有二维互相连接的共边八面体,以及第二层,该第二层包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之间;并且其中,通过电磁照射,由所述非导电金属化合物形成包含第一金属或第二金属或其离子的金属核。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:朴致成朴哲凞田信姬郑相允郑汉娜
申请(专利权)人:LG化学株式会社
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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