【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种排风操作柜，适用于电力半导体芯片生产中对硅片进行腐蚀和清洗。
技术介绍
在电力半导体芯片生产过程中，许多工艺都要求对硅片进行腐蚀和清洗，采用的腐蚀液或清洗液常常是多种酸的混合液，具有很强的腐蚀性和挥发性，而且还常常用到许多化学试剂，其中有些具有毒性和强烈的刺激性气味，易对工作场所造成不良后果，影响操作人员的工作环境。工作时，大部分操作是在顶部和侧面分别设有排风出口和操作窗口的排风操作柜内进行，大部分的腐蚀性或刺激性气体通过排风出口由外部相接的排风风机、吸收塔吸收处理后排入大气。但是，现有技术的排风操作柜设计时为了操作方便，其操作窗口一般都比较大，工作时容易发生部分腐蚀性或刺激性气体从操作柜的操作窗口中漫延和扩散到操作场所，严重影响操作环境及操作人员的身体健康。另外，由于操作窗口开口较大，需要配备更大的排风风机，电能消耗巨大，需要改进完善。
技术实现思路
本技术为解决现有排风操作柜内的有害气体易从操作窗口漫延和扩散到操作场所的问题，提供一种改善的排风操作柜，其应用时可防止操作柜中的有害气体往外散发，保护生产环境和操作工健康。本技术所述的一种排风操作柜，包括顶部和侧面分别设有排风管和操作窗口的操作柜本体，其特征是:所述操作窗口内侧上方横向设有送风管，该送风管内部下侧设有可向下送风形成风帘的出风口，送风管外端从操作柜本体一侧伸出。这样，工作时所述送风管外端接上压缩空气，内部下侧的出风口就向下送风形成风帘，从而可有效阻挡操作柜内的有害气体从操作窗口中往外散发。本技术的有益技术效果是:可以防止操作柜内的有害气体从操作窗口中往外散发，保护生产环...
【技术保护点】
一种排风操作柜，包括顶部和侧面分别设有排风管和操作窗口的操作柜本体，其特征是：所述操作窗口内侧上方横向设有送风管，该送风管内部下侧设有可向下送风形成风帘的出风口，送风管外端从操作柜本体一侧伸出。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐伟，项卫光，李有康，李晓明，
申请(专利权)人：浙江正邦电力电子有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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