一种电镀系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种电镀系统，其包括至少一过滤泵，所述电镀系统包括一下液位挡板，所述下液位挡板将所述槽体主缸空间界定为一第一液腔与一第二液腔；所述槽体主缸内设有至少一过滤入水口及至少一过滤出水口，该过滤入水口位于第二液腔底部，该过滤出水口位于第一液腔底部，所述过滤泵与所述过滤入水管及过滤出水口连接，所述下液位挡板高度低于电镀液面高度。本实用新型专利技术提供的电镀系统解决了过滤入水与过滤出水运作之间相互干扰，无法有效去除电镀液中结晶物、漂浮物等杂质的问题，并保证循环过滤操作中，电镀液的均匀性和稳定性。其还可延长电镀液(如沙丁镍)有效成分的时效性及其利用率，降低生产成本，提高电镀产品质量。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本技术涉及电镀领域，尤其是涉及一种电镀系统。【
技术介绍
】电镀利用电解原理在金属表面镀上一薄层其它金属或合金的过程，从而可以使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜，而起到防止腐蚀、提高电镀工件耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用的工艺。在电镀过程中，盛有电镀液的镀槽中，待镀件作为阴极，用镀覆金属制成阳极，两极分别与直流电流的负极和正极连接，电镀液由含有镀覆金属的化合物、导电的盐类、缓冲剂、PH调节剂和添加剂等的水溶液组成。为了保证镀层的质量，除了严格控制温度、电流密度、pH等工艺参数外，电镀液搅拌及电镀液中杂质等因素对镀件质量也具有很大的影响，为了防止气泡在镀层表面滞留及电镀时的浓差极化，现在技术中采用机械或空气搅拌方法对电镀液进行搅拌，上述的搅拌方式一方面使电镀液扰动较大，一方面由于搅拌方式的限制，无法实现对电镀液进行循环或过滤。此外，现有对电镀液的过滤除杂主要采用以过滤栗对电镀液进行抽吸，一般在盛有电镀液的缸体内设置抽水口和注水口。现有的过滤的设置仅可用长度较短的电镀工段中。此外，由于现有过滤装置中没有在所述抽水口与注水口之间设置有效的防干扰组件，因此，过滤过程中过滤栗对电镀液的抽水与放水过程会互相干扰及相互影响，从使最终的过滤效果较差。现有技术所公开的循环过滤栗应用于所述电镀生产线中的技术方案，无法满足如沙丁镍液等需要相对静止状态且需要去除漂浮于电镀液上表面的油性杂质的电镀工艺生产线中。【
技术实现思路
】为克服现有电镀液槽过滤机构中存在的对电镀液扰动较大、无法有效去除杂质的缺点，本技术提供一种结构简单、可减少对电镀液扰动、有效去除杂质的电镀系统。本专利技术为解决技术问题提供了一种电镀系统，其包括一盛有电镀液的槽体主缸及与其连接设置的过滤栗，所述电镀系统包括一下液位挡板，所述下液位挡板将所述槽体主缸空间界定为一第一液腔与一第二液腔；所述槽体主缸内设有至少一过滤入水口及至少一过滤出水口，该过滤入水口位于第二液腔底部，该过滤出水口位于第一液腔底部，所述下液位挡板高度低于电镀液面高度。优选地，所述电镀系统还包括一上液位挡板，该上液位挡板位于所述第一液腔中，所述上液位挡板的最低处低于所述槽体主缸内电镀液的液位，所述上液位挡板与所述下液位挡板之间设有一定间距。优选地，所述上液位挡板与下液位挡板之间的水平距离为2_7cm ;所述上液位挡板的最低处与电镀液的液位的高度差为l_5cm ;所述下液位挡板的最高处与电镀液的液位的高度差为2-8cm。优选地，所述电镀系统进一步包括与所述过滤入水口连接设置的过滤入水管，所述过滤入水管上设有若干个过滤入水孔。优选地，所述过滤入水孔的孔径大小和分布密度均与其和所述过滤栗的距离成正比。优选地，多个所述过滤入水孔等间距分布，所述过滤入水孔的孔径大小与其和所述过滤栗的距离成正比；或多个所述过滤入水孔的孔径大小相等，所述过滤入水孔的分布密度与其和所述过滤栗的距离成正比。优选地，所述电镀系统进一步包括一循环机构，所述循环机构包括至少一循环栗，及，与该循环栗分别对应连接且贯通设置在所述槽体主缸内的循环出水管与循环入水管，所述循环出水管与所述循环入水管设置在所述第二液腔内，所述第二液腔上部为产品电镀区。优选地，所述循环出水管与循环入水管上分别设有若干个循环出水孔与若干个循环入水孔。优选地，所述循环出水管高于所述循环入水管，其中，所述循环出水管靠近所述产品电镀区，所述循环入水管远离所述产品电镀区。优选地，多个所述循环出水孔或循环入水孔等间距分布，且所述循环出水孔或循环入水孔孔径大小与其和所述循环栗之间的距离成正比；或多个所述循环出水孔或循环入水孔孔径大小相等，所述循环出水孔或循环入水孔的分布密度与其和所述循环栗的距离成正比。相对于现有技术，第一，本技术所提供的电镀系统包括一上液位挡板与一下液位，所述下液位挡板将所述槽体主缸内的空间界定为第一液腔及第二液腔，所述产品电镀区设置在所述第二液腔的上部，且所述循环入水管、所述循环出水管均设置在第二液腔内，使电镀液循环过程更为流畅，从而可以提升产品电镀区电镀液的均匀性和稳定性。其中，所述过滤出水口与所述过滤入水管分设于所述第一液腔与所述第二液腔将，从而还可进一步避免过滤机构中入水运作与出水运作之间相互干扰。当电镀液经过所述上液位挡板与所述下液位挡板之间的间隙时由于上液位挡板的阻挡作用，悬浮在电镀液上层的漂浮物如泡沫、油性物质等，可以被所述上液位挡板阻隔，从而有效避免电镀液的漂浮物(如泡沫、油性物质等)进入所述过滤栗中，对过滤栗的过滤结构造成损耗。提高所述过滤机构过滤的效率。第二，本技术所提供的电镀系统采用在同一过滤入水管、循环出水管及循环入水管上分别设置具有可变孔径及分布间距的过滤入水孔、循环出水孔及循环入水孔，其可以有效地解决由于距离所述过滤栗及循环栗的距离远近而带来的电镀液流速不均一的问题，从而可从最大程度上保证在所述槽体主缸内电镀液在过滤循环过程中仍能保持其均匀性和稳定性。进一步地，在本技术中，相邻两个过滤入水孔、循环出水孔及循环入水孔均可为等间距分布且其孔径变化，或还可为变间距分布且其孔径相等设置，其孔径与其分布间距可根据循环栗设置的位置而决定，具有灵活度，可适用于不同的电镀装置中。第三，设置在所述槽体主缸的底面的所述过滤出水口可为多个均匀分布且与所述下液位挡板平行设置，所述过滤出水口的直径大小与分布密度与其和所述过滤栗的距离远近也成比例，从而有利于充分过滤去除所述槽体主缸底面的电镀液结晶物、絮状物或沉淀物，并保持所述槽体主缸内电镀液的均衡、平稳地进入所述过滤机构中进行过滤处理，除了可以使所述槽体主缸内电镀液浓度均一外，还可以保持电镀液的相对静止，从而减少电镀液的过渡扰动，避免电镀液由于过滤处理而出现分解或沉淀析出的情况出现。第四，所述循环出水管与所述循环入水管两者之间的高度差为30-60cm。所述循环出水管较所述循环入水管更接近于所述槽体主缸的产品电镀区，因此，经过反应后浓度较低的电镀液可以快速地通过所述循环出水管进入循环机构中，不会滞留于所述槽体主缸中。而所述循环入水管设置在所述槽体主缸的下部，则由所述循环入水孔进入所述槽体主缸内的电镀液平稳、均匀。第五，本技术中所提供的电镀系统中还包括一循环机构，所述循环机构与过滤机构的运作相互之间不影响。所述循环机构与过滤机构可共同运作，从而可以提高电镀液循环及其过滤效果，且不会影响电镀反应的正常进行。此外，本技术中所提供的电镀系统尤其适用于沙丁镍电镀液中，特别适用于连续挂镀沙丁镍的工艺生产线中。由于沙丁镍电镀液需要保证电镀液的相对静止，采用本技术中所述的电镀系统及电镀装置，可以有效地在保证沙丁镍电镀液平稳、均匀循环过滤的过程中，也能保证沙丁镍电镀液的相对静止状态，从而减少沙丁镍电镀液由于过大的扰动而造成其有效成分的分解。采用本技术中所提供的电镀当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电镀系统，其包括一盛有电镀液的槽体主缸及与其连接设置的过滤泵，其特征在于：所述电镀系统包括一下液位挡板，所述下液位挡板将所述槽体主缸空间界定为一第一液腔与一第二液腔；所述槽体主缸内设有至少一过滤入水口及至少一过滤出水口，该过滤入水口位于第二液腔底部，该过滤出水口位于第一液腔底部，所述下液位挡板高度低于电镀液面高度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢彪，
申请(专利权)人：谢彪，
类型：新型
国别省市：广东;44