本实用新型专利技术涉及一种废水处理装置，其包括依次顺序连接的第一沉淀箱、第一溢流堰、第二沉淀箱、第二溢流堰、第三沉淀箱、第三溢流堰、第四沉淀箱及收集箱。上述废水处理装置通过设置第一沉淀箱、第二沉淀箱、第三沉淀箱、第四沉淀箱及收集箱，可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水以及提高铜粉的回收效率。此外，上述废水处理装置的结构简单紧凑，适合广泛推广使用。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及废水处理
，特别是涉及一种废水处理装置。
技术介绍
目前，在检测电路板时，一般都需要预先制备微切片，如此，可以通过微切片来检测电路板的钻孔质量，可以通过微切片来检测多层电路板的压合结构等等。微切片在制备过程中一般需要预先经过研磨设备的研磨处理，之后再经过抛光设备的抛光处理，从而可以制备得到品质较优的微切片。然而，在利用研磨设备研磨微切片时，研磨微切片后产生的废水一般直接通过胶管通入至下水主管道内，其中，由于研磨微切片后产生的废水中含有大量的铜粉和树脂胶，这些铜粉和树脂胶在自身的重力下极易沉淀在下水管道内，从而导致下水管道经常出现管道堵塞的问题，不仅疏通难度较大，而且价值较大的铜粉无法回收。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种结构简单紧凑、可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水、以及铜粉回收效率较高的废水处理装置。一种废水处理装置，包括:第一沉淀箱，第一溢流堰，所述第一溢流堰的第一侧面与所述第一沉淀箱贴合，所述第一溢流堰设置有第一溢流坡，所述第一溢流坡的第一端与所述第一沉淀箱的开口连接；第二沉淀箱，所述第二沉淀箱与所述第一溢流堰的第二侧面贴合，所述第二沉淀箱的开口与所述第一溢流坡的第二端连接；第二溢流堰，所述第二溢流堰的第一侧面与所述第二沉淀箱贴合，所述第二溢流堰设置有第二溢流坡，所述第二溢流坡的第一端与所述第二沉淀箱的开口连接；第三沉淀箱，所述第三沉淀箱与所述第二溢流堰的第二侧面贴合，所述第三沉淀箱的开口与所述第二溢流坡的第二端连接；第三溢流堰，所述第三溢流堰的第一侧面与所述第三沉淀箱贴合，所述第三溢流堰设置有第三溢流坡，所述第三溢流坡的第一端与所述第三沉淀箱的开口连接；第四沉淀箱，所述第四沉淀箱与所述第三溢流堰的第二侧面贴合，所述第四沉淀箱的开口与所述第三溢流坡的第二端连接；及收集箱，所述收集箱分别与所述第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部连通。在其中一个实施例中，所述收集箱低于所述第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部。在其中一个实施例中，所述第一沉淀箱设置有进水管。在其中一个实施例中，所述第四沉淀箱设置有出水管。在其中一个实施例中，还包括收集管，所述收集管分别与所述收集箱、第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部连通。在其中一个实施例中，还包括水栗，所述水栗设置于所述收集管。在其中一个实施例中，还包括阀门，所述阀门设置于所述收集管。在其中一个实施例中，所述第一溢流坡的坡度为30度?60度。在其中一个实施例中，所述第二溢流坡的坡度为30度?60度。在其中一个实施例中，所述第三溢流坡的坡度为30度?60度。上述废水处理装置通过设置第一沉淀箱、第二沉淀箱、第三沉淀箱、第四沉淀箱及收集箱，可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水以及提高铜粉的回收效率。此外，上述废水处理装置的结构简单紧凑，适合广泛推广使用。【附图说明】图1为一实施方式的废水处理装置的结构示意图。【具体实施方式】为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施方式。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本技术的公开内容理解的更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1，其为一实施方式的废水处理装置10的结构示意图。废水处理装置10包括:第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600、第四沉淀箱700及收集箱800。第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600及第四沉淀箱700依次顺序连接，研磨微切片后产生的废水依次流过第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600、第四沉淀箱700。收集箱800分别与第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600及第四沉淀箱700连通。请参阅图1，第一沉淀箱100通入研磨微切片后产生的废水，也就是说，外部的研磨设备在研磨微切片后发生的废水首先流入第一沉淀箱100内，研磨微切片后产生的废水内含有的铜粉和树脂胶由于自身的重力发生沉淀，如此，研磨微切片后产生的废水会有一部分的铜粉和树脂胶沉淀在第一沉淀箱100的底部。为了更好地通入研磨微切片后产生的废水，例如，所述第一沉淀箱设置有进水管；所述进水管与外部的研磨设备连通，如此，可以更好地通入研磨微切片后产生的废水。请参阅图1，第一溢流堰200的第一侧面与第一沉淀箱100贴合。第一溢流堰200设置有第一溢流坡210，第一溢流坡210的第一端与第一沉淀箱100的开口连接，如此，第一沉淀箱100顶部的废水可以通过第一溢流堰200的第一溢流坡210流出。如图1所示，第一沉淀箱100的开口，即其顶部，连通第一溢流坡210的第一端。请参阅图1，第二沉淀箱300与第一溢流堰200的第二侧面贴合，第二沉淀箱300的开口与第一溢流坡210的第二端连接。由第一沉淀箱100顶部经由第一溢流坡210流入第二沉淀箱300内的研磨微切片后产生的废水，其中，研磨微切片后产生的废水内含有的铜粉和树脂胶由于自身的重力沉淀在第二沉淀箱300的底部，如此，可以在第一沉淀箱100的沉淀效果上，进一步对研磨微切片后产生的废水进行沉淀操作，从而可以更好地净化研磨微切片后产生的废水，且收集其内含有的铜粉。请参阅图1，第二溢流堰400的第一侧面与第二沉淀箱300贴合。第二溢流堰400设置有第二溢流坡410，第二溢流坡410的第一端与第二沉淀箱300的开口连接，如此，第二沉淀箱300顶部的废水可以通过第二溢流堰400的第二溢流坡410流出。如图1所示，第二沉淀箱300的开口，即其顶部，分别连通第一溢流坡210的第二端、以及第二溢流坡410的第一端，这样，废水从第一沉淀箱100经由第一溢流坡210流入第二沉淀箱300内，当第二沉淀箱300的废水满时，从第二溢流坡410流入第三沉淀箱500内，下面以此类推，不再赘述。请参阅图1，第三沉淀箱500与第二溢流堰400的第二侧面贴合，第三沉淀箱500的开口与第二溢流坡410的第二端连接。由第二沉淀箱300顶部经由第二溢流坡410流入第当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种废水处理装置，其特征在于，包括：第一沉淀箱，第一溢流堰，所述第一溢流堰的第一侧面与所述第一沉淀箱贴合，所述第一溢流堰设置有第一溢流坡，所述第一溢流坡的第一端与所述第一沉淀箱的开口连接；第二沉淀箱，所述第二沉淀箱与所述第一溢流堰的第二侧面贴合，所述第二沉淀箱的开口与所述第一溢流坡的第二端连接；第二溢流堰，所述第二溢流堰的第一侧面与所述第二沉淀箱贴合，所述第二溢流堰设置有第二溢流坡，所述第二溢流坡的第一端与所述第二沉淀箱的开口连接；第三沉淀箱，所述第三沉淀箱与所述第二溢流堰的第二侧面贴合，所述第三沉淀箱的开口与所述第二溢流坡的第二端连接；第三溢流堰，所述第三溢流堰的第一侧面与所述第三沉淀箱贴合，所述第三溢流堰设置有第三溢流坡，所述第三溢流坡的第一端与所述第三沉淀箱的开口连接；第四沉淀箱，所述第四沉淀箱与所述第三溢流堰的第二侧面贴合，所述第四沉淀箱的开口与所述第三溢流坡的第二端连接；及收集箱，所述收集箱分别与所述第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王波，唐道福，李小涌，黄双双，曹宝龙，
申请(专利权)人：惠州市特创电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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