浮法平板玻璃制造方法技术

本发明专利技术提供一种利用浮法制造平板玻璃时，通过在线处理从玻璃表面除去锡缺陷而得到平滑的表面的浮法平板玻璃制造方法。本发明专利技术涉及一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以各自满足规定条件的方式喷雾到玻璃带表面上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】浮法平板玻璃制造方法
本专利技术涉及浮法平板玻璃制造方法。
技术介绍
作为平板玻璃的主要制造方法的浮法是如下方法：在被称为浮抛窑的充满熔融金属锡的熔融金属浴的浴面上，连续地流过熔融玻璃从而形成玻璃带，使该玻璃带沿着熔融金属浴面漂浮的同时前进而成板；该方法在大量生产平坦性高的平板玻璃方面极其优良。但是，在该浮法中，有时会在玻璃带的上表面侧产生由熔融金属锡导致的上部斑点(topspeck)。所谓上部斑点是指从熔融金属浴蒸发的锡成分在作为浴上部的顶部或壁部凝结，凝结物或该凝结物被还原为金属状态后的物质以小粒的形式落下到玻璃带上，在玻璃带的上表面形成数μm～数10μm大小的锡缺陷而附着的物质。随着平板玻璃的用途从以往的建材领域向电子材料领域扩大，利用浮法制造的平板玻璃表面的上部斑点成为问题。例如，在作为液晶显示器、等离子显示器面板等平板显示器(FPD)的玻璃基板使用的平板玻璃的情况下，在所制造的平板玻璃中发现看得见的尺寸的锡缺陷时，平板玻璃的包含锡缺陷的部分作为缺陷品被处理。近年来，由于FPD用的玻璃基板的高精细化，关于存在于平板玻璃表面的锡缺陷的大小的标准变得更严格。另外，随着FPD的大型化，FPD用的玻璃基板也在推进大型化，在产生锡缺陷的情况下，有可能作为缺陷品被处理的板平玻璃的面积变得更大、从而成为生产率降低的主要原因。作为从利用浮法制造的平板玻璃的表面除去上部斑点等异物的方法，提出了将玻璃基板浸渍在包含氢氟酸水溶液或含有二价铬离子的酸性水溶液的处理液中，从而将异物溶解并除去的方法，例如，在专利文献1和专利文献2中公开了上述方法。另外，在专利文献3中公开了一种浮法平板玻璃表面的异物除去方法，其特征在于，在存在于浮法平板玻璃的表面的微小异物附近或者在与该异物接触的状态下，在高温下使卤化铵升华，由此使异物分解、挥发而将其除去。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平9-295832号公报专利文献2：日本特开平9-295833号公报专利文献3：日本特开平10-085684号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，专利文献1、2的方法为离线处理，并且为了除去锡缺陷直到能够满足平板显示器用玻璃基板中所要求的标准的程度，需要延长在处理液中的浸渍时间。另一方面，在专利文献3的方法中，由于需要在存在于浮法平板玻璃的表面的微小异物附近或者在与该异物接触的状态下，在高温下使卤化铵升华，所以难以在浮抛窑内实施，因此需要在浮抛窑外设置用于实施该方法的设备。并且，卤化铵具有腐蚀金属的作用，因此用于处理的设备的腐蚀也成为问题。此外，在上述各种方法中，已知由于异物落下至玻璃表面，所以异物除去后的基板表面上产生微小的凹部，发现这可能会对近年来的高品质显示器用玻璃基板产生影响。本专利技术的目的在于，为了解决上述问题，提供一种浮法平板玻璃制造方法，在制造浮法平板玻璃时，利用在线处理从玻璃表面除去锡缺陷，从而得到平滑的表面。用于解决问题的手段本专利技术为了达到上述目的，提供一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以分别满足下述式(1)、(2)所示的条件的方式喷雾到玻璃带表面上，(6.92u1+15.8)c1t1·exp(-4303/T1)>r(1)式(1)中，c1为含氯气体的氯浓度[体积％]，u1为含氯气体的流速(线速度)[cm/s]，t1为含氯气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]；(6.92u2+15.8)c2t2·exp(-4303/T2)>r(2)式(2)中，c2为含氟气体的氟浓度[体积％]，u2为含氟气体的流速(线速度)[cm/s]，t2为含氟气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，在将制造的玻璃的玻璃化转变温度设为Tg时，在浮抛窑内的Tg+30℃～Tg+300℃的还原气氛中，将所述含氯气体和所述含氟气体喷雾到所述玻璃带表面上。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氯气体为氯化氢(HCl)。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氟气体为氟化氢(HF)。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]与所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]的合计c1+c2大于5[体积％]。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]为2[体积％]以上。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]为2[体积％]以上。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]与所述含氯气体的喷雾时间t1[s]的乘积c1×t1与所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]与所述含氟气体的喷雾时间t2[s]的乘积c2×t2之和(c1×t1)+(c2×t2)大于120[体积％×s]。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃制造方法中，优选地，所述含氯气体的喷雾时间t1[s]或所述含氟气体的喷雾时间t2[s]中的任意一者少于10[s]。另外，本专利技术提供一种浮法平板玻璃，其为通过本专利技术的方法而得到的浮法平板玻璃，其中，在将浮法平板玻璃的距离与在浮抛窑内与熔融金属接触的面相对的顶面0.05μm深度处的氯含量设为Cl1[重量％]、将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯含量的最小值设为Cl2[重量％]时，Cl1>Cl2，在将距离所述顶面0.05μm深度处的氟含量设为F1[重量％]、将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于20μm深度处的氟含量的最小值设为F2[重量％]时，F1>F2。另外，本专利技术提供一种浮法平板玻璃，其中，在将浮法平板玻璃的距离与在浮抛窑内与熔融金属接触的面相对的顶面0.05μm深度处的氯含量设为Cl1[重量％]、将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯含量的最小值设为Cl2[重量％]时，Cl1>Cl2，在将距离所述顶面0.05μm深度处的氟含量设为F1[重量％]、将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于20μm深度处的氟含量的最小值设为F2[重量％]时，F1>F2。另外，优选地，所述浮法平板玻璃为通过在浮抛窑内使含氯气体和含氟气体与所述浮法平板玻璃的玻璃表面接触而进行表面处理而制造的浮法平板玻璃。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃中，优选地，具有如下区域：距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯或氟含量高于在浮抛窑内未将含氯气体和含氟气体喷雾到玻璃带表面上的浮法平板玻璃的氯或氟含量。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃中，优选地，将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯含量变化的斜率设为[dCl]、将氟含量变化的斜率设为[dHF]时，具有[dCl]或[dHF]为负的区域。另外，在本专利技术的浮法平板玻璃中，优选地，距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯或氟含量高于距离所述顶面比10μm深的部分的氯或氟含量。专利技术效果根据本专利技术的方法，在制造浮法平板玻璃时，通过在浮抛窑内进行在线处理，可以从本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以分别满足下述式(1)、(2)所示的条件的方式喷雾到玻璃带表面上，(6.92u1+15.8)c1t1·exp(‑4303/T1)>r    (1)式(1)中，c1为含氯气体的氯浓度[体积％]，u1为含氯气体的流速(线速度)[cm/s]，t1为含氯气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]；(6.92u2+15.8)c2t2·exp(‑4303/T2)>r    (2)式(2)中，c2为含氟气体的氟浓度[体积％]，u2为含氟气体的流速(线速度)[cm/s]，t2为含氟气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.04.24 JP 2013-0911331.一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以分别满足下述式(1)、(2)所示的条件的方式喷雾到玻璃带表面上，(6.92u1+15.8)c1t1·exp(-4303/T1)>r(1)式(1)中，c1为含氯气体的氯浓度[体积％]，u1为含氯气体的线速度[cm/s]，t1为含氯气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]；(6.92u2+15.8)c2t2·exp(-4303/T2)>r(2)式(2)中，c2为含氟气体的氟浓度[体积％]，u2为含氟气体的线速度[cm/s]，t2为含氟气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]。2.如权利要求1所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，在将制造的玻璃的玻璃化转变温度设为Tg时，在浮抛窑内的Tg+30℃～Tg+300℃的还原气氛中，将所述含氯气体和所述含氟气体喷雾到所述玻璃带表面上。3.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体为氯化氢(HCl)。4.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氟气体为氟化氢(HF)。5.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]与所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]的合计c1+c2大于5[体积％]。6.如权利要求5所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]为2[体积％]以上。7.如权利要求5所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]为2[体积％]以上。8.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]与所述含氯气体的喷雾时间t1[s]的乘积c1×t1与所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]与所述含氟气体的喷雾时间t2[s]的乘积c2×t2之和(c1×t1)+(c2×t2)大于120[体积％×s]。9.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：安田兴平，林泰夫，井川信彰，市川龙麻，宫坂聪史，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP