【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】腐蚀抑制组合物
本公开一般涉及腐蚀抑制组合物以及所述组合物的制造和使用方法,特别是包含有机腐蚀抑制剂的组合物。
技术介绍
许多金属和金属合金都易受腐蚀,腐蚀使得这些金属和金属合金丧失其结构完整性。因此,已经开发出检测腐蚀的有无和试图防止或抑制腐蚀的方法。
技术实现思路
在一个实施方式中,腐蚀抑制组合物包含多个载体。所述多个载体各自包含载体主体和腐蚀抑制剂。载体主体包封腐蚀抑制剂。腐蚀抑制剂包含具有环结构的有机化合物。载体主体由可降解材料形成。在一个实施方式中,腐蚀抑制组合物包含多个第一载体和多个第二载体。所述多个第一载体各自包含第一载体主体和第一腐蚀抑制剂。第一载体主体包封第一腐蚀抑制剂。第一腐蚀抑制剂包含有机膦酸酯或盐。第一载体主体由第一可降解材料形成。所述多个第二载体各自包含第二载体主体和第二腐蚀抑制剂。第二载体主体包封第二腐蚀抑制剂。第二腐蚀抑制剂包含具有环结构的有机化合物。第二载体主体由第二可降解材料形成。在另一个实施方式中,腐蚀抑制组合物包含多个第一载体和多个第二载体。所述多个第一载体各自包含第一载体主体和第一腐蚀抑制剂。第一载体主体包封第一腐蚀抑制剂。第一腐蚀抑制剂包含具有环结构的第一有机化合物。第一载体主体由第一可降解材料形成。所述多个第二载体各自包含第二载体主体和第二腐蚀抑制剂。第二载体主体包封第二腐蚀抑制剂。第二腐蚀抑制剂包含具有环结构的第二有机化合物。第二腐蚀抑制剂不同于第一腐蚀抑制剂。第二载体主体由第二可降解材料形成。在又一个实施方式中,用于抑制金属表面上的腐蚀的涂料包含涂料基质和腐蚀抑制组合物。涂料基质包含有机层。腐蚀抑制组合物分散在涂 ...
【技术保护点】
一种腐蚀抑制组合物,所述组合物包含:多个载体,各自包含载体主体和腐蚀抑制剂,所述载体主体包封所述腐蚀抑制剂,所述腐蚀抑制剂包含具有环结构的有机化合物,其中,所述载体主体由可降解材料形成。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.03.15 US 13/839,8951.一种用于抑制金属基体上的腐蚀的涂料,所述涂料包含腐蚀抑制组合物,所述腐蚀抑制组合物包含:多个第一载体,各自包含第一载体主体和第一腐蚀抑制剂,所述第一载体主体包封所述第一腐蚀抑制剂,其中,所述第一腐蚀抑制剂为具有环结构的第一有机化合物,所述第一载体主体由第一可降解材料形成;和多个第二载体,各自包含第二载体主体和第二腐蚀抑制剂,所述第二载体主体包封所述第二腐蚀抑制剂,其中,所述第二载体主体由第二可降解材料形成;其中,所述第二腐蚀抑制剂为具有环结构的第二有机化合物,所述第二腐蚀抑制剂不同于所述第一腐蚀抑制剂,所述多个第二载体不包含所述第一腐蚀抑制剂,所述多个第一载体不包含所述第二腐蚀抑制剂,并且所述第一可降解材料具有在碱性条件和酸性条件的至少一种中劣化从而足以从所述第一可降解材料中释放所述第一腐蚀抑制剂的机械完整性;其中,当所述涂料以25微米的厚度测试时,所述涂料根据热盐水测试表现出0.6mm以下的蠕变值,其中,所述热盐水测试包括:使用具有HV820±30的硬度的SK2切割刀对包含基质材料的金属基体的试样进行X-切割,其中,X-切割具有60°至90°的交角,并且到达所述金属基体的基质材料,将所述试样浸入容器中的55℃的5重量%NaCl溶液中,密封所述容器,240小时后从所述容器中取出所述试样,清洗并擦拭所述试样,测量所述试样上的任何锈蚀和/或起泡的宽度以测定起泡宽度,和将一条12或24mm宽的赛璐玢胶带贴附到所述锈蚀和/或起泡,握住所述胶带的边缘使所述胶带与所述试样之间的角度为45°,剥离所述胶带,并测量任何产生的剥离部分的宽度以测定剥离宽度,其中,所述蠕变值为所述剥离宽度和所述起泡宽度中较大者。2.如权利要求1所述的涂料,其中,所述第一有机化合物包括杂环化合物。3.如权利要求1所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂为螯合剂。4.如权利要求2所述的涂料,其中,所述杂环化合物包含环内给体原子和环外给体原子。5.如权利要求4所述的涂料,其中,所述环外给体原子直接键合于所述杂环化合物的杂环。6.如权利要求4所述的涂料,其中,所述环外给体原子不直接键合于所述杂环化合物的杂环。7.如权利要求2所述的涂料,其中,所述杂环化合物选自由2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并咪唑、2-(苯并噻唑-2-基硫基)-琥珀酸、8-羟基喹啉、8-羟基喹哪啶及其任意组合组成的组。8.如权利要求1所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂和所述第二腐蚀抑制剂占所述多个第一载体和所述多个第二载体的10重量%~40重量%。9.如权利要求8所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂和所述第二腐蚀抑制剂占所述多个第一载体和所述多个第二载体的15重量%~35重量%。10.一种用于抑制金属基体上的腐蚀的涂料,所述涂料包含腐蚀抑制组合物,所述腐蚀抑制组合物包含:多个第一载体,各自包含第一载体主体和第一腐蚀抑制剂,所述第一载体主体包封所述第一腐蚀抑制剂,其中,所述第一腐蚀抑制剂为具有环结构的第一有机化合物,所述第一载体主体由第一可降解材料形成;和多个第二载体,各自包含第二载体主体和第二腐蚀抑制剂,所述第二载体主体包封所述第二腐蚀抑制剂,其中,所述第二载体主体由第二可降解材料形成;其中,所述第二腐蚀抑制剂为具有环结构的第二有机化合物,所述第二腐蚀抑制剂不同于所述第一腐蚀抑制剂,所述多个第二载体不包含所述第一腐蚀抑制剂,所述多个第一载体不包含所述第二腐蚀抑制剂,并且所述第一可降解材料具有在碱性条件和酸性条件的至少一种中劣化从而足以从所述第一可降解材料中释放所述第一腐蚀抑制剂的机械完整性;其中,当所述涂料以25微米的厚度测试时,所述涂料根据喷盐测试表现出1.6mm以下的蠕变值,其中,所述喷盐测试包括:使用具有HV820±30的硬度的SK2切割刀对包含基质材料的金属基体的试样进行X-切割,其中,X-切割具有60°至90°的交角,并且到达所述金属基体的基质材料,将所述试样以与垂直线为15°至30°贴附在符合ASTMB117标准的喷盐测试器上,测试室温度为35±1℃,空气饱和器温度为47±1℃,测试室相对湿度为95%,喷雾压力为70~180kPa,收集的溶液量是对于80cm2为0.85~2.0mL/小时,喷雾形成的溶液的pH为6.5~7.2,对所述试样进行960小时的5.0重量%NaCl溶液的喷雾,清洗所述试样以除去任何腐蚀产物,测量X-切割的最大膨胀区域的宽度以测定起泡宽度,在将所述试样在室温放置2小时后,贴附12或24mm宽的赛璐玢胶带,握住所述胶带的边缘使所述胶带与所述试样之间的角度为45°,剥离所述胶带,测量以胶带剥离的涂料的区域的宽度以测定剥离宽度,其中,所述蠕变值为所述剥离宽度和所述起泡宽度中较大者。11.如权利要求10所述的涂料,其中,所述第一有机化合物包括杂环化合物。12.如权利要求10所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂为螯合剂。13.如权利要求11所述的涂料,其中,所述杂环化合物包含环内给体原子和环外给体原子。14.如权利要求13所述的涂料,其中,所述环外给体原子直接键合于所述杂环化合物的杂环。15.如权利要求13所述的涂料,其中,所述环外给体原子不直接键合于所述杂环化合物的杂环。16.如权利要求11所述的涂料,其中,所述杂环化合物选自由2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并咪唑、2-(苯并噻唑-2-基硫基)-琥珀酸、8-羟基喹啉、8-羟基喹哪啶及其任意组合组成的组。17.如权利要求10所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂和所述第二腐蚀抑制剂占所述多个第一载体和所述多个第二载体的10重量%~40重量%。18.如权利要求17所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂和所述第二腐蚀抑制剂占所述多个第一载体和所述多个第二载体的15重量%~35重量%。19.一种用于抑制金属基体上的腐蚀的涂料,所述涂料包含腐蚀抑制组合物,所述组合物包含:多个第一载体,各自包含第一载体主体和第一腐蚀抑制剂,所述第一载体主体包封所述第一腐蚀抑制剂,所述第一腐蚀抑制剂为具有环结构的第一有机化合物,其中,所述第一载体主体由第一可降解材料形成;和多个第二载体,各自包含第二载体主体和第二腐蚀抑制剂,所述第二载体主体包封所述第二腐蚀抑制剂,所述第二腐蚀抑制剂为具有环结构的第二有机化合物,其中,所述第二腐蚀抑制剂不同于所述第一腐蚀抑制剂,所述多个第一载体不包含所述第二腐蚀抑制剂,所述多个第二载体不包含第一腐蚀抑制剂,并且所述第二载体主体由第二可降解材料形成,其中,当所述涂料以25微米的厚度测试时,所述涂料根据热盐水测试表现出0.6mm以下的蠕变值,其中,所述热盐水测试包括:使用具有HV820±30的硬度的SK2切割刀对包含基质材料的金属基体的试样进行X-切割,其中,X-切割具有60°至90°的交角,并且到达所述金属基体的基质材料,将所述试样浸入容器中的55℃的5重量%NaCl溶液中,密封所述容器,240小时后从所述容器中取出所述试样,清洗并擦拭所述试样,测量所述试样上的任何锈蚀和/或起泡的宽度以测定起泡宽度,和将一条12或24mm宽的赛璐玢胶带贴附到所述锈蚀和/或起泡,握住所述胶带的边缘使所述胶带与所述试样之间的角度为45°,剥离所述胶带,并测量任何产生的剥离部分的宽度以测定剥离宽度,其中,所述蠕变值为所述剥离宽度和所述起泡宽度中较大者。20.如权利要求19所述的涂料,其中,所述第一载体和所述第二载体各自形成微粒。21.如权利要求19所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂是螯合剂。22.如权利要求19所述的涂料,其中,所述第二腐蚀抑制剂是螯合剂。23.如权利要求19所述的涂料,其中,所述第一腐蚀抑制剂包含与所述第二腐蚀抑制剂中包...
【专利技术属性】
技术研发人员:T·A·菲茨,M·E·伯格,
申请(专利权)人:本田技研工业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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