本实用新型专利技术公开了一种密封盖的密封圈，其技术方案要点是包括密封圈本体，所述密封圈本体为圆环形，其特征在于：所述密封圈本体的截面呈凸字形且两侧形成台肩，所述密封圈本体一部分凸出密封槽，所述台肩位于密封槽内，所述台肩与密封槽侧壁之间空余的体积等于密封圈本体凸出密封槽部分的体积，达到了密封效果好且不容易污染原料的效果。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种密封件，更具体地说，它涉及一种密封盖的密封圈。
技术介绍
光缆是以实现光信号传输的一种通信线路，因此其稳定性要求较高，加工工艺也有一定的要求，对于光缆专用PBT其生产过程也必须保证一定质量。在PBT的生产过程中，需要通过反应釜对原材料进行改性处理，可以参考申请号为201120334311.3的技术专利，反应釜包括支架和旋转反应罐，旋转反应罐的两端支撑在支架上，旋转反应罐的侧壁上设有出料口和进料口，在开始反应之前，需要先将旋转反应罐中抽真空，需要将进料口等通过密封盖密封住，密封盖处为了保证密封效果通常会使用密封圈，密封圈设置于密封盖的密封槽内，旋转反应罐内的材料进行反应时使要求很高的真空度的，为了充分的密封效果，通常的密封圈会略微突出密封槽，密封圈拥有一定的弹性，通过挤压力使密封更加充分。但这样的密封圈受到挤压后在密封槽中没有足够的空间进行收纳，密封圈自身也没有供突出部分密封圈让位的空间，密封后密封圈有部分会位于密封槽外，这样的密封圈容易损坏，同时，在反应釜上使用现有的这类密封圈，旋转反应罐中的颗粒状原料是运动的，颗粒会与在密封槽外的密封圈发生碰撞，将碰撞下的密封圈的粉料带入到原料中去，会影响到产品质量。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种密封效果好且不容易污染原料的密封盖的密封圈。为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案:一种密封盖的密封圈，包括密封圈本体，所述密封圈本体为圆环形，密封圈本体的截面呈凸字形且两侧形成台肩，所述密封圈本体一部分凸出密封槽，所述台肩位于密封槽内，所述台肩与密封槽侧壁之间空余的体积等于密封圈本体凸出密封槽部分的体积。较佳的，密封圈本体凸出密封槽的部分为抵接部，所述抵接部远离密封槽一侧的表面形成圆弧面。较佳的，抵接部从圆弧面至台肩处慢慢变宽。较佳的，抵接部内设置有让位空间。较佳的，让位空间的截面呈半圆形。较佳的，抵接部的侧面与台肩处设有圆角结构。通过采用上述技术方案，密封圈本体的截面呈凸字形且两侧形成台肩，密封圈本体一部分凸出密封槽，台肩位于密封槽内，台肩与密封槽侧壁之间空余的体积等于密封圈本体凸出密封槽部分的体积，当密封圈本体受压后被压迫的部分会向台肩处运动，密封圈本体被压迫的部分可以填充满台肩与密封槽的空余处，密封圈本体不会有多余的部分位于密封槽外，保证不会污染到原料，从而保证产品的质量，同时依靠密封圈自身拥有一定的弹性，使得密封圈有充分的抵接力，保证了良好的密封性。【附图说明】图1为密封盖与密封圈配合时结构示意图；图2为密封盖与密封圈爆炸示意图；图3为密封盖与密封圈剖视图。附图标记:1、密封圈本体；11、抵接部；12、台肩；13、缓冲空间；14、圆角结构；15、圆弧面；2、密封盖；21、密封槽。【具体实施方式】参照附图对本技术密封盖的密封圈实施例做进一步说明。一种密封盖的密封圈，包括密封圈本体I，密封圈本体I为圆环形，密封圈本体I的截面呈凸字形且两侧形成台肩12，密封圈本体I 一部分凸出密封槽21 (密封槽21设置于密封盖2的端部)，台肩12位于密封槽21内，台肩12与密封槽21侧壁之间空余的体积等于密封圈本体I凸出密封槽21部分的体积，当密封圈本体I受压后被压迫的部分会向台肩12处运动，密封圈本体I被压迫的部分可以填充满台肩12与密封槽21的空余处，密封圈本体I不会有多余的部分位于密封槽21外，保证不会污染到原料，从而保证产品的质量，同时依靠密封圈自身拥有一定的弹性，使得密封圈有充分的抵接力，保证了良好的密封性。密封圈本体I凸出密封槽21的部分为抵接部11，抵接部11远离密封槽21 —侧的表面形成圆弧面15，当抵接部11要被下压时会受到力的作用，首先是圆弧面15受力，其受力时可以将受到的应力进行充分的分散，保证抵接部11受压时不容易损坏，保证密封圈本体I的使用寿命，同时也保证了密封效果。抵接部11从圆弧面15至台肩12处慢慢变宽，当抵接部11受压向空余处填充时，抵接部11从圆弧面15至台肩12处慢慢变宽所形成的斜面对受压部分起到一定的引导作用，使其能够快速均匀的分散到空余处，保证密封圈本体I在密封完成后不会位于密封槽21夕卜，保证原料不会被污染，从而保证产品质量；同时使得密封圈本体I在空余处分布较为均匀，不容易存在局部过多而应力过大的情况，保证密封圈本体I不容易损坏。抵接部11内设置有让位空间13，通过让位空间13的设置，可以供多余的密封圈本体I放置，防止密封圈本体I位于密封槽21外，进一步保证了产品质量。作为优选，让位空间13的截面呈半圆形，拥有良好分散应力，进一步保证密封圈本体I不容易损坏，同时，通过这样的设置一定程度上增加了抵接部11的弹性，从而提高抵接部11的抵接力，使其的密封效果更佳。抵接部11的侧面与台肩12处设有圆角结构14，通过以上的设置，一定程度上保证抵接部11受压运动时能平缓运动，不会出现突然转折的情况出现，保证密封圈不容易受损，从而保证密封圈的使用寿命。以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。【主权项】1.一种密封盖的密封圈，包括密封圈本体，所述密封圈本体为圆环形，其特征在于:所述密封圈本体的截面呈凸字形且两侧形成台肩，所述密封圈本体一部分凸出密封槽，所述台肩位于密封槽内，所述台肩与密封槽侧壁之间空余的体积等于密封圈本体凸出密封槽部分的体积。2.根据权利要求1所述的密封盖的密封圈，其特征在于:所述密封圈本体凸出密封槽的部分为抵接部，所述抵接部远离密封槽一侧的表面形成圆弧面。3.根据权利要求2所述的密封盖的密封圈，其特征在于:所述抵接部从圆弧面至台肩处慢慢变宽。4.根据权利要求2所述的密封盖的密封圈，其特征在于:所述抵接部内设置有让位空间。5.根据权利要求4所述的密封盖的密封圈，其特征在于:所述让位空间的截面呈半圆形。6.根据权利要求2所述的密封盖的密封圈，其特征在于:所述抵接部的侧面与台肩处设有圆角结构。【专利摘要】本技术公开了一种密封盖的密封圈，其技术方案要点是包括密封圈本体，所述密封圈本体为圆环形，其特征在于：所述密封圈本体的截面呈凸字形且两侧形成台肩，所述密封圈本体一部分凸出密封槽，所述台肩位于密封槽内，所述台肩与密封槽侧壁之间空余的体积等于密封圈本体凸出密封槽部分的体积，达到了密封效果好且不容易污染原料的效果。【IPC分类】F16J15/06【公开号】CN204805528【申请号】CN201520470136【专利技术人】贾明, 贾博钧 【申请人】苏州盈茂塑料有限公司【公开日】2015年11月25日【申请日】2015年7月2日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种密封盖的密封圈，包括密封圈本体，所述密封圈本体为圆环形，其特征在于：所述密封圈本体的截面呈凸字形且两侧形成台肩，所述密封圈本体一部分凸出密封槽，所述台肩位于密封槽内，所述台肩与密封槽侧壁之间空余的体积等于密封圈本体凸出密封槽部分的体积。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：贾明，贾博钧，
申请(专利权)人：苏州盈茂塑料有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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