高分子材料生产用自清洗型冷却槽制造技术

本实用新型专利技术涉及一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，该冷却槽包括开口式槽体、设置在槽体底部的白色衬底和设置在衬底下面的加热管，所述槽体底部截面为V型，加热管设置在V型槽体底面的凹槽中，白色衬底设置在V型槽体底面的凹槽上，所述V型槽体的深度自冷却槽前端至后端逐渐加深；所述槽体上部内壁边缘设置有四周式进水槽，进水槽上均匀分布有竖直缺口。本实用新型专利技术的高分子材料生产用自清洗型冷却槽的结构较为简单，方便实用，适宜进一步推广应用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及高分子材料产品用冷却槽的结构设计
，更具体地说，涉及一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽。
技术介绍
现有的材料加工技术中，无一例外地都要用到冷却水槽，比如高分子材料制品或塑料制品，一般情况下，长条形塑料制品都是直接放入水槽内，然后人工取出。这一过程中，存在一些问题，比如:现有的冷却槽基本无加温装置，对于特殊材料无法设置其特定的冷却温度，直接进入常温的水后容易导致材料后期综合性能的下降；冷却槽在长时间使用后，里面需要清理，由于其本身较重，工作人员不愿花时间专门清理；冷却槽内无法直接观察材料表面的气泡、划痕等形貌，无法实时监测材料质量；等等。因此，开发一种结构简单，方便实用的高分子材料生产用自清洗型冷却槽是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是:为克服上述
技术介绍
中提到的技术问题，现提供一种结构简单，方便实用的高分子材料生产用自清洗型冷却槽。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，该冷却槽包括开口式槽体、设置在槽体底部的白色衬底和设置在衬底下面的加热管，所述槽体底部截面为V型，加热管设置在V型槽体底面的凹槽中，白色衬底设置在V型槽体底面的凹槽上，所述V型槽体的深度自冷却槽前端至后端逐渐加深；所述槽体上部内壁边缘设置有四周式进水槽，进水槽上均匀分布有竖直缺口。进一步，所述槽体外壁侧面设置有加热管的控制装置。进一步，为方便调节高分子材料在冷却水中的上下“行走”路线，所述槽体的上部设置有3个可旋转式框体，框体上设置有平行的滚轴，高分子材料通过滚轴相互牵引移动，通过可旋转式框体设置爬高或下坡。进一步优选，所述3个可旋转式框体的间距相等。进一步，所述槽体底部设置有四轮式移动架，四轮式移动架的上部设置有与V型槽体外壁相匹配的凹下式槽。进一步，所述冷却槽后端底部设置有出水口，冷却槽上部侧面设置有进水口。有益效果:与现有技术相比，本技术的高分子材料生产用自清洗型冷却槽的结构较为简单，其内部设置的加热装置，可在冬季或寒冷地区的用户对冷却水进行一定的加热，从而可以满足特殊高分子材料的阶梯式恒温冷却，从而保持良好的后期综合性能；通过四周式进水槽和缺口的设置，可使得进入的水有槽体四周向下流入，打开冷却槽后端底部设置的出水口，即可将该槽体内壁清洗，白色衬底的设置，可方便工作人员直接观察材料表面有无气泡、划痕等形貌，实时监测材料质量，方便实用，适宜进一步推广应用。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。图1是本技术的结构示意图；图中，1.四轮式移动架，2.框体，21.滚轴，3.进水槽，31.缺口，4.出水口，5.加热管，51.控制装置，6.衬底，7.进水口。【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本技术进一步说明，描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。下面所示的实施例不对权利要求所记载的
技术实现思路
起任何限定作用，并且，下面实施例所表示的构成的全部内容不限于作为权利要求所记载的技术的解决方案所必须的。如附图所示的一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，该冷却槽包括开口式槽体、设置在槽体底部的白色衬底6和设置在衬底6下面的加热管5，所述槽体底部截面为V型，加热管5设置在V型槽体底面的凹槽中，白色衬底6设置在V型槽体底面的凹槽上，所述V型槽体的深度自冷却槽前端至后端逐渐加深；所述槽体上部内壁边缘设置有四周式进水槽3，进水槽3上均匀分布有竖直缺口 31。进一步，所述槽体外壁侧面设置有加热管5的控制装置51 ;所述槽体的上部设置有3个可旋转式框体2，框体2上设置有平行的滚轴21 ;所述3个可旋转式框体2的间距相等；槽体底部设置有四轮式移动架1，四轮式移动架I的上部设置有与V型槽体外壁相匹配的凹下式槽，所述冷却槽后端底部设置有出水口 4，冷却槽上部侧面设置有进水口 7。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。【主权项】1.一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是:该冷却槽包括开口式槽体、设置在槽体底部的白色衬底和设置在衬底下面的加热管，所述槽体底部截面为V型，加热管设置在V型槽体底面的凹槽中，白色衬底设置在V型槽体底面的凹槽上，所述V型槽体的深度自冷却槽前端至后端逐渐加深；所述槽体上部内壁边缘设置有四周式进水槽，进水槽上均勾分布有竖直缺口 O2.根据权利要求1所述的一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是:所述槽体外壁侧面设置有加热管的控制装置。3.根据权利要求1所述的一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是:所述槽体的上部设置有3个可旋转式框体，框体上设置有平行的滚轴。4.根据权利要求3所述的一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是:所述3个可旋转式框体的间距相等。5.根据权利要求1所述的一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是:所述槽体底部设置有四轮式移动架，四轮式移动架的上部设置有与V型槽体外壁相匹配的凹下式槽。6.根据权利要求1所述的一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是:所述冷却槽后端底部设置有出水口，冷却槽上部侧面设置有进水口。【专利摘要】本技术涉及一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，该冷却槽包括开口式槽体、设置在槽体底部的白色衬底和设置在衬底下面的加热管，所述槽体底部截面为V型，加热管设置在V型槽体底面的凹槽中，白色衬底设置在V型槽体底面的凹槽上，所述V型槽体的深度自冷却槽前端至后端逐渐加深；所述槽体上部内壁边缘设置有四周式进水槽，进水槽上均匀分布有竖直缺口。本技术的高分子材料生产用自清洗型冷却槽的结构较为简单，方便实用，适宜进一步推广应用。【IPC分类】B29C35/16【公开号】CN204820084【申请号】CN201520536475【专利技术人】张敬敬 【申请人】常州容和高分子材料科技有限公司【公开日】2015年12月2日【申请日】2015年7月23日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其特征是：该冷却槽包括开口式槽体、设置在槽体底部的白色衬底和设置在衬底下面的加热管，所述槽体底部截面为V型，加热管设置在V型槽体底面的凹槽中，白色衬底设置在V型槽体底面的凹槽上，所述V型槽体的深度自冷却槽前端至后端逐渐加深；所述槽体上部内壁边缘设置有四周式进水槽，进水槽上均匀分布有竖直缺口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张敬敬，
申请(专利权)人：常州容和高分子材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32