掩膜板和显示基板蒸镀系统技术方案

本实用新型专利技术属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜板和显示基板蒸镀系统。该掩膜板包括具有多个间隔并行排列的图形掩膜块的图形掩膜层，所述图形掩膜块包括多个像素成形区，该掩膜板还包括辅助掩膜层，辅助掩膜层包括第一支撑部，第一支撑部包括至少一条与图形掩膜层的图形掩膜块的长边垂直排列且位置与相邻像素成形区之间的间隙相对应的第一条状结构，第一支撑部用于支撑图形掩膜层。该掩膜板中的辅助掩膜层使得图形掩膜层中的各分离图形掩膜块形成一个整体，从而可以控制图形掩膜层中的各分离图形掩膜块的下垂量，从而控制图形掩膜层的下垂量，解决因图形掩膜块的结构长、薄容易下垂而造成阴影差异大的难题，提高掩膜板上图形的位置精度。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于显示
，具体涉及一种掩膜板和显示基板蒸镀系统。
技术介绍
在OLED(Organic Light Emiss1n Display，有机电致发光二极管)制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板的质量直接影响着生产制造成本和产品质量。OLED蒸镀过程用的掩膜板中，精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，简称:FMM)是其中最关键的装备之一。FMM用于蒸镀发光层材料，在背板上形成像素图形，因此，FMM质量的好坏直接关系到屏幕的显示效果。由于FMM对精度的要求非常高，目前FMM已成为制约OLED显示屏分辨率提升的瓶颈，并成为引发产生混色、亮度不均等不良问题的主要原因。随着屏幕越来越向高分辨率的方向发展，FMM的图形日益呈现薄、长、多的趋势，且数量极多，单块宽度通常小于30 μπι，互相之间形成开口尺寸极小，非常容易发生变形。因此，FMM在与掩膜板框架焊接组装的过程中，即使只施加很小的拉伸力，也会导致FMM产生较大的下垂量。此外，FMM在有机真空蒸镀腔室内被磁铁吸附后，掩膜板的平坦度差流动性大，使得蒸镀上的有机材料位置发生偏离，并且图形的阴影(shadow)不均匀差异较大，进而造成屏幕产生混色、亮度不均等严重问题。
技术实现思路
本技术为了解决FMM下垂量大及图形的阴影差异大的技术问题，提供一种掩膜板，其中的辅助掩膜层可以控制图形掩膜层中的图形掩膜块的下垂量，从而可以控制图形掩膜层的下垂量，解决阴影差异大的难题；还能够提高掩膜板上图形的位置精度，解决屏幕混色、亮度不均等问题，对提高产品良率具有重要意义。这里所说的图形掩膜层相当于现有技术中的FMM。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是提供一种掩膜板，该掩膜板包括具有多个间隔并行排列的图形掩膜块的图形掩膜层，所述图形掩膜块包括多个像素成形区，该掩膜板还包括辅助掩膜层，所述辅助掩膜层包括第一支撑部，所述第一支撑部包括至少一条与所述图形掩膜层的所述图形掩膜块的长边垂直排列且位置与相邻所述像素成形区之间的间隙相对应的第一条状结构，所述第一支撑部用于支撑所述图形掩膜层。优选的是，所述第一支撑部中的所述第一条状结构的数量小于每一所述图形掩膜块中所包括的所述像素成形区的数量。优选的是，所述第一支撑部中的所述第一条状结构的宽度小于或等于同一所述图形掩膜块中相邻所述像素成形区之间的间隙的宽度。优选的是，所述辅助掩膜层还包括与所述第一支撑部垂直设置的第二支撑部，所述第二支撑部包括至少一条设置于与相邻所述图形掩膜块的间隙对应区域的第二条状结构，所述第二支撑部用于支撑所述图形掩膜层且能加固所述第一支撑部。优选的是，所述第二支撑部中的所述第二条状结构的数量小于所述图形掩膜层中的所述图形掩膜块的数量加I。优选的是，所述第二支撑部中的所述第二条状结构的宽度小于或等于相邻两个所述图形掩膜块中的相邻两个所述像素成形区之间的间隙的宽度。优选的是，该掩膜板还包括掩膜板框架，所述图形掩膜层中的所述条状结构与所述辅助掩膜层中的所述第一条状结构和所述第二条状结构分别设置于所述掩膜板框架的内部。优选的是，所述辅助掩膜层中，所述第一支撑部与所述第二支撑部同层设置。优选的是，所述辅助掩膜层中的所述第一条状结构和所述第二条状结构经拉伸处理之后、焊接在所述掩膜板框架上。优选的是，所述辅助掩膜层采用因瓦合金材料制成，所述辅助掩膜层采用湿法刻蚀法形成。—种显示基板蒸镀系统，包括蒸镀机、背板，所述背板上呈矩阵形式地排列有多个显示屏区，该显示基板蒸镀系统还包括上述掩膜板，所述掩膜板中的所述像素成形区能在所述显示屏区内形成像素图形。本技术的有益效果:该掩膜板通过将图形掩膜层和辅助掩膜层组合使用，由辅助掩膜层支撑图形掩膜层，使得图形掩膜层中的各分离图形掩膜块形成一个整体；通过拉伸处理后的辅助掩膜层，可以控制图形掩膜层的下垂量，解决阴影差异大的难题；还能够提尚掩I旲板上图形的位置精度，解决屏蒂混色、壳度不均等冋题，对提尚显不基板广品良率具有重要意义。【附图说明】图1为本技术实施例1中的图形掩膜层的结构示意图；图2为本技术实施例1中的辅助掩膜层的结构示意图；图3为本技术实施例1中的辅助掩膜层与掩膜板框架组装后的结构示意图；图4为本技术实施例1中的辅助掩膜层与掩膜板框架组装切割后的结构示意图；图5为本技术实施例1中的掩膜板完整的结构示意图；图6为本技术实施例2中的背板的结构示意图。其中，附图标记为:1-第一条状结构；2_第二条状结构；3_空心网格区；4_掩膜板框架；5_图形掩膜块；51-像素成形区；6-显示屏区。【具体实施方式】为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本技术中的掩膜板和显示基板蒸镀系统作进一步详细描述。实施例1:本实施例提供一种掩膜板，该掩膜板通过将图形掩膜层和辅助掩膜层组合使用，提高掩膜板上图形的位置精度，形成的显示基板屏幕色彩好、亮度均匀。该掩膜板包括具有多个间隔并行排列的图形掩膜块的图形掩膜层，该图形掩膜块包括多个像素成形区，该掩膜板还包括辅助掩膜层，辅助掩膜层包括第一支撑部。如图1中所示，图形掩膜层为由多个图形掩膜块5平行间隔排列的结构，每个图形掩膜块5上包括多个网状结构的像素成形区51，能用于蒸镀发光层材料，在背板上形成像素图形；如图2所示，第一支撑部包括至少一条与图形掩膜层的图形掩膜块的长边垂直排列且位置与相邻像素成形区之间的间隙相对应的第一条状结构1，该第一支撑部I用于对图形掩膜层进行支撑。为了使第一支撑部对图形掩膜层的支撑效果更好，优选该辅助掩膜层还包括用于支撑图形掩膜层且能加固第一支撑部的第二支撑部。参考图2，该第二支撑部与第一支撑部垂直设置，包括至少一条与相邻图形掩膜块的间隙对应的第二条状结构2。图形掩膜层与辅助掩膜层均焊接在掩膜板框架的内部，使图形掩膜层、辅助掩膜层和掩膜板框架组合成一整体构成掩膜板。根据上述辅助掩膜层的结构，此处形成的掩膜板的内部结构可以为包括图形掩膜层以及与图形掩膜层对应设置的第一支撑部结构，也可以为同时包括图形掩膜层以及具有第一支撑部和第二支撑部的结构。如图2所示为辅助掩膜层的一种网状结构，第一支撑部中的第一条状结构I与第二支撑部中的第二条状结构2垂直交叉排列在同一层中，并在中部形成多个空心网格区3。其中，第一支撑部中的第一条状结构I的宽度小于或等于同一图形掩膜块5中相邻像素成形区51之间的间隙的宽度，以避免第一条状结构I宽度过大影响像素成形区51形成像素图形。第一支撑部中的第一条状结构I的数量小于每一图形掩膜块5中所包括的像素成形区51的数量。当第一条状结构I的数量比一个图形掩膜块5中的像素成形区51的数量少I时，每个图形掩膜块5中的相邻两个像素成形区51之间的间隙刚好对应一个第一条状结构1，可以使第一支撑部对图形掩膜块5的支撑效果最佳，且无材料浪费。当第一条状结构I的数量比一个图形掩膜块5中的像素成形区51的数量不止少I时，可以将第一条状结构I间隔多个像素成形区51排列设置在图形掩膜层中图形掩膜块5的下方，从而使得第一条状结构I对图形掩膜层中图形掩膜块5的支撑效果较均匀。第二支撑部中的第二条状结构2排列的位置对应着图形掩膜块本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，包括具有多个间隔并行排列的图形掩膜块的图形掩膜层，所述图形掩膜块包括多个像素成形区，其特征在于，还包括辅助掩膜层，所述辅助掩膜层包括第一支撑部，所述第一支撑部包括至少一条与所述图形掩膜层的所述图形掩膜块的长边垂直排列且位置与相邻所述像素成形区之间的间隙相对应的第一条状结构，所述第一支撑部用于支撑所述图形掩膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：白珊珊，嵇凤丽，梁逸南，
申请(专利权)人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙古;15