锅体及电磁烹饪锅具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种锅体，所述锅体用于电磁烹饪锅具中，所述锅体包括腔体和具有弹性的减震件，所述减震件设于所述腔体的外侧壁上，且所述减震件与所述腔体固定连接。本实用新型专利技术还公开了一种电磁烹饪锅具。本实用新型专利技术削弱了由于电磁线圈高频激励引起腔体振动的效果，从而降低了电磁烹饪锅具工作时腔体产生的噪音。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电磁加热
，尤其涉及锅体及电磁烹饪锅具。
技术介绍
众所周知，随着电磁加热技术的发展，电磁烹饪锅具已经成为人们常用的家用电 器之一。在现有技术中，由于电磁烹饪锅具中电磁线圈的高频激励，使得锅体容易产生振 动，从而带来较大的噪声。 上述内容仅用于辅助理解本技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有 技术。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种锅体及电磁烹饪锅具，旨在削弱由于电磁线 圈高频激励引起腔体振动的效果，从而降低电磁烹饪锅具工作时腔体产生的噪音。 为了实现上述目的，本技术提供一种锅体，所述锅体用于电磁烹饪锅具中，所 述锅体包括腔体和具有弹性的减震件，所述减震件设于所述腔体的外侧壁上，且所述减震 件与所述腔体固定连接。 优选地，所述减震件包括多个分体的减震块，所述多个分体的减震块沿周向均匀 分布于所述腔体的外侧壁上，或者所述减震件为一体成型的环状减震圈，所述减震圈套设 于所述腔体的外侧壁上。 优选地，所述腔体的外侧壁上设有若干定位凹槽，所述减震件对应位置设有与所 述定位凹槽适配的定位凸起。 优选地，所述定位凹槽在沿所述腔体的周向延伸或者分布的同时还沿所述腔体的 轴向分布；所述定位凹槽与所述腔体开口端的轴向距离范围为1卜丨到、其中H为腔体 !0 i 的高度。 优选地，所述腔体的壁厚区间为0. 3mm至1. 2mm，所述定位凹槽沿径向凹陷的深度 区间为1mm~8mm、沿轴向延伸的宽度区间为1mm~20mm。 优选地，所述腔体的外侧壁上设有若干定位凸台，所述减震件对应位置设有与所 述定位凸台适配的定位凹孔。 优选地，所述定位凸台在沿所述腔体的周向延伸或者分布的同时还沿所述腔体的 轴向分布；所述定位凸台与所述腔体开口端的轴向距离范围为到.，_其中H为腔体 的高度。 优选地，所述腔体的壁厚区间为0. 3mm至1. 2mm ;所述定位凸台沿径向突出的高度 区间为1mm~8mm、沿轴向延伸的宽度区间为1mm~20mm。 优选地，所述腔体呈一端开口、另一端封闭的圆筒状，所述腔体的开口端向外翻折 延伸形成扶手部。 此外，为实现上述目的，本技术还提供一种电磁烹饪锅具，所述电磁烹饪锅具 包括锅体，所述锅体包括腔体和具有弹性的减震件，所述减震件设于所述腔体的外侧壁上， 且所述减震件与所述腔体固定连接。 本技术通过在腔体的外侧壁上设置了减震件，通过减震件吸收腔体的振动， 从而可以有效削弱由于电磁线圈高频激励引起腔体振动的效果，因此降低了电磁烹饪锅具 工作时腔体产生的噪音。【附图说明】 图1为技术锅体第一实施例的结构示意图； 图2为图1中A的局部放大结构示意图； 图3为图2中设置减震件前腔体的结构示意图； 图4为技术锅体第二实施例中腔体的结构示意图； 图5为图4中B的局部放大结构示意图。 本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。【具体实施方式】 应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本 技术。 本技术提供一种锅体，参照图1至图3,在一实施例中，该锅体包括腔体10和 具有弹性的减震件20,所述减震件20设于所述腔体10的外侧壁11上，且所述减震件20与 所述腔体10固定连接。 本实施例提供的锅体主要应用于电磁烹饪锅具中，可以理解的是，上述锅体还可 以应用到其他电磁加热设备当中去，例如，可以应用到电水壶、豆浆机和原汁机等。应当说 明的是，上述腔体10和减震件20的形状及大小均可以根据实际需要进行设置，在此不做进 一步地限定。应当说明的是，上述减震件20具有弹性，因此具有加大的阻尼效果，从而可以 吸收腔体10的振动，降低腔体10由于振动产生的噪音。 本技术通过在腔体10的外侧壁11上设置了减震件20,通过减震件20吸收腔 体的振动，从而可以有效削弱由于电磁线圈高频激励引起腔体10振动的效果，因此降低了 电磁烹饪锅具工作时腔体10产生的噪音。 应当说明的是，上述减震件20的结构可以根据实际需要进行设置，例如在一实施 例中，该减震件20可以包括多个分体的减震块，所述多个分体的减震块均匀分布于所述腔 体10的外侧壁11上。在另一实施例中，上述减震件20为一体成型的环状减震圈，所述减 震圈套设于所述腔体10的外侧壁11上。可以理解的是，在本实施例中，上述减震件20可 以通过热熔的方式粘合固定在腔体10的外侧壁上。 进一步地，基于上述实施例，本实施例中，可以在腔体10的外侧壁11上设置多个 定位结构，以实现减震件20的定位功能。该定位结构的具体的形状和设置方式可以根据实 际需要进行设置。以下将以两种不同的实施方式进行详细说明。 在第一实施方式中，上述定位结构为定位凹槽。即在本实施方式中，腔体10的外 侧壁11上设有若干定位凹槽111，所述减震件20对应位置设有与所述定位凹槽111适配的 定位凸起。 具体地，定位凹槽111在沿所述腔体10的周向延伸或者分布的同时还沿所述腔体 10的轴向分布。上述定位凹槽111与所述腔体10开口端的轴向距离范围为到，其 1U J 中H为腔体10的高度。锅体在受到电磁加热时，其振幅最大的区域集中在靠近腔体10开 口端的位置，因此在腔体10的外侧壁11上述区间范围内设置减震件20能更有效的减少锅 体的震动。本实施方式中，上述定位凹槽111由腔体10的外侧壁11沿径向向内凹陷形成， 具体地，该定位凹槽111沿径向凹陷的深度区间优选为1mm~8mm、沿轴向方向延伸的宽度 区间优选为1mm~20mm ;上述腔体10的壁厚区间优选为0? 3mm至1. 2mm〇 如图4和图5所示，在第二实施方式中，上述定位结构为定位凸台112。即在本实 施方式中，腔体10的外侧壁11上设有若干定位凸台112,所述减震件20对应位置设有与所 述定位凸台112适配的定位凹孔。 具体地，上述定位凸台112在沿所述腔体10的周向延伸或者分布的同时还沿所述 腔体10的轴向分布。所述定位凸台112与所述腔体10开口端的轴向距离范围为:到 1Q #H，其中H为腔体10的高度。锅体在受到电磁加热时，其振幅最大的区域集中在靠近腔体 i 10开口端的位置，因此在腔体10的外侧壁11上述区间范围内设置减震件20能更有效的减 少锅体的震动。本实施方式中，上述定位凸台112由腔体10的外侧壁11沿径向向外凸出 形成，具体地，该定位凸台112沿径向凸出的高度区间优选为1mm~8mm、沿轴向方向延伸的 宽度区间优选为1mm~20mm ;上述腔体10的壁厚区间优选为0? 3mm至1. 2mm〇 可以理解的是，上述腔体10的结构可以根据实际需要进行设置，本实施例中，如 图所示，优选地，上述腔体10呈一端开口、另一端封闭的圆筒状，所述腔体10的开口端向外 翻折延伸形成扶手部13。具体地，所述腔体一端开口设置，且向内凹陷形成容置腔12 ;所述 腔体10的外侧壁11在靠近开口端处形成设有台阶113,且以所述台阶113为分界线，靠近 所述开口端一侧的外侧壁外径大于另一侧的外侧壁外径。如图1或者图4所示，该腔体10 的外侧壁11呈圆台状设置，且上部的外径大于下部的外径，应当说明的是，本实施例中该 腔体10还可以采用其他结构，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种锅体，其特征在于，所述锅体用于电磁烹饪锅具中，所述锅体包括腔体和具有弹性的减震件，所述减震件设于所述腔体的外侧壁上，且所述减震件与所述腔体固定连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：梅若愚，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，美的集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44