磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明专利技术的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在磁盘用玻璃基板的镜面研磨工序后，进行使玻璃基板与清洗液接触的清洗处理，该清洗液对玻璃基板具有蚀刻性并含有胍和咪唑中的至少一种。另外，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行清洗处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及搭载于硬盘驱动器（HDD)等磁盘装置的磁盘用玻璃基板的制造方法 和磁盘的制造方法。
技术介绍
作为搭载于硬盘驱动器（HDD)等磁盘装置的一种信息记录介质，存在磁盘。磁盘 是在基板上形成磁性层等薄膜而构成的，作为该基板过去一直使用铝基板。但是，最近，随 着记录的高密度化的要求，与铝基板相比玻璃基板能够使磁头和磁盘之间的间隔变得更 窄，因此玻璃基板所占有的比例逐渐升高。另外，对玻璃基板表面高精度地进行研磨以使磁 头的悬浮高度尽量下降，由此实现记录的高密度化。近年来，对HDD越来越多地要求更大的 存储容量化，为了实现这样的目的，磁盘用玻璃基板也需要进一步的高品质化，要求为更平 滑且洁净的玻璃基板表面。 如上所述，为了对于记录的高密度化所必须的低飞行高度（悬浮量）化，磁盘表面 必须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求具有高平滑性的基板表面，因 此需要对玻璃基板表面进行高精度的研磨，但仅仅如此是不够的，还需要通过研磨后的清 洗去除基板表面的附着异物，得到洁净的基板表面。 作为现有的方法，例如，专利文献1中公开了一种方法，其中，在利用含有多元胺 的研磨液进行研磨后，对基板进行碱（PH8~13)清洗。另外，专利文献2中公开了一种方 法，其中，在研磨后用含有碱性试剂、醛糖酸类的PHlO以上的碱性清洗剂对基板进行清洗。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2012-107226号公报 专利文献2 :日本特开2010-86563号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 现在的HDD能够实现一平方英寸500千兆比特程度的记录密度，例如，1枚2. 5英 寸型（直径65mm)的磁盘能够存储320千兆字节程度的信息，但是要求实现记录的更高密 度化、例如375~500千兆字节、进而1百万兆字节。伴随着这种近年来的HDD的大容量化 的要求，提高基板表面品质的要求也比迄今为止更加严格。在面向上述那样的例如375~ 500千兆字节的磁盘的下一代基板中，由于基板对介质特性所产生的影响变大，因此不仅是 基板表面的粗糙度，而且在不存在异物附着等导致的表面缺陷的方面也要求对现有产品进 行进一步的改善。 在下一代基板中基板对介质特性所产生的影响变大是基于下述理由。 可以举出磁头的悬浮量（磁头与介质（磁盘）表面的间隙）的大幅降低（低悬浮 量化）。这样一来，磁头与介质的磁性层的距离接近，因此能够拾取更小的磁性颗粒的信号， 能够实现记录的高密度化。近年来，为了实现现有以上的低悬浮量化，使磁头搭载了被称为 DFH(Dynamic Flying Height，动态飞行高度）的功能。该功能是在磁头的记录再生元件部 的附近设置极小的加热器等加热部，仅使记录再生元件部周边向介质表面方向突出。可以 预计：今后，通过该DHl功能，磁头的元件部与介质表面的间隙变得极小，小于2nm或小于 lnm。在这种状况下，使基板表面的平均粗糙度变得极小，结果可知：若存在以往未成为问题 的极小的异物（例如小的物质，在主表面的面内方向的长度为IOnm~40nm左右）的附着 等所引起的略呈凸状的程度的表面缺陷，则直接在介质表面形成凸状缺陷，因而磁头碰撞 的危险性提尚。 另外，根据本专利技术人的研究，可知：即便使用以上述专利文献中公开的方法为代表 的现有的各种精密研磨技术、精密清洗技术，或者单纯对它们进行组合使用，也无法兼顾清 洗后的低粗糙度和高洁净度。 伴随着近年来的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品质的要求也比迄今为止 更加严格，通过现有的改善方法来实现基板表面品质的进一步提高存在极限。需要说明的 是，此处碱性试剂是指在溶解于水中时显示出碱性的物质。 本专利技术是为了解决这样的现有问题而进行的，其第一目的在于提供一种磁盘用玻 璃基板的制造方法，该制造方法能够尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶 化而进行清洗处理，其结果，可以实现低粗糙度（高平滑性）；第二目的在于提供一种能够 实施高度洁净的清洗的磁盘用玻璃基板的制造方法。 用于解决课题的方案 为了提高基板的洁净度，需要将粘着于基板表面的异物清洗除去，为此，在使用pH 高（碱性强）的碱性试剂进行清洗时可以实现高洁净度，因而是优选的。这是因为，在碱性 度高的碱性试剂的情况下，玻璃的表面被蚀刻，因此即使是粘着的异物，也可以彻底除去。 但是，在现有的碱性清洗的情况下，碱性度越高则对玻璃的蚀刻效果越大，因而基板表面的 粗糙度因碱性清洗而上升，无法维持通过精密研磨所得到的超平滑的表面粗糙度。于是，本 专利技术人摸索出了下述方法：在维持由碱性清洗所得到的清洗力的同时，可抑制基板的表面 粗糙度上升。其结果，查明了 ：通过使用特定的碱性试剂，特异性地抑制了粗糙度上升。 另外，还发现：不仅是清洗中使用的碱性试剂的碱性度，与OH离子形成对的阳离 子的种类有时也会对粗糙度上升量产生大幅影响。此外查明：清洗后的表面粗糙的程度还 因有机碱剂的种类或产品批次而不同的情况取决于清洗液中存在的钠离子或钾离子的量 不同的影响。此处，四甲基氢氧化铵（TMH)等有机碱原本不含有钠或钾的离子中的任一 种，但认为在工业制造过程中会不可避免地混入钠或钾等，查明了这与玻璃基板的表面粗 糖有关。 本专利技术人基于所得到的这些技术思想进一步进行了深入研究，结果完成了本发 明。 即，本专利技术具有以下的构成。 (构成 1) -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基 板的制造方法，其特征在于，上述清洗处理包括使上述玻璃基板与含有胍和咪唑中的至少 一种的清洗液接触的处理，预先求出上述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度（Ra) 相对于上述清洗处理前的增大量、和用于上述清洗处理的清洗液中的钠离子与钾离子的总 浓度的关系，基于所求出的上述关系，决定上述表面粗糙度（Ra)的增大量达到0. 06nm以下 的上述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度，在上述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度 为上述决定的浓度以下的条件下，进行主表面经镜面研磨的上述玻璃基板的清洗处理。 (构成 2) -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基 板的制造方法，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，使 用含有胍和咪唑中的至少一种的清洗液，按照上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量不达 到200ppm以上的方式一边更换上述清洗液的至少一部分，一边进行主表面经镜面研磨的 上述玻璃基板的清洗处理。 (构成 3) -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基 板的制造方法，其特征在于，上述清洗处理包括使上述玻璃基板与含有胍和咪唑中的至少 一种的清洗液接触的处理，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm， 一边进行上述清洗处理。 (构成 4) 如构成1~3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述玻璃 基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分。 (构成 5) 如构成1~4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述清洗 液进一步含有表面活性剂、螯合剂以及分散剂中的至少一种物质，一边抑制上述清洗液中 的钠离子和钾离子的总量小于200ppm本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理包括使所述玻璃基板与含有胍和咪唑中的至少一种的清洗液接触的处理，预先求出所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)相对于所述清洗处理前的增大量、和用于所述清洗处理的清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度的关系，基于所求出的所述关系，决定所述表面粗糙度(Ra)的增大量达到0.06nm以下的所述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度，在所述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度为所述决定的浓度以下的条件下，进行主表面经镜面研磨的所述玻璃基板的清洗处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：德光秀造，神谷尚宏，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP