水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法技术

本发明专利技术属于水稻栽培技术领域,具体涉及一种水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法。通过施肥旱起垄机械进行旱起垄；旱起垄的垄底7宽度为50至60厘米,镇压后的垄高6为11至13厘米,镇压后的垄面4宽度为30至40厘米；苗带2的双侧分布有深肥带3及浅肥带1，深肥带3距垄面4的高度为6至8厘米，深肥带3距苗带2的宽度为8至15厘米，浅肥带1距垄面4的高度为3至5厘米，浅肥带1距苗带2的宽度为3厘米；旱起垄后进行泡田，泡田后进行垄上机插双行,机插后双行苗带2之间的距离为16至30厘米；所述的深肥带3施有缓效肥，浅肥带1施有速效肥。本发明专利技术节约肥料，培肥土壤，抢抓农时，高效增产，省时省力，降低成本。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
:本专利技术属于水稻栽培
，具体涉及一种。
技术介绍
:水稻是我国最主要的粮食作物之一，粳稻以其优良的品质倍受欢迎。黑龙江省自2004年以来水稻种植面积迅速扩大，成为全国栽培面积最大、生态环境最好的优质粳稻主产区，至2015年种植面积已达到433万公顷，为国家粮食安全和黑龙江省的经济发展做出了巨大贡献。然而，为不断追求高产，人们考虑的是水稻地上部的生育状况，主要从品种选择、群体结构、不断增大施肥量等进行研究和应用，我们前期进行了旱整地、旱起垄，垄上人工摆栽的探素，因肥效均衡性较差和人工摆栽成本过高无法而在生产中推广。人们关于耕作方式、施肥方式及作业标准对土壤培肥、肥料利用率、土壤结构、土壤通透性、节本增效等的影响研究较少，在寒地的研究更少。当前水稻的耕作栽培方式主要是秋翻秋旋或春旋一春泡田一水整地搅楽平地一基肥全层施至O-1Ocm耕层一平作机械插秧。这过程中水整地搅浆平地是将土壤搅成糊状，导致泥浆过细、破坏土壤团粒结构、沉降时间长且使土壤坚实度增大、土壤致密通透性明显变差，障碍了水稻的生长发育；全层大量施用化肥导致肥料利用率大大降低，污染环境，且肥沃的黑土地逐渐贫瘠、板结；泡田整地至插秧时间长，造成水资源浪费；平作根茬和杂草漂浮于田面，易在人工插秧或机插秧时发生拖堆，或缠绕在秧苗上，农民必须将根茬捞起放置在水田池埂上，才能进行插秧作业，不但费工费时还减少了秸杆还田量，不利于培肥土壤，平作也不利于寒地土壤增温。因此，水田现有的耕作栽培措施已严重制约了水稻的产量和稻米的品质，不利于农业部提出的“三减”栽培，更不利于水稻的高效安全生产和农业的可持续发展。基于这样严峻的现实，必须进行水稻耕作栽培技术的变革。我们在多年研究的基础上，创新了耕作栽培模式，形成了在秋翻秋旋或春旋地的基础上，秋季或春季旱整平、旱起垄、苗带双侧双深分类(浅速效深缓效)施肥，垄上机插双行的高效栽培新技术体系。
技术实现思路
:本专利技术填补了水稻旱起垄双侧双深分类施肥垄上机插双行的高效栽培方法的空白，提供了一种节约肥料、高效增产、省时省力、降低成本、经济适用的一种，可以水稻种植上大规模地推广和使用。本专利技术采用的技术方案为:一种，具体的栽培方法为:在秋翻秋旋或春旋地的基础上，由水整地搅浆平地变为旱整地，由平作改为垄作，通过施肥旱起垄机械进行旱起垄；旱起垄的垄底宽度为50至60厘米，镇压前的垄高为14至16厘米，镇压后的垄高为11至13厘米，镇压后的垄面宽度为30至40厘米；在旱起垄的过程中，对苗带的双侧进行双深分类施肥，苗带的双侧分布有深肥带及浅肥带，深肥带距垄面的高度为6至8厘米，深肥带距苗带的宽度为8至15厘米，浅肥带距垄面的高度为3至5厘米，浅肥带距苗带的宽度为3厘米；旱起垄后进行泡田，泡田后进行垄上机插双行，机插后双行苗带之间的距离为16至30厘米。所述的深肥带施有缓效肥，浅肥带施有速效肥。本专利技术的有益效果:节约肥料，培肥土壤，抢抓农时，高效高光效增产，省时省力，降低成本，经济适用，可以在水稻种植上大规模地推广。其主要优点如下:1)、由水整地搅浆平地变为旱整地，由平作改为垄作，水田旱整平、旱起垄，免除水整地搅浆平地，保护土壤结构及增强土壤通透性利于根系发育，同时垄作增温促进生长，提高产量，高效增产。2)、基肥由全层施用变为苗带双侧双深分类施肥(浅施速效氮、深施缓效氮)，基肥由全层施在O-1Ocm深度范围内到集中分别施在土表下3-5cm和6-8cm两个深度，形成垄上一深二浅的三条肥带，一条深施肥带包括缓效氮肥施于垄体正中间深6-8cm处，二条浅施肥带包括速效氮肥施于垄上距深施肥带两侧各Il-1Scm的深3-5cm处；一垄三肥带分层分类、速缓结合，上层速效下层缓效，减少肥料浪费，极大地提高肥料利用率，同时可为水稻均衡持续供肥及保护环境，设计合理，节约肥料，经济适用。3)、垄作可以免捞稻茬培肥土壤，同时减少用工，省时省力。4)、垄上机插双行，行距16-30cm，标准高效高光效，垄上双行间为深施肥带，双行外侧为浅施肥带，可提高光能利用率，实现高效高光效增产，经济适用。5)、由常规栽培的秋翻秋旋或春旋一春泡田一水整地搅浆平地一基肥全层施至O-1Ocm耕层一平作机械插秧，变为秋翻秋旋或春旋一秋季或春季旱整平、旱起垄同时苗带双侧双深分类(浅施速效氮、深施缓效氮)施肥一泡田一垄上机插双行，减少了土地的机械作业次数，极大地缩短了作业时间，降低了作业成本，提高作业标准，极大地缓解春季集中用工农时紧张的现状，利于实现水稻的优质高产高效安全生产，高效增产。【附图说明】:图1是本专利技术的结构示意图。【具体实施方式】:参照图1，一种，具体的栽培方法为:在秋翻秋旋或春旋地的基础上，由水整地搅浆平地变为旱整地，由平作改为垄作，通过施肥旱起垄机械进行旱起垄；旱起垄的垄底7宽度为50至60厘米，镇压前的垄高5为14至16厘米，镇压后的垄高6为11至13厘米，镇压后的垄面4宽度为30至40厘米；在旱起垄的过程中，对苗带2的双侧进行双深分类施肥，苗带2的双侧分布有深肥带3及浅肥带I，深肥带3距垄面4的高度为6至8厘米，深肥带3距苗带2的宽度为8至15厘米，浅肥带I距垄面4的高度为3至5厘米，浅肥带I距苗带2的宽度为3厘米；旱起垄后进行泡田，泡田后进行垄上机插双行宽窄行，机插后双行苗带2之间的距离为16至30厘米；所述的深肥带3施有缓效肥，浅肥带I施有速效肥。由水整地搅浆平地变为旱整地，由平作改为垄作，水田旱整平、旱起垄，免除水整地搅浆平地，保护了土壤结构及增强土壤通透性，十分利于根系发育，同时垄作增温促进早生分蘖利于生长，提高产量；基肥由全层施用变为苗带双侧双深分类施肥(浅施速效氮、深施缓效氮)，基肥由全层施在O-1Ocm深度范围内到集中分别施在土表下3-5cm和6_8cm两个深度，形成垄上一深二浅的三条肥带，一条深施肥3带包括缓效氮肥施于垄体正中间深6-8cm处，二条浅施肥带I包括速效氮肥施于垄上距深施肥带两侧各I 1-1Scm的深3-5cm处；一垄三肥带分层分类、速缓结合，上层速效下层缓效，大大减少了肥料浪费，极大地提高肥料利用率，同时又可为水稻均衡持续供肥及保护环境；垄作可以免捞稻茬培肥土壤，同时减少用工，省时省力。由常规平作插秧变为垄上机插双行宽窄行，行距16-30cm，垄上双行间为深施肥带，双行外侧为浅施肥带，标准高效高光效增产。由常规栽培的秋翻秋旋或春旋一春泡田一水整地搅浆平地一基肥全层施至O-1Ocm耕层一平作机械插秧，变为秋翻秋旋或春旋一秋季或春季旱整平、旱起垄同时苗带双侧双深分类(浅施速效氮、深施缓效氮)施肥一泡田一垄上机插双行，减少了土地的机械作业次数，极大地缩短了作业时间，降低了作业成本，提高作业标准，提早作业抢农时，极大地缓解春季集中用工农时紧张的现状，利于实现水稻的优质高产高效安全生产。本专利技术节约肥料，培肥土壤，抢抓农时，高效高光效增产，省时省力，降低成本，经济适用，是一项十分有利于农业可持续发展的高效栽培方法，可以在水稻种植上大规模地推广。【主权项】1.一种，其特征在于:具体的栽培方法为在秋翻秋旋或春旋地的基础上，由水整地搅浆平地变为旱整地，由平作改为垄作，通过施肥旱起垄机械进行旱起垄；旱起垄的垄底(7)宽度为50至本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法，其特征在于：具体的栽培方法为在秋翻秋旋或春旋地的基础上，由水整地搅浆平地变为旱整地,由平作改为垄作,通过施肥旱起垄机械进行旱起垄；旱起垄的垄底（7）宽度为50至60厘米,镇压前的垄高（5）为14至16厘米,镇压后的垄高（6）为11至13厘米,镇压后的垄面（4）宽度为30至40厘米；在旱起垄的过程中，对苗带（2）的双侧进行双深分类施肥，苗带（2）的双侧分布有深肥带（3）及浅肥带（1），深肥带（3）距垄面（4）的高度为6至8厘米，深肥带（3）距苗带（2）的宽度为8至15厘米，浅肥带（1）距垄面（4）的高度为3至5厘米，浅肥带（1）距苗带（2）的宽度为3厘米；旱起垄后进行泡田，泡田后进行垄上机插双行,机插后双行苗带（2）之间的距离为16至30厘米。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑桂萍，李红宇，吕艳东，殷大伟，刘梦红，刘丽华，郭晚红，钱永德，王海泽，汪秀志，
申请(专利权)人：黑龙江八一农垦大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23