一种光取向装置以及光取向方法，在光取向处理中，进一步提高生产率，进一步提高质量。在两个工作台(21、22)上载置基板(S)，以使得通过由照射单元(1)照射偏振光的照射区域(R)的方式利用工作台移动机构(3)使两个工作台(21、22)交替地往复移动。控制工作台移动机构(3)的控制单元(4)在各工作台(21、22)通过照射区域(R)时维持慢的速度即恒定的设定通过速度，对于第一工作台(21)在第一基板搭载回收位置与照射区域(R)之间的移动以及第二工作台(22)在第二基板搭载回收位置与照射区域(R)之间的移动，使其以快的速度即设定搬运速度进行移动。
【技术实现步骤摘要】
本申请的专利技术涉及作为获得取向膜的方法而公知的光取向的技术。
技术介绍
近年来，在获得以液晶面板为首的液晶显示元件的取向膜、视场角补偿薄膜的取向层时，采用通过光照射来进行取向的被称为光取向的技术。以下，将通过光照射产生取向的膜、层统称为光取向膜。此外，“取向”乃至“取向处理”是指对对象物的某一性质赋予方向性。光取向通过对光取向膜用的膜(以下称为膜材料)照射偏振光来进行。膜材料例如是聚酰亚胺那样的树脂制，在所希望的方向(应取向的方向)偏振的偏振光照射至膜材料。通过规定波长的偏振光的照射，膜材料的分子构造(例如侧链)形成为与偏振光的方向一致的状态，得到光取向膜。光取向膜与其所被使用的液晶面板的大型化一起大型化。并且，为了从一张液晶基板生产多个液晶显示元件，作为处理对象物的液晶基板大型化，伴随于此，需要针对大的对象区域进行光取向处理。由于这样的情况，在光取向中要求的偏振光的照射区域的宽度宽幅化而达到1500mm乃至1500mm以上。作为在这样的宽度宽的照射区域中照射偏振光的光取向装置，例如存在专利文献I所公开的装置。该装置具备:长度与照射区域的宽度相当的棒状的光源，以及使来自该光源的光偏振的线栅偏振元件，对沿与光源的长边方向正交的方向被搬运的膜材料照射偏振光。专利文献1:日本特许第5344105号公报在这样的光取向装置中，作为工件，存在为膜材料连续相连的长条状工件的情况，和工件为膜材料已经设置于基板上的带膜材料的基板的情况。其中，专利文献I中公开了如下的技术:将设置有膜材料的液晶显示元件用的基板作为工件配置于工作台，使工作台移动从而基板通过照射区域，由此来进行光取向。该文献的装置使用两个工作台，使其交替地通过照射区域并进行偏振光照射，因此，能够实现基于生产间隔时间的缩短的高生产率。
技术实现思路
本申请的专利技术所要解决的课题在于，在一并考虑实现上述专利文献I所公开的基于生广间隔时间缩短的尚生广率工序的基础上，进一步提尚生广率，或者进一步提尚光取向处理的品质。为了解决上述课题，本申请的技术方案I所记载的专利技术具有如下结构:具备:照射单元，对所设定的照射区域照射在规定的方向偏振的偏振光；工作台，载置基板；以及工作台移动机构，通过使工作台以通过照射区域的方式移动而使得偏振光照射至工作台上的基板，作为工作台设置有第一工作台、第二工作台这两个工作台，工作台移动机构使第一工作台从设定于照射区域的一侧的第一基板搭载位置移动至照射区域，并且使第二工作台从设定于照射区域的另一侧的第二基板搭载位置移动至照射区域，工作台移动机构在第一工作台上的基板通过照射区域后使第一工作台朝一侧返回而使其位于第一基板回收位置，并且在第二工作台上的基板通过照射区域后使第二工作台朝另一侧返回而使其位于第二基板回收位置，在位于第一基板搭载位置或者第一基板回收位置的第一工作台与照射区域之间确保第二工作台上的基板通过照射区域的量以上的第一退避空间，在位于第二基板搭载位置或者第二基板回收位置的第二工作台与照射区域之间确保第一工作台上的基板通过照射区域的量以上的第二退避空间，设置有控制工作台移动机构的控制单元，在控制单元中，作为基板通过照射区域时的速度设定有设定通过速度，控制单元针对第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第一基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制，并且针对第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第二基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制，第一工作台、第二工作台在移动时对基板进行真空吸附而保持基板，控制单元在第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动中进行使移动的速度为每秒300mm以上600mm以下的控制。并且，为了解决上述课题，技术方案2所记载的专利技术具有如下结构:在上述技术方案I的结构中，上述设定通过速度被设定为恒定的速度，上述控制单元进行如下的控制:在从上述第一基板搭载位置到上述照射区域的去路移动中，在上述第一工作台上的基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域之前使上述第一工作台的速度减速至上述设定通过速度，在从该基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域开始直至移动方向后方边缘通过上述照射区域为止的期间维持上述设定通过速度，在该基板的移动方向后方边缘通过上述照射区域后进行减速以便朝上述一侧返回，上述控制单元进行如下的控制:在从上述第二基板搭载位置到上述照射区域的去路移动中，在上述第二工作台上的基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域之前使上述第二工作台的速度减速至上述设定通过速度，在从该基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域开始直至移动方向后方边缘通过上述照射区域为止的期间维持上述设定通过速度，在该基板的移动方向后方边缘通过上述照射区域后进行减速以便朝上述另一侧返回。并且，为了解决上述课题，技术方案3所记载的专利技术具有如下结构:在技术方案2的结构中，上述照射单元在上述第一工作台、第二工作台进行去路移动时和归路移动时的双方对上述各工作台上的基板照射偏振光，在上述控制单元中，上述第一工作台进行去路移动时的设定通过速度和上述第一工作台进行归路移动时的设定通过速度被设定为相同的速度，上述第二工作台进行去路移动时的设定通过速度和上述第二工作台进行归路移动时的设定通过速度被设定为相同的速度。并且，为了解决上述课题，技术方案4所记载的专利技术具有如下结构:在上述技术方案3的结构中，在上述控制单元中，上述第一工作台从上述第一基板搭载位置到上述照射区域的移动的速度和从上述照射区域到上述第一基板回收位置的移动的速度，被设定为相同的速度，上述第二工作台从上述第二基板搭载位置到上述照射区域的移动的速度和从上述照射区域到上述第二基板回收位置的移动的速度，被设定为相同的速度，上述第一工作台在去路移动中到达上述照射区域时的朝上述设定通过速度的朝上述设定通过速度的减速和上述第一工作台在归路移动中通过上述照射区域后的从上述设定通过速度的加速被设定为相同的斜度，上述第二工作台在去路移动中到达上述照射区域时的朝上述设定通过速度的朝上述设定通过速度的减速和上述第二工作台在归路移动中通过上述照射区域后的从上述设定通过速度的加速被设定为相同的斜度。并且，为了解决上述课题，技术方案5所记载的专利技术具有如下结构:在上述技术方案4的结构中，在上述控制单元中，上述第一工作台从上述第一基板搭载位置到上述照射区域的移动的速度和从上述照射区域到上述第一基板回收位置的移动的速度，被设定为相同的速度，上述第二工作台从上述第二基板搭载位置到上述照射区域的移动的速度和从上述照射区域到上述第二基板回收位置的移动的速度，被设定为相同的速度，上述第一工作台在去路移动中到达上述照射区域时的朝上述设定通过速度的减速和上述第一工作台在归路移动中通过上述照射区域后的从上述设定通过速度的加速被设定为相同的斜度，上述第二工作台在去路移动中到达上述照射区域时的朝上述设定通过速度的减速和上述第二工作台在归路移动中通过上述照射区域后的从上述设定通过速度的加速被设定为相同的斜度。并且，为了解决上述课题，技术方案6所记载的专利技术具有如下结构:具备:照射工序，对所设定的照射区域照射在规定的方向偏振的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光取向装置，其特征在于，具备：照射单元，对所设定的照射区域照射在规定的方向偏振的偏振光；工作台，载置基板；以及工作台移动机构，通过使工作台以通过照射区域的方式移动而使偏振光照射至工作台上的基板，作为工作台设置有第一工作台、第二工作台这两个工作台，工作台移动机构使第一工作台从设定于照射区域的一侧的第一基板搭载位置移动至照射区域，并且使第二工作台从设定于照射区域的另一侧的第二基板搭载位置移动至照射区域，工作台移动机构在第一工作台上的基板通过照射区域后使第一工作台朝一侧返回而使其位于第一基板回收位置，并且在第二工作台上的基板通过照射区域后使第二工作台朝另一侧返回而使其位于第二基板回收位置，在位于第一基板搭载位置或者第一基板回收位置的第一工作台与照射区域之间确保第二工作台上的基板通过照射区域的量以上的第一退避空间，在位于第二基板搭载位置或者第二基板回收位置的第二工作台与照射区域之间确保第一工作台上的基板通过照射区域的量以上的第二退避空间，设置有控制工作台移动机构的控制单元，在控制单元中，作为基板通过照射区域时的速度而设定有设定通过速度，控制单元针对第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第一基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制，并且针对第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第二基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制，第一工作台、第二工作台在移动时对基板进行真空吸附而保持基板，控制单元在第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动中进行使移动的速度为每秒300mm以上600mm以下的控制。...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：石井一正，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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