植物生长调节化合物制造技术

本发明专利技术涉及新颖的斯特里格拉克塔姆(strigolactam)衍生物，涉及用于制备它们的方法与中间体，涉及包括它们的植物生长调节剂组合物，并且涉及将它们用于控制植物生长和/或促进种子萌发的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】植物生长调节化合物 本专利技术涉及新颖的杂环衍生物，涉及用于制备它们的方法与中间体，涉及包括它 们的植物生长调节剂组合物，并且涉及将它们用于控制植物生长和/或促进种子萌发的方 法。 独脚金内酯衍生物是具有植物生长调节以及种子萌发特性的植物激素；它们已经 被描述于，例如，在 WO 2009/138655、W0 2010/125065、W0 2005/077177、W0 2006/098626、 以及Molecular Plant (《分子植物》)2013, 6, 18-28中。独脚金内酯衍生物，像合成的类似 物GR24,已知对寄生杂草（诸如列当属物种）的萌发具有影响。在本领域中，已经确定对 列当属种子的萌发进行的测验是一项有用的测验，以便于鉴别独脚金内酯类似物（例如， 参见Plant and Cell Physiology (《植物与细胞生理学》）（2010)，51 (7)第1095页；以及 Organic&Biomolecular Chemistry (《有机 & 生物分子化学》）（2009)，7 (17)，第 3413 页）。 最近，已经报道简化的衍生物具有独脚金内酯活性，如例如在W0 2011/125714或 在TO 2012/043813中。在对植物进行的生物测定中，这些衍生物保持与GR-24和天然独 脚金内酯相似的活性，抑制寄生杂草种子的芽长出或发芽（Molecular Plant (《分子植 物》）2013, 6, 88-99)。 独脚金内酯的丁烯羟酸内酯环被认为是独脚金内酯化合物的一个重要部分。 在过去，这个基团的修饰已经导致萌发活性的损失（Journal Agriculture and Food Chemistry (《农业与食品化学杂志》）1997, 2284-2290)或对植物构型控制的损失（Plant Physiol.(《植物生理学》）2012, 159, 1524-1544)。最近，还已经提出a水解酶（在 水稻中的D14或在矮牵牛中的DAD2)充当独脚金内酯受体并且这个蛋白水解独脚金内酯 丁烯羟酸内酯环（《当代生物学》2012, 22, 2032-2036以及Genes to Cell (《基因到细 胞》）2013, 18, 147-160) 与现有技术的传授内容相反，现在已经出人意料地发现某些具有修饰的丁烯羟酸 内酯环的杂环衍生物具有至少与独脚金内酯一样良好的特性。这些新颖化合物可以导致改 进的植物生长特性、更快的萌发、更早的萌发和/或降低的毒性。 根据本专利技术，提供了一种具有化学式（I)的化合物 其中 W选自0、S、S0或 S02; R1和R2独立地选自H、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、卤素、C1-C6烷氧基、芳氧基、 C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷硫基； 或R1和R2形成一个C5或C6环烷基； R3选自H、C1-C6烷基（任选地被一个至五个R4取代）、羟基、C1-C6烷氧基、氰 基、硝基、C1-C6磺酰烷基、乙酰基、C1-C6烷氧基羰基、C3-C6环烷基（任选地被R4取代）、 C2-C6烯基（任选地被一个至五个R4取代）、C2-C6炔基（任选地被一个至五个R4取代）、 C3-C6杂环基（任选地被一个至五个R4取代）； 或R3选自各自任选地被C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3烷基烷氧基、氰基、硝 基、卤素或被C1-C3卤代烷基取代的苄基或芳基； 其中R4选自卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、氰基或硝基； 并且Q选自⑴或（ii)之一： \0 其中X选自H、C1-C3烷基、卤素、C1-C3烷氧基、C1-C3烷氧基烷基、C1-C3卤代烷 基、C1-C3氰基烷基、氰基、硝基、C1-C3烷基羰基、C1-C3烷氧基羰基、羧基、C1-C3磺酰烷基、 C2-C3炔基、乙酰氧基、苯基或被C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷基氰 基或被氰基取代的苯基； R8选自C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、卤素、C1-C3卤代烷基、氰基和硝基；并且 n 选自 0 到 4; ii)(ii) 其中Y选自0或S; R5选自氢或C1-C6烷基； R6选自C1-C6烷基（任选地被卤素取代）、C1-C3烷氧基、氰基、硝基；或 R6是各自任选地被R9取代的芳基或杂芳基；并且 其中R9选自卤素、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、氰基或硝基； 或者其盐或N-氧化物； 其条件是： a)当R1和R2形成一个C6环烷基时，那么R3不可以是经取代的苯基；或 b)当R1和R2形成一个C6环烷基并且Q是（ii)时，那么R3不可以是经取代或未 经取代的杂芳基；或 c)当R1和R2两者都是甲基，W是0并且Q是（ii)时，那么R3不可以是经取代的 杂芳基或经取代的苯基或未经取代的杂芳基；或 d)当R1和R2两者都是甲基，W是0并且Q是一个未经取代的苯基时，那么R3不 可以是苄基；或 e)当R1和R2两者都是甲基，W是S并且Q是⑴时，那么R3不可以是苄基、丁 基、经取代的杂芳基或经取代的苯基；或 f)当R1和R2两者都是氯，W是S并且Q是一个未经取代的苯基时，那么R3不可 以是2, 4-二甲氧苄基；或 g)当R1和R2两者都是氢，W是S并且Q是一个未经取代的苯基时，那么R3不可 以是叔丁氧基幾基；或 h)当W是S02并且Q是⑴时，那么R3不可以是H或叔丁氧基幾基。 具有化学式（I)的化合物能以不同的几何或光学异构体（非对映异构体以及对映 异构体）或互变异构的形式存在。本专利技术涵盖了所有的此类异构体以及互变异构体以及它 们的处于所有比例的混合物，连同同位素形式，诸如氘化的化合物。本专利技术还覆盖了具有化 学式（I)的化合物的所有的盐、N-氧化物、以及类金属的络合物。 每个烷基部分单独的或者作为一个更大基团的一部分（诸如烷氧基、烷氧基-羰 基、烷基羰基、烷基氨基羰基、二烷基氨基羰基）是直链或支链，并且是例如甲基、乙基、正 丙基、正丁基、正戊基、正己基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、或新戊基。这些烷 基基团优选地是(；-(： 6烷基基团，更优选地是Ci-C4并且最优选地是Ci-C3烷基基团。 每个烯基部分单独的或作为一个更大的基团的一部分（诸如烯氧基、烯氧基羰 基、烯基羰基、烯基氨基羰基、二烯基氨基羰基）具有至少一个碳碳双键，并且是例如乙烯 基、烯丙基。这些烯基基团优选是(： 2至C6烯基基团，更优选是C2_C4烯基基团。 如在此使用的术语"烯基"，除非另外指明，包括具有至少一个碳碳双键的烷基部 分，其中烷基是如以上定义的。 术语"乙酰氧基"是指-0C( = 0)ch3。 每个炔基部分单独的或者作为一个更大的基团的一部分（诸如炔氧基、炔氧基羰 基、炔基羰基、炔基氨基羰基、二炔基氨基羰基）具有至少一个碳碳三键，并且是例如，乙炔 基、炔丙基。这些炔基基团优选是(： 2至C6炔基基团，更优选是c2-c4炔基基团。 如在此使用的术语"炔基"，除非另外指明，包括具有至少一个碳碳三键的烷基部 分，其中烷基是如以上定义的。 卤素是氟（F)、氯（C1)、溴（Br)或碘⑴。 卤代烷基基团（单独的或者作为一个更本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有化学式(I)的化合物其中：W选自O、S、SO或SO2；R1和R2独立地选自H、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、卤素、C1‑C6烷氧基、芳氧基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6烷硫基；或R1和R2形成一个C5或C6环烷基；R3选自H、任选地被一个至五个R4取代的C1‑C6烷基、羟基、C1‑C6烷氧基、氰基、硝基、C1‑C6磺酰烷基、乙酰基、C1‑C6烷氧基羰基、任选地被R4取代的C3‑C6环烷基、任选地被一个至五个R4取代的C2‑C6烯基、任选地被一个至五个R4取代的C2‑C6炔基、任选地被一个至五个R4取代的C3‑C6杂环基；或R3选自各自任选地被C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3烷基烷氧基、氰基、硝基、卤素或被C1‑C3卤代烷基取代的苄基或芳基；其中R4选自卤素、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3烷氧基、氰基或硝基；Q选自(i)或(ii)之一：其中X选自H、C1‑C3烷基、卤素、C1‑C3烷氧基、C1‑C3烷氧基烷基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3氰基烷基、氰基、硝基、C1‑C3磺酰烷基、C2‑C3炔基、乙酰氧基、C1‑C3烷基羰基、C1‑C3烷氧基羰基、羧基、苯基或被C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3烷基氰基或被氰基取代的苯基；R8选自C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、卤素、C1‑C3卤代烷基、氰基和硝基；并且n选自0到4；ii)其中Y选自O或S；R5选自氢或C1‑C6烷基；R6选自任选地被卤素取代的C1‑C6烷基、C1‑C3烷氧基、氰基、硝基；或R6是各自任选地被R9取代的芳基或杂芳基；其中R9选自卤素、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、氰基、或硝基；或者其盐或N‑氧化物；其条件是：a)当R1和R2形成一个C6环烷基时，那么R3不可以是经取代的苯基；或b)当R1和R2形成一个C6环烷基并且Q是(ii)时，那么R3不可以是经取代或未经取代的杂芳基；或c)当R1和R2两者都是甲基，W是O并且Q是(ii)时，那么R3不可以是经取代的杂芳基或经取代的苯基或未经取代的杂芳基；或d)当R1和R2两者都是甲基，W是O并且Q是一个未经取代的苯基时，那么R3不可以是苄基；或e)当R1和R2两者都是甲基，W是S并且Q是(i)时，那么R3不可以是苄基、丁基、经取代的杂芳基或经取代的苯基；或f)当R1和R2两者都是氯，W是S并且Q是一个未经取代的苯基时，那么R3不可以是2,4‑二甲氧苄基；或g)当R1和R2两者都是氢，W是S并且Q是一个未经取代的苯基时，那么R3不可以是叔丁氧基羰基；或h)当W是SO2并且Q是(i)时，那么R3不可以是H或叔丁氧基羰基。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·D·拉夏，A·德梅斯马克，C·斯克里潘蒂，H·C·沃尔夫，P·J·M·容，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH