一种曝光基台和曝光设备制造技术

本发明专利技术提供一种曝光基台和曝光设备。该曝光基台包括底座以及设置在底座上的多个基台本体和多个举起部，基台本体与举起部交错并间隔设置，基台本体用于承载待曝光基板；举起部用于将待曝光基板传送至基台本体上，基台本体包括靠近举起部设置的第一结构，举起部包括位于其用于与待曝光基板相接触一端的第二结构，第一结构和第二结构相互配合能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上。该曝光基台能使入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小，从而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光基台和曝光设备
本专利技术涉及显示
，具体地，涉及一种曝光基台和曝光设备。
技术介绍
当今社会信息技术高速发展，液晶显示器(TFT-LCD)己经深入人们的日常生活，随着人们对液晶显示技术的更多了解，消费者对液晶显示面板画面品质的要求也在不断提高。这些更高的画质要求促使液晶面板厂商进一步提升技术并开发高技术规格的产品。TFT-LCD面板在生产开发过程中不断出现新的不良现象，如有效显示区域内显示亮度或显示颜色不均匀，该不良也称作显示Mura。显示Mura是一种非常影响液晶显示面板画面品质的不良现象。根据试验获知，上述显示Mura频繁产生于显示基板制备过程中的曝光工艺中，显示Mura在曝光工艺中的产生源于曝光设备中的曝光基台。如图1-图2所示，在显示基板6进行曝光之前，由举起杆32支撑并举起显示基板6，并将显示基板6传送并放置到基台本体2上；在显示基板6进行曝光时，举起杆32落至相邻两基台本体2之间的间隔区域内，然后，曝光设备开始对显示基板6进行曝光。传统曝光基台的基台本体2与举起杆32之间大约有1.5mm的间隙，曝光时，对应照射至间隙中的曝光光线7会直接入射至位于基台本体2下方的底座1上，然后经底座1反射至显示基板6；而对应照射至基台本体2所在区域的曝光光线7会直接入射至基台本体2上，经基台本体2反射至显示基板6，这就导致对应照射至间隙中的曝光光线7经反射后入射至显示基板6的光程差大于对应照射至基台本体2上的曝光光线7经反射后入射至显示基板6的光程差，由于随着曝光光线7光程的加长，曝光光线7的强度会相应衰减，所以最终会导致显示基板6上对应间隙的区域和对应基台本体2的区域曝光不均匀，从而造成两个区域内同一膜层图形出现曝光差异，进而导致宏观上显示基板6有效显示区域的显示亮度或显示颜色不均匀，即显示Mura。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种曝光基台和曝光设备。该曝光基台能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小，进而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀。本专利技术提供一种曝光基台，包括底座以及设置在所述底座上的多个基台本体和多个举起部，所述基台本体与所述举起部交错并间隔设置，所述基台本体用于承载待曝光基板；所述举起部用于将所述待曝光基板传送至所述基台本体上，所述基台本体包括靠近所述举起部设置的第一结构，所述举起部包括位于其用于与所述待曝光基板相接触一端的第二结构，所述第一结构和所述第二结构相互配合能使照射至所述基台本体与所述举起部之间间隔区域的曝光光线照射至所述第一结构上。优选地，所述基台本体还包括远离所述举起部设置的第一支撑台，所述第一结构包括位于所述第一支撑台靠近所述举起部一侧的第二支撑台，所述第一支撑台与所述第二支撑台连接为一体，且所述第二支撑台的高度低于所述第一支撑台；所述举起部包括举起杆和设置在所述举起杆一端的吸盘，所述吸盘用于吸附所述待曝光基板；所述第二结构为所述吸盘，所述吸盘在所述底座上的正投影能覆盖所述第二支撑台与所述举起杆之间的第一间隔区域，且所述吸盘能在曝光时内嵌于与所述举起部相邻的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。优选地，所述吸盘的用于吸附所述待曝光基板的吸附面能在曝光时与所述第一支撑台的所述承载面相平齐。优选地，所述第一支撑台与所述第二支撑台的高度差大于等于所述吸盘的厚度，所述吸盘与所述第一支撑台相对，且所述吸盘与所述第一支撑台之间的间距等于所述第二支撑台与所述举起杆之间的间距。优选地，所述第二支撑台的用于与所述待曝光基板相对的顶面平行于所述底座和所述第一支撑台的所述承载面，且所述第二支撑台的顶面与所述第一支撑台的所述承载面之间的间距小于所述第二支撑台的顶面与所述底座之间的间距。优选地，所述第一结构还包括设置在所述第二支撑台的顶面上的减反射膜层，所述减反射膜层能减少照射到其上的曝光光线的反射量。优选地，所述减反射膜层采用绿色UPE树脂材料。优选地，所述吸盘的用于吸附所述待曝光基板的吸附面采用绿色UPE树脂材料，所述第一支撑台的所述承载面采用陶瓷材料。优选地，所述举起杆能伸缩，所述举起杆用于在传送所述待曝光基板时伸长，并带动所述吸盘沿传送方向移动，以将所述待曝光基板传送到所述第一支撑台上；所述举起杆用于在曝光时缩短，并带动所述吸盘嵌入至相对的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。本专利技术还提供一种曝光设备，包括上述曝光基台。本专利技术的有益效果：本专利技术所提供的曝光基台，通过在基台本体中设置第一结构和在举起部中设置第二结构，能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上，从而使照射至第一结构上的曝光光线发生反射的光程差小于照射至底座的曝光光线发生反射的光程差，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小、并近似等于入射至基台本体承载面上的曝光光线发生反射的光程差，进而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀，提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性。本专利技术所提供的曝光设备，通过采用上述曝光基台，提高了该曝光设备对待曝光基板进行曝光的均匀度，从而提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性，进而提高了该曝光设备的曝光质量。附图说明图1为现有技术中曝光基台中的举起杆将显示基板传送到基台本体上的示意图；图2为图1中曝光基台的结构剖视图；图3为本专利技术实施例1中曝光基台的结构剖视图。其中的附图标记说明：1.底座；2.基台本体；21.第一结构；211.第二支撑台；22.第一支撑台；2111.顶面；212.减反射膜层；3.举起部；31.第二结构；32.举起杆；4.待曝光基板；5.间隔区域；51.第一间隔区域；52.第二间隔区域；6.显示基板；7.曝光光线。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术所提供的一种曝光基台和曝光设备作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种曝光基台，如图3所示，包括底座1以及设置在底座1上的多个基台本体2和多个举起部3，基台本体2与举起部3交错并间隔设置，基台本体2用于承载待曝光基板4；举起部3用于将待曝光基板4传送至基台本体2上，基台本体2包括靠近举起部3设置的第一结构21，举起部3包括位于其用于与待曝光基板4相接触一端的第二结构31，第一结构21和第二结构31相互配合能使照射至基台本体2与举起部3之间间隔区域5的曝光光线照射至第一结构21上。通过在基台本体2中设置第一结构21和在举起部3中设置第二结构31，能使照射至基台本体2与举起部3之间间隔区域5的曝光光线照射至第一结构21上，从而使照射至第一结构21上的曝光光线发生反射的光程差小于照射至底座1的曝光光线发生反射的光程差，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体2与举起部3之间间隔区域5的曝光光线发生反射的光程差减小、并近似等于入射至基台本体2承载面上的曝光光线发生反射的光程差，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光基台，包括底座以及设置在所述底座上的多个基台本体和多个举起部，所述基台本体与所述举起部交错并间隔设置，所述基台本体用于承载待曝光基板；所述举起部用于将所述待曝光基板传送至所述基台本体上，其特征在于，所述基台本体包括靠近所述举起部设置的第一结构，所述举起部包括位于其用于与所述待曝光基板相接触一端的第二结构，所述第一结构和所述第二结构相互配合能使照射至所述基台本体与所述举起部之间间隔区域的曝光光线照射至所述第一结构上。

【技术特征摘要】
1.一种曝光基台，包括底座以及设置在所述底座上的多个基台本体和多个举起部，所述基台本体与所述举起部交错并间隔设置，所述基台本体用于承载待曝光基板；所述举起部用于将所述待曝光基板传送至所述基台本体上，其特征在于，所述基台本体包括靠近所述举起部设置的第一结构，所述举起部包括位于其用于与所述待曝光基板相接触一端的第二结构，所述第一结构和所述第二结构相互配合能使照射至所述基台本体与所述举起部之间间隔区域的曝光光线照射至所述第一结构上；所述基台本体还包括远离所述举起部设置的第一支撑台，所述第一结构包括位于所述第一支撑台靠近所述举起部一侧的第二支撑台，所述第一支撑台与所述第二支撑台连接为一体，且所述第二支撑台的高度低于所述第一支撑台；所述第一结构还包括设置在所述第二支撑台的顶面上的减反射膜层，所述减反射膜层能减少照射到其上的曝光光线的反射量。2.根据权利要求1所述的曝光基台，其特征在于，所述举起部包括举起杆和设置在所述举起杆一端的吸盘，所述吸盘用于吸附所述待曝光基板；所述第二结构为所述吸盘，所述吸盘在所述底座上的正投影能覆盖所述第二支撑台与所述举起杆之间的第一间隔区域，且所述吸盘能在曝光时内嵌于与所述举起部相邻的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。3.根据权利要求2所述的曝光基台，其特征在于，所述吸盘...

【专利技术属性】
技术研发人员：史高飞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11