本发明专利技术提供一种真空设备多载具同时多工处理工艺，其制备一具有表面处理腔的连续式真空工艺设备，并以至少两素材依序进入表面处理腔内，较早进入该表面处理腔的素材恒比较晚进入该表面处理腔的素材更靠近该后段工艺腔，且各素材同时间在该表面处理腔内进行来回且个别的移动，最后各素材再依序离开连续式真空工艺设备，便可在素材上得到任意组合的薄膜结构，通过本发明专利技术各素材同时间可在该表面处理腔内进行来回且个别的移动，可根据不同的薄膜结构设计各素材在表面处理腔内的移动路径，而得到任意组合的薄膜结构，故可利用较低造价的设备得到任意组合的薄膜结构，且同时间可有两片以上的素材在表面处理腔内移动，可有效减少工时、提高产能。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种表面处理真空工艺，尤指一种真空设备多载具同时多工处理工艺。
技术介绍
一般真空设备用于镀膜、刻蚀、表面处理等加工，其应用的领域有半导体、光电、电机、电子、民生用品等产业，过程中都需经过多道工艺处理以便形成不同材质的膜层结构。为了达到高品质、高产能且低成本的操作目标，现有真空设备多为连续式真空设备。现有的连续式真空工艺设备40的结构如图7所示，包括依序连接的一前段工艺腔41、一工艺前缓冲腔42、一工艺腔43、一工艺后缓冲腔44以及一后段工艺腔45，素材由该前段工艺腔41处被送往该后段工艺腔45的方向，其中间经过该工艺腔43时进行表面处理的工艺，如:镀膜、刻蚀等表面处理，而该工艺腔43又可根据不同的表面处理工艺程序而设计成多个相连接的工艺腔，操作过程中，该前段工艺腔41以及该后段工艺腔45可用于抽真空或是破真空，而该工艺前缓冲腔42至该工艺后缓冲腔44的部分仅能进行抽真空。以该连续式真空工艺设备40进行单一素材的单工工艺请参阅图7、图8所示，该连续式真空工艺设备40设有两个工艺腔43 (分别为第一工艺腔43A与第二工艺腔43B)，纵向方向显示为时间方向，首先，第一素材Al位于该前段工艺腔41处，并随着时间的演进而往该后段工艺腔45的方向行进，当第一素材Al完成工艺而离开该后段工艺腔45后，第二素材A2才由该前段工艺腔41处进入该工艺前缓冲腔42内，而第一素材Al未离开该后段工艺腔45之前，第二素材A2 —直位于该前段工艺腔41等待，第三素材A3的行程同第一素材Al与第二素材A2，完成图8所示的工艺的成品为三层的层状结构:底层为素材，其上分别为于第一工艺腔43A与第二工艺腔43B处完成的薄膜，因此，通过素材进行单向移动的方式，便可得到依序堆叠的薄膜，具有工艺单一、产能快等优点，然而，由于需要增加工艺腔43的数量才可提升产能，故却有增加设备购置成本占地空间等缺点。另外，以该连续式真空工艺设备40进行单一素材的多工工艺请参阅图9所示，该连续式真空工艺设备40设有两个工艺腔43 (分别为第一工艺腔43A与第二工艺腔43B)，纵向方向显示为时间方向，首先，第一素材Al位于该前段工艺腔41处，并随着时间的演进往该工艺后缓冲腔44行进、再返回该工艺前缓冲腔42、再前往该工艺后缓冲腔44，最后由该后段工艺腔45离开该连续式真空工艺设备40，在第一素材Al尚未离开该连续式真空工艺设备50之前，第二素材A2 —直在该前段工艺腔41内等待，而第二素材A2与第三素材A3的行程同第一素材Al,将于该第一工艺腔处43A与该第二工艺腔43B处完成的薄膜定义为第一薄膜与第二薄膜，则完成图9所示的工艺的成品为七层的层状结构:底层为素材，其上依序为第一薄膜、第二薄膜、第二薄膜、第一薄膜、第一薄膜以及第二薄膜，因此，通过素材进行来回的移动，便可得到任意组合的薄膜结构，对于任意组合的薄膜结构而言具有设备造价较低的优点，然而，却需要较长的工时，而容易导致产能变慢，因此，所述的单一素材的单工工艺与多工工艺的缺点，实有改善的必要。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种真空设备多载具同时多工处理工艺，以解决现有技术中用于连续式真空工艺设备的工艺的缺点。本专利技术的技术方案是提供一种真空设备多载具同时多工处理工艺，包括有:制备两片以上的素材；制备一连续式真空工艺设备:该连续式真空工艺设备具有依序连接的一前段工艺腔、一表面处理腔以及一后段工艺腔，其中，该表面处理腔具有依序连接的一工艺前缓冲腔、一第一工艺腔、一第二工艺腔以及一工艺后缓冲腔；以及移动素材:将各素材由该前段工艺腔处依序进入该连续式真空工艺设备内，并且较早进入该表面处理腔的素材恒比较晚进入该表面处理腔的素材更靠近该后段工艺腔，其中，各素材同时间在该表面处理腔内进行来回且个别的移动，其中，当各素材通过该第一工艺腔与该第二工艺腔时进行表面处理，最后各素材依序由该后段工艺腔处离开该连续式真空工艺设备。所述的真空设备多载具同时多工处理工艺，其中于制备两片以上的素材的步骤中，总共置备两片素材，且分别定义为第一素材与第二素材；于制备一连续式真空工艺设备步骤中，在表面处理腔的第二工艺腔与工艺后缓冲腔之间进一步置备一第三工艺腔，并且于第一工艺腔与第三工艺腔内进行的相同的表面处理；于移动素材的步骤中:第一素材于前段工艺腔进入表面处理腔，且移动于表面处理腔内的顺序依序为工艺前缓冲腔、工艺后缓冲腔、工艺后缓冲腔、工艺后缓冲腔、第一工艺腔、工艺后缓冲腔、第一工艺腔、第二工艺腔、工艺后缓冲腔、第二工艺腔以及工艺后缓冲腔，最后进入后段工艺腔，并且由后段工艺腔离开连续式真空工艺设备；以及当第一素材第一次位于工艺后缓冲腔内时，第二素材位于前段工艺腔内，当第一素材第二次位于工艺后缓冲腔内，第二素材才进入表面处理腔内，并且第二素材于表面处理腔内的移动顺序依序为工艺前缓冲腔、第三工艺腔、工艺前缓冲腔、第三工艺腔、工艺前缓冲腔、工艺前缓冲腔、第二工艺腔、工艺前缓冲腔、第二工艺腔，并且当第一素材进入后段工艺腔时，第二素材进入工艺后缓冲腔，当第一素材离开连续式真空工艺设备时，第二素材进入后段工艺腔，最后由后段工艺腔离开连续式真空工艺设备。所述的真空设备多载具同时多工处理工艺，其中于制备两片以上的素材的步骤中，总共置备两片素材，且分别定义为第一素材与第二素材；于制备一连续式真空工艺设备步骤中，在表面处理腔的第二工艺腔与工艺后缓冲腔之间进一步置备一第三工艺腔，并且于第一工艺腔与第三工艺腔内进行的为相同的表面处理；于移动素材的步骤中:第一素材于前段工艺腔进入表面处理腔，且移动于表面处理腔内的顺序依序为工艺前缓冲腔、第二工艺腔、工艺后缓冲腔、第三工艺腔、工艺后缓冲腔、第二工艺腔、工艺后缓冲腔，最后进入后段工艺腔，并且由后段工艺腔离开连续式真空工艺设备；以及当第一素材第一次位于第二工艺腔内时，第二素材位于前段工艺腔内，当第一素材第一次位于工艺后缓冲腔内，第二素材才进入表面处理腔内，并且第二素材于表面处理腔内的移动顺序依序为第二工艺腔、工艺前缓冲腔、第一工艺腔、工艺前缓冲腔、第二工艺腔，并且当第一素材进入后段工艺腔时，第二素材进入工艺后缓冲腔，当第一素材离开连续式真空工艺设备时，第二素材进入后段工艺腔，最后由后段工艺腔离开连续式真空工艺设备。本专利技术一实施例中，所述的真空设备多载具同时多工处理工艺，其中于制备两片以上的素材的步骤中，总共置备两片素材，且分别定义为第一素材与第二素材；于制备一连续式真空工艺设备步骤中，在表面处理腔的第二工艺腔与工艺后缓冲腔之间进一步置备一第三工艺腔，并且于第一工艺腔与第三工艺腔内进行的为相同的表面处理；于移动素材的步骤中:第一素材于前段工艺腔进入表面处理腔，且移动于表面处理腔内的顺序依序为工艺前缓冲腔、第一工艺腔、工艺后缓冲腔、第二工艺腔、工艺后缓冲腔、第三工艺腔、工艺后缓冲腔，最后进入后段工艺腔，并且由后段工艺腔离开连续式真空工艺设备；以及当第一素材第一次位于第一工艺腔内时，第二素材位于前段工艺腔内，当第一素材第一次位于工艺后缓冲腔内，第二素材才进入表面处理腔内，并且第二素材于表面处理腔内的移动顺序依序为第一工艺腔、工艺前缓冲腔、第二工艺腔、工艺前缓冲腔、第一工艺腔，并且当第一素材进本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空设备多载具同时多工处理工艺，其特征在于，包括有：制备两片以上的素材；制备一连续式真空工艺设备，该连续式真空工艺设备具有依序连接的一前段工艺腔、一表面处理腔以及一后段工艺腔，其中，该表面处理腔具有依序连接的一工艺前缓冲腔、一第一工艺腔、一第二工艺腔以及一工艺后缓冲腔；以及移动素材，将各所述素材由该前段工艺腔处依序进入该连续式真空工艺设备内，并且较早进入该表面处理腔的素材恒比较晚进入该表面处理腔的素材更靠近该后段工艺腔，其中，各素材同时间在该表面处理腔内进行来回且分别的移动，其中，当各所述素材通过该第一工艺腔与该第二工艺腔时进行表面处理，最后各所述素材依序由该后段工艺腔处离开该连续式真空工艺设备。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林忠炫，赖青华，
申请(专利权)人：友威科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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