干式暗场聚光镜制造技术

技术编号:12282201 阅读:100 留言:0更新日期:2015-11-05 22:29
本发明专利技术公开了一种干式暗场聚光镜,涉及显微镜制作技术领域。这种干式暗场聚光镜,包括有暗场干镜(1),暗场干镜(1)通过第一压圈(2)装在第一镜座(3)一端,第一镜座(3)连接有接筒(4),接筒(4)通过下部的接筒部插装在第二镜座(8)的中心孔内,接筒部通过设在前端的螺纹段装在调节环(7)内,调节环(7)通过第二压圈(8)装在第二镜座(8)内,第二镜座(8)设有多个穿过侧壁与所述调节环(7)外缘相抵接的调节螺钉(9)和至少设有一个与所述调节环(7)外缘相抵接的弹簧圈(6)。本发明专利技术解决了现有暗场聚光系统光照射不均匀使得观察到的物质与实际偏差大的问题,结构简单,效果更好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显微镜制造
,尤其是一种用于显微镜的干式暗场聚光镜
技术介绍
暗场显微镜是利用光学上丁达尔现象的原理设计的,它的结构特点主要是使用中央遮光板或暗场聚光器,使光源的中央光束被阻挡,不能由下而上地通过标本进入物镜。从而使光线改变途径,倾斜地照射在观察的标本上,标本遇光发生反射或散射,散射的光线投入物镜内,因而整个视野是黑暗的。在暗场中所观察到的是被检物体的衍射光图像,并非物体的本身,所以只能看到物体的存在和运动,不能辨清物体的细微结构。但被检物体为非均质时,并大于I / 2波长,则各级衍射光线同时进入物镜,在某种程度上可观察物体的构造。一般暗视野显微镜虽看不清物体的细微结构,但却可分辨0.004um以上的微粒的存在和运动,这是普通显微镜(最大的分辨力为0.2um)所不具有的特性,可用以观察活细胞的结构和细胞内微粒的运动等。而目前现有的暗场聚光系统存在结构复杂,光能损失多使得利用效率低,光照射不均匀使得观察到的物质与实际偏差较大等问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种干式暗场聚光镜,以解决现有暗场聚光系统光照射不均匀使得观察到的物质与实际偏差大的问题。为了解决上述问题,本专利技术所采用的技术方案是:这种干式暗场聚光镜,包括有暗场干镜,其特征在于:所述暗场干镜通过第一压圈装在第一镜座(3) —端,所述第一镜座连接有接筒,所述接筒通过下部的接筒部插装在第二镜座的中心孔内,所述接筒部通过设在前端的螺纹段装在调节环内,所述调节环通过第二压圈装在所述第二镜座内,所述第二镜座设有多个穿过侧壁与所述调节环外缘相抵接的调节螺钉和至少设有一个与所述调节环外缘相抵接的弹簧圈。上述技术方案中,更具体的技术方案还可以是:所述调节螺钉为两个,所述调节螺钉为一个;两个所述调节螺钉与所述弹簧圈呈圆周均匀分布在所述第二镜座的上。进一步的:所述接筒的所述接筒部与所述第二镜座中心孔的配合为间隙配合。由于采用了上述技术方案,本专利技术与现有技术相比具有如下有益效果: 1、本专利技术光照射较均匀,观察到的物质与实际偏差小:通过调节螺钉9可以控制暗场干镜I的径向位移进行聚光,由于接筒的接筒部与第二镜座5的中心孔的配合为间隙配合,解决了现有暗场聚光系统光照射不均匀使得观察到的物质与实际偏差大的问题。2、本专利技术清晰度高,光能损失少,光利用率高。3、本专利技术分辨率高,数值孔径Na为0.77?0.91。4、本专利技术结构简单,达到的效果好,节省了成本的工序,提高了生产效率。【附图说明】图1是本专利技术实施例的结构示意图。图2是图1的K向视图。【具体实施方式】以下结合附图实施例对本专利技术作进一步详述: 如图1和图2所不的干式暗场聚光镜包括有暗场干镜1,暗场干镜I通过第一压圈2装在第一镜座3 —端,第一镜座3设有螺纹中心孔,暗场干镜I通过设有外螺纹第一压圈2装在第一镜座3的螺纹中心孔上;第一镜座3连接有接筒4,接筒4具有设在上部的第一镜座连接部和设在下部的接筒部,第一镜座连接部通过螺纹装在第一镜座3的螺纹中心孔内;接筒4通过下部的接筒部插装在第二镜座5的中心孔内,接筒的接筒部与第二镜座5的中心孔的配合为间隙配合,在第二镜座5中心孔的下端设有环形的定位台;接筒4的接筒部通过设在前端的螺纹段装在设有内螺纹的调节环7内,调节环7通过第二压圈8固定在第二镜座5的定位台上;本实施例在第二镜座5上装有两个穿过侧壁与调节环7外缘相抵接的调节螺钉9和一个与调节环7外缘相抵接的弹簧圈6,弹簧圈6的一端装在第二镜座5环形定位台的弹簧圈安装孔内;两个调节螺钉9与弹簧圈6呈圆周均匀分布在第二镜座5的上,两个调节螺钉9之间、调节螺钉9与弹簧圈6之间的夹角均为120度。工作时,通过调节螺钉9可以控制暗场干镜I的径向位移进行聚光,由于接筒的接筒部与第二镜座5的中心孔的配合为间隙配合,解决了现有暗场聚光系统光照射不均匀使得观察到的物质与实际偏差大的问题。这种干式暗场聚光镜高度为43.6mm,数值孔径Na为0.77?0.91,当焦距为7.76时能达到最佳效果。【主权项】1.一种干式暗场聚光镜,包括有暗场干镜(I),其特征在于:所述暗场干镜(I)通过第一压圈(2)装在第一镜座(3)—端,所述第一镜座(3)连接有接筒(4),所述接筒(4)通过下部的接筒部插装在第二镜座(5)的中心孔内,所述接筒部通过设在前端的螺纹段装在调节环(7 )内,所述调节环(7 )通过第二压圈(8 )装在所述第二镜座(5 )内,所述第二镜座(5 )设有多个穿过侧壁与所述调节环(7)外缘相抵接的调节螺钉(9)和至少设有一个与所述调节环(7 )外缘相抵接的弹簧圈(6 )。2.根据权利要求1所述的干式暗场聚光镜,其特征在于:所述调节螺钉(9)为两个,所述调节螺钉(9)为一个;两个所述调节螺钉(9)与所述弹簧圈(6)呈圆周均匀分布在所述第二镜座(5)的上。3.根据权利要求1或2所述的干式暗场聚光镜,其特征在于:所述接筒的所述接筒部与所述第二镜座(5)中心孔的配合为间隙配合。【专利摘要】本专利技术公开了一种干式暗场聚光镜,涉及显微镜制作
这种干式暗场聚光镜,包括有暗场干镜(1),暗场干镜(1)通过第一压圈(2)装在第一镜座(3)一端,第一镜座(3)连接有接筒(4),接筒(4)通过下部的接筒部插装在第二镜座(8)的中心孔内,接筒部通过设在前端的螺纹段装在调节环(7)内,调节环(7)通过第二压圈(8)装在第二镜座(8)内,第二镜座(8)设有多个穿过侧壁与所述调节环(7)外缘相抵接的调节螺钉(9)和至少设有一个与所述调节环(7)外缘相抵接的弹簧圈(6)。本专利技术解决了现有暗场聚光系统光照射不均匀使得观察到的物质与实际偏差大的问题,结构简单,效果更好。【IPC分类】G02B21/10, G02B7/02【公开号】CN105022150【申请号】CN201510462633【专利技术人】张景华 【申请人】梧州奥卡光学仪器有限公司【公开日】2015年11月4日【申请日】2015年7月31日本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种干式暗场聚光镜,包括有暗场干镜(1),其特征在于:所述暗场干镜(1)通过第一压圈(2)装在第一镜座(3)一端,所述第一镜座(3)连接有接筒(4),所述接筒(4)通过下部的接筒部插装在第二镜座(5)的中心孔内,所述接筒部通过设在前端的螺纹段装在调节环(7)内,所述调节环(7)通过第二压圈(8)装在所述第二镜座(5)内,所述第二镜座(5)设有多个穿过侧壁与所述调节环(7)外缘相抵接的调节螺钉(9)和至少设有一个与所述调节环(7)外缘相抵接的弹簧圈(6)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张景华
申请(专利权)人:梧州奥卡光学仪器有限公司
类型:发明
国别省市:广西;45

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