一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法及铝合金制品技术

本发明专利技术公开一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，包括以下步骤：S100、提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min；S200、对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8～10V，氧化温度为18～22℃，第二氧化膜的厚度为4～5μm。本发明专利技术还公开一种应用上述铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制成的铝合金制品。本发明专利技术既保证了铝合金制品上的logo的高光效果，又提高了铝合金制品以及其上的logo的耐腐蚀性。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法及铝合金制口叩
本专利技术涉及金属表面处理
，尤其涉及一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法及应用该铝合金阳极氧化后实现高光logo方法制成的铝合金制品。
技术介绍
随着生活水平的不断提高以及手机技术的持续发展，近年来，各种手机壳体越来越趋于个性化设计，尤其是对手机壳体的logo (商标、标志)设计，对于logo的独特设计在对手机壳体装饰的同时，对突出手机的品牌效应能够起到画龙点睛的作用，因而不仅受到了消费者的青睐，更成为了商家的主要关注点之一。目前手机壳体大多采用铝合金制成，在铝合金的手机壳体等铝合金制品表面制作logo的方法多种多样，例如:1、将铝合金制品阳极氧化后再镭雕logo，这样的制作方式使得logo不够高亮，无法突出logo ;2、将铝合金制品进行CNC精加工处理后再贴不锈钢高光logo，这样的制作方式虽然能保持logo的光亮，突出logo，但是制作成本比较高，且贴合的logo在长时间使用后很容易被磨损和刮掉；3、在对铝合金制品进行机械处理后，对铝合金制品进行化学蚀刻或者镭雕，形成logo，之后将形成logo后的铝合金制品进行着色处理；或者是在对铝合金制品进行着色处理后，采用移印、填磨等方式在铝合金上形成logo，这种作业和设计的logo，时间久了很容易被磨损和刮掉，logo就会慢慢消失。基于以上问题，亟需一种新的在铝合金制品表面实现高光logo的方法，以解决现有logo制作后不够高亮、制作成本高以及容易磨损和刮掉的问题。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提出一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，该方法可以使制作后的logo保持高光亮的效果，且也不容易磨损和被刮掉。本专利技术的另一个目的在于提出一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，该方法的制作成本低，制作的带有logo的铝合金制品的表面质量高。本专利技术的又一个目的在于提出一种应用上述铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制作的铝合金制品。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案:提供一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，包括以下步骤:S100、精加工logo:提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min ;S200、第二次阳极氧化处理:对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8?10V，氧化温度为18?22°C，第二氧化膜的厚度为4?5 μπι。还提供一种铝合金制品，所述铝合金制品应用如上所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制成。本专利技术的有益效果为:本专利技术提供了一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，该方法与现有技术相对比，采用高转速的CNC对铝合金基材进行logo加工，可以形成高光logo，且CNC精加工后的logo不会被磨损和刮掉，保证了招合金制品上logo的完整性；在精加工logo后进行第二次阳极氧化处理，可以在logo上形成第二氧化膜，且由于膜厚较薄，不仅可以保证logo不被氧化和腐蚀，还可以保证logo的高光性，提高整个铝合金制品的表面质量。本专利技术提供了一种铝合金制品，此铝合金制品上的logo具有高光效果，不容易被腐蚀和氧化，且也不容易磨损和被刮掉。【附图说明】图1是根据本专利技术的一实施例提供的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法的流程图。图2是根据本专利技术的一实施例提供的步骤S200的流程图。图3是根据本专利技术的另一实施例提供的步骤S200的流程图。图4是根据本专利技术的又一实施例提供的步骤S200的流程图。图5是根据本专利技术的一实施例提供的步骤S100的流程图。【具体实施方式】为使本专利技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施例的技术方案作进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图1是根据本专利技术的一实施例提供的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法的流程图。如图1所示，于本实施例中，一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法包括如下步骤:S100、精加工logo:提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min ;S200、第二次阳极氧化处理:对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8?10V，氧化温度为18?22°C，第二氧化膜的厚度为4?5 μπι。本专利技术通过在阳极氧化处理后的铝合金基材上通过CNC精加工logo，且CNC的主轴电机转速不小于20000r/m，高转速的CNC使得加工后的logo更加高光；通过在加工有logo的铝合金基材表面进行第二次阳极氧化处理，且在铝合金基材以及logo的表面形成4?5 μπι的第二氧化膜，第二氧化膜可以在保证logo不被氧化的同时保证氧化膜不遮盖logo，使logo保持高光状态。在本实施例中，CNC采用北京精雕机，如金童WJA400型精雕机。图2是根据本专利技术的一实施例提供的步骤S200的流程图。如图2所示，于本实施例中，步骤S200包括依序的如下步骤:S210、除油处理，对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；S220、氧化处理:将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为18?22°C的硫酸溶液中，氧化电压保持8?10V，进行阳极氧化处理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4?5 μπι的第二氧化膜。通过采用上述工艺条件的硫酸溶液对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，可以在logo上形成较薄的第二氧化膜，既可以保证logo不被氧化，还可以保证logo的高光度。图3是根据本专利技术的另一实施例提供的步骤S200的流程图，如图3所示，于本实施例中，步骤S200包括依序的如下步骤:S210'、除油处理:对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；S220r、氧化处理:将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为18°C的硫酸溶液中，氧化电压保持8V，进行阳极氧化处理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4 μπι的第二氧化膜；S230'、封闭处理:将第二次阳极氧化处理后的铝合金基材放置在浓度8g/L、温度为95°C、PH5.5的醋酸镍溶液中，静置20min。封闭处理可以提高铝合金制品的耐腐蚀性，增加铝合金制品的抗脏污能力。图4是根据本专利技术的另一实施例提供的步骤S200的流程图，如图4所示，于本实施例中，步骤S200包括依序的如下步骤:S210"、除油处理:对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；S220"、水洗处理:将除油处理后的铝合金基材进行水洗处理；S230"、氧化处理:将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为20°C的硫酸溶液中，氧化电压本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，包括以下步骤：S100、精加工logo：提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min；S200、第二次阳极氧化处理：对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8～10V，氧化温度为18～22℃，第二氧化膜的厚度为4～5μm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：曾元清，
申请(专利权)人：广东欧珀移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44