涂布膜制造技术

本发明专利技术提供一种具有优异特性的涂布膜，例如，暴露于高温时，能够有效地抑制从膜的表面析出低聚物，在保管膜时、使用膜时、加工膜时等，不会发生因低聚物(酯环状三聚体)产生的不良情况。该涂布膜在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及涂布膜，详细而言，涉及将聚酯膜作为基材、例如暴露于高温后低聚物 的析出也少的涂布膜。
技术介绍
聚酯膜的透明性、尺寸稳定性、机械特性、耐热性、电特性等优异，可以在各种领域 中使用。 特别而言，近年来，在触摸屏等中的使用增加，作为透明导电性叠层体的基材，代 替玻璃而使用的情况增加。作为这样的透明导电性叠层体，有时将聚酯膜作为基材，在其上 直接或隔着增粘涂层，以溅射形成ITO(氧化铟锡）膜。这样的双轴拉伸聚酯膜通常被加热 加工。 例如，有为了低热收缩化，在150°C放置1小时（专利文献1);为了达到ITO的结 晶化，在150°C进行热处理（专利文献2)等的处理。 但是，作为聚酯膜的问题，暴露于这样的高温长时间的处理时，膜中含有的低聚物 (聚酯的低分子量成分、特别是酯环状三聚体）在膜表面析出、结晶化，由此引起膜外观的 白化导致的视认性降低、后加工的缺陷、工序内或部件的污染等。因此，将聚酯膜作为基材 的透明导电性叠层体的特性不能说是充分的。 进一步而言，作为防止上述的低聚物析出的对策，例如提出了在聚酯膜上设置由 有机硅树脂和异氰酸酯系树脂的交联体构成的固化性树脂层的方案（专利文献3)。但是， 该固化性树脂层通过热固化而形成，因此为了异氰酸酯系树脂的封端化剂的解离需要高温 处理，在加工中存在容易产生卷曲或松弛的状况，操作中需要注意。 因此，在谋求涂布层的低聚物析出量的减少对策时，处于需要具有比现有技术更 加良好的耐热性、并且需要涂布层自身的低聚物析出防止性能良好的状况。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2007 - 42473号公报 专利文献2 :日本特开2007 - 200823号公报 专利文献3 :日本特开2007 - 320144号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 本专利技术是鉴于上述事实而完成的专利技术，其解决课题在于：提供作为光学部件用的 产品加工后，光学特性、视认性优异的光学用涂布膜。具体而言，提供具有以下特性的光学 用涂布膜，例如经过150 °C条件下的长时间的热处理、高张力在这样的条件下的溅射工序、 在高温高湿气氛下的耐久性试验等严酷的条件下的工序后，也能够将膜雾度的上升抑制得 小，作为光学部件用的产品加工后，光学特性、视认性优异。 用于解决课题的方法 本专利技术的专利技术人关于上述课题进行了精心研究，结果发现利用特定构成的聚酯膜 能够解决上述课题，由此完成本专利技术。 即，本专利技术的主旨在于提供一种涂布膜，其特征在于：在酯环状三聚体含量为0. 7 重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为〇. 7重量％以下的聚酯表层的多层 聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。 专利技术效果 根据本专利技术，为了更加有效地防止低聚物析出，通过组合酯环状三聚体含量少的 聚酯层和特定的涂布层的形成，能够得到酯环状三聚体的析出极少的效果。另外，即使进行 高温长时间的处理，也能够抑制从表面析出低聚物，因此能够得到没有雾度的上升和异物 的产生的、优异外观的产品，其工业利用价值高。【具体实施方式】 本专利技术的涂布膜的基材膜由聚酯构成。聚酯通过使对苯二甲酸、间苯二甲酸、 2, 6 -萘二羧酸、己二酸、癸二酸、4, 4' 一二苯基二羧酸、1，4 一环己基二羧酸这样的二羧 酸或其酯与乙二醇、一缩二乙二醇、二缩三乙二醇、丙二醇、1，4 一丁二醇、新戊二醇、1，4 一 环己二醇这样的二醇熔融缩聚而制造。由这样的酸成分和二醇成分构成的聚酯能够使用任 意的通常进行的方法而制造。 例如，可以采用如下方法：首先，使芳香族二羧酸的低级烷基酯与二醇之间进行酯 交换反应，或者使芳香族二羧酸与二醇直接进行酯化，实质上形成芳香族二羧酸的双二醇 酯、或其低聚物，接着，将其在减压下进行加热，使之缩聚。根据其目的，也可以共聚脂肪族 二羧酸。 作为聚酯，代表性地可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2, 6 -萘二羧酸乙二醇 酯、聚对苯二甲酸一 1，4 一环己二甲醇酯等，除此以外，也可以是上述的酸成分和二醇成分 共聚而得到的聚酯，根据需要可以含有其它的成分和添加剂。 作为聚酯的聚合催化剂，没有特别限定，能够使用现有公知的化合物，例如，可以 列举锑化合物、钛化合物、锗化合物、锰化合物、铝化合物、镁化合物、钙化合物等。其中，锑 化合物具有廉价且催化剂活性高的优点。另外，钛化合物和锗化合物的催化剂活性高，能够 以少量进行聚合，在膜中残留的金属量少，从而膜的亮度高，故而优选。另外，由于锗化合物 高价，因此更优选使用钛化合物。 在本专利技术中，为了抑制热处理后的酯环状三聚体的析出量，将酯环状三聚体含量 为〇. 7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为〇. 7重量％以下的聚酯表层的 多层聚酯膜作为必须条件。 聚酯膜中含有的酯环状三聚体的含量在通常的制造方法中约为1重量％。在本发 明的涂布膜中，在上述的方式中，将酯环状三聚体的含量规定为〇. 7重量％以下，由此能够 特别有效地发挥防止向膜表面析出酯环状三聚体的效果。在酯环状三聚体的含量超过〇. 7 重量％时，在长时间的高温处理、严酷的条件下的加工工序中使用时，发生膜雾度的劣化、 以及在加工工序中与膜接触的搬送辊上附着堆积酯环状三聚体等的问题。 本专利技术的酯环状三聚体含量优选为0. 6重量％以下，特别优选为0. 5重量％以下。 作为酯环状三聚体的含量少的聚酯的制造方法，能够使用各种公知的方法，例如，可以列举 在制造聚酯后进行固相聚合的方法。而且，通过加长固相聚合时间能够减少酯环状三聚体 含量。 酯环状三聚体含量降低了的聚酯的成本高，因此酯环状三聚体含量的0. 7重量％ 以下的调整通过聚合物共混来进行是有利的。在该情况下，优选使用酯环状三聚体含量为 〇. 7重量％以下的聚酯，其共混量通常为70重量％以上、优选为80重量％以上。聚合物共 混所使用的聚酯的酯环状三聚体含量的下限值，从成本的观点考虑，通常为〇. 1重量％，优 选为0. 2重量％。 聚酯膜可以是单层结构，也可以是多层结构，在为多层结构时，仅在表层使用酯环 状三聚体含量为0. 7重量％以下的聚酯即可，由此在成本上是有利的，另外，根据目的不 同，可以使表层和内层、或者两表层和各层为不同的聚酯。 使聚酯膜为例如2种3层的多层结构，在多层聚酯膜的各表层使用酯环状三聚体 的含量少的聚酯原料，通过这样的设计，能够抑制热处理后的酯环状三聚体。 另外，多层聚酯膜的酯环状三聚体含量为0. 7重量％以下的聚酯层的膜厚较厚 时，能够有效地抑制酯环状三聚体从聚酯膜的析出。〇. 7重量％以下的聚酯层的膜厚优选为 1. 5 μπι以上，更优选为2. 0 μπι以上，特别优选为2. 5 μπι以上。0· 7重量％以下的聚酯层的 膜厚不足1. 5 μπι时，在150Γ条件下的长时间的热处理、高张力在这样的条件下的溅射工 序、以及在高温高湿气氛下的耐久性试验等、在严酷条件下的加工工序中使用时，有时膜雾 度大大地上升，作为产品加工后，在光学特性?视认性方面有时不适于作为光学部件用。 以确保膜的滑动性以及防止产生伤痕等为主要目的，能够在聚酯膜中含有颗粒。 作为这样的颗粒，例如，能够使用二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、磷酸钙、高岭土、滑石、氧化铝、 氧化钛本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布膜，其特征在于：在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：川崎阳一，神田俊宏，川崎泰史，
申请(专利权)人：三菱树脂株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP