【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜的双极溅射镀膜真空室。
技术介绍
在双极溅射镀膜过程中，极靶的作用是在极靶周围建立环绕的磁场，为后续的电离和溅射镀膜提供条件。极靶形式多种多样，极靶的材料根据不同的工艺要求而有所差别。实践证明，极靶所建立的磁场的均衡稳定性能够影响溅射效率。
技术实现思路
本技术为了提高溅射效率，专利技术了一种双极溅射镀膜真空室，该真空室的极靶结构得到了改进和优化，能建立比现有极靶更均衡稳定的圆周封闭磁场，增加刻蚀面积，从而提高溅射效率，缩短镀膜周期。本技术的上述技术问题是通过以下技术方案得以实施的:一种双极溅射镀膜真空室，包括腔体，腔体内设置有竖直的极靶以及用于放置工件的工件架，腔体外设置有用于驱动极靶旋转的电机，其特征在于，所述极靶包括竖直的空心柱状金属管体，金属管体内设置有竖直的空心柱状内管，在内管的外侧，有若干竖直条状的磁铁沿着内管侧壁圆周均匀排列。作为优选，所述磁铁包括N极磁铁和S极磁铁，并且，N极磁铁和S极磁铁相间排列。这样排布可以形成圆周封闭磁场，增加刻蚀面积，溅射效率提高一倍以上，缩短了镀膜周期，提尚生广效率。作为优选，所述金属管体为不锈钢管。综上所述，本技术与现有技术相比具有如下优点:本技术对极靶结构进行了改进和优化，将N极、S极磁铁沿着圆周相间排列以形成圆周封闭磁场，增加刻蚀面积，溅射效率提高一倍以上，缩短镀膜周期。【附图说明】图1是本技术的结构示意图；图2是本技术极靶的剖视图；图3是本技术极靶的横截面图。图中标号为:1、腔体;2、极革巴;21、金属管体；22、内管；23、磁铁;3、工件架;4、电机。【具...
【技术保护点】
一种双极溅射镀膜真空室，包括腔体（1），腔体内设置有竖直的极靶（2）以及用于放置工件的工件架（3），腔体外设置有用于驱动极靶旋转的电机（4），其特征在于，所述极靶包括竖直的空心柱状金属管体（21），金属管体内设置有竖直的空心柱状内管（22），在内管的外侧，有若干竖直条状的磁铁（23）沿着内管侧壁圆周均匀排列。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张一为，徐世杰，
申请(专利权)人：金华万得福日用品有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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