本发明专利技术涉及一种流体存储和分配系统,包括:容器,所述容器限定用于容纳压缩气体的内部空间;阀头,所述阀头与所述容器密封地啮合,所述阀头包括能够打开或关闭的阀,以从所述容器分配气体,第一压力调节器和第二压力调节器,所述第一压力调节器和所述第二压力调节器在所述容器的所述内部空间中彼此串联连接,以使气体从所述容器流动到所述阀头以进行分配。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】包含内置于流体密封容器中并可在其内现场调节的调节器 的气体储存和分配系统 分案申请 本申请是中国申请号为01810427.4的专利技术专利申请(国际申请号为PCT/ US01/11480)的分案申请。01810427.4号专利申请的申请日为2001年4月9日,专利技术名称 为"包含内置于流体密封容器中并可在其内现场调节的调节器的气体储存和分配系统"。 相关申请的交叉引用 这是在1999年4月28日由王录平(LupingWang)和GlennM.Tom提交的名为"流 体存储和气体分配系统"的美国专利申请09/300, 994的部分继续申请,而上述专利申请又 是在1998年4月28日由王录平(LupingWang)和GlennM.Tom提交的名为"流体存储和 气体分配系统"的美国专利申请09/067, 393的部分继续申请。
本专利技术涉及一种加压的气体存储和气体分配系统,用于例如生产半导体材料和装 置的应用中。
技术介绍
在许多工业生产和应用中,都需要可靠的生产气体源。 这些生产和应用领域包括半导体生产、离子注入、平板显示器生产、医学干预和治 疗、水处理、紧急呼吸设备、焊接操作、基于空间的液体和气体供应,等等。 本专利技术提供了这样一种可靠的气体源,它特别适合用于半导体生产设备,以提供 所需的气体供应,例如卤化合物气体(例如,BF 3, F2,等等),氢化物气体(例如,砷化三氢, 磷化氢,等等)和气态有机金属源反应物。 在气体存储和分配系统的领域中的工艺包括以下美国专利所描述的装置和方 法: 1998年5月17日授予Karl O.Knollmueller的美国专利4,744,211(砷化三氢的 储存和分配,吸附地存储在5-15埃孔径的沸石中,通过加热沸石升高温度释放砷化三氢进 行分配); 1996 年 5 月 21 日授予Glenn M. Tom和 James V. McManus 的美国专利 5, 518, 528 (气 体存储和分配系统,气体在低压下吸附地保存在物理的吸附介质中,通过压力差动来调节 从吸附介质中解吸出的气体来实现分配); 1999 年 8 月 17 日授予 David A. LeFebre 和 Thomas B. Martin, Jr?的美国专利 5, 937,895 和 1999 年 12 月 28 日授予 Roy V. Semerdjian,David A. LeFebre 和 Thomas B. Marin, Jr.的美国专利6, 007, 609 (具有分配止回阀形式调节器的加压容器和用于流体 分配的流动限制装置的毛细管); 1998年4月28日由LupingWang和GlennM.Tom提交的在先待批美国专利申请 09/067, 393和1999年4月28日由LupingWang和GlennM.Tom提交的在先待批美国专利 申请09/300, 994 (流体存储和气体分配系统,包括一个安装有流体压力调节器的存储和分 配容器,这样从容器中分发出的流体流经调节器到达下游的流动控制装置); 授予Stenner的美国专利3, 590, 860 ( -种用于液化丙烷仓的手动可调节的调节 阀,包括一个调节板和传动弹簧装置); 授予Coffre等的美国专利4, 836, 242 ( -种用来提供电子级气体的减压器,包括 一个风箱和进气阀,在风箱和低压出口之间安装了一个固体颗粒过滤器); 授予Ollivier的美国专利5, 230, 359 (用于高压气缸的膜式压力调节器,其中在 调节器中安装了一个阀门用于可调节地对压缩流体节流); 授予Baranowski, Jr?的美国专利3, 699, 998 ( -种可修正压力调节器,其中叶片 弹簧夹紧器用来把调节器的各个部件保持在合适的位置); 授予Mays的美国专利3, 791,412 (用于高压气体容器的减压阀,包括一对阀部件 分发低压的节流液体); 授予Wormser的美国专利3, 972, 346 (特征在于U型环密封提升阀装置的压力调 节器); 授予Eidsmore的美国专利4, 793, 379 (用于压缩气缸的主要关闭和流动控制的按 钮操作式阀门,阀部件使用磁传动); 授予Senesky的美国专利2, 615, 287 (-种气体压力调节器,包括隔板和隔板夹紧 部件); 授予Martin的美国专利4, 173, 986 (压缩气体流动控制阀,包括压力调节器和响 应式提升阀结构); 授予Baumann等的美国专利3, 388, 962 (压缩气体燃料调节装置,包括烧结金属球 流动部件); 授予Jenkins的美国专利1,679, 826 (用于高压容器的流体压力调节器,利用隔板 部件和包含毡条的气体过滤装置); 授予St.Clair的美国专利2, 354, 283 (用于液化石油气罐的流体压力调节器,包 含压力致动的隔板,同时节流器结构的振动最小); 授予Lhomer等的美国专利5, 566, 713 (气流控制分配装置,包括活塞型的压力调 节器和块型减压器/调节器装置); 授予Amidzich的美国专利5, 645, 192 (解除容器中过压气体的阀装置,包含密封 环/弹簧装置); 授予Cannet等的美国专利5, 678, 602 (用于压缩气罐的气体控制和分配装置,包 括具有变址流量计阀门的减压器和调节器装置); 授予Webster的美国专利2, 793, 504 (用于压缩流体容器的阀门,包括减压器和调 节器和弹簧偏压闭合装置); 授予Harris的美国专利1,659, 263 (用于压缩气缸的调节器,包括一个挡板和位 于挡板和调节器环形机座之间的抗摩擦垫圈); 授予Thomas的美国专利2, 047339 (液化石油气存储装置,包括流动控制单元和泄 漏防止阀);和 授予Baumann等的美国专利3, 994, 674(用于压缩液化燃烧气体容器的可拆离的 燃烧器装置,包括一个调节阀装置)。 专利技术概沐 本专利技术涉及一种存储和分配压缩气体的系统,用于例如生产半导体产品的应用。 在一个方面,本专利技术涉及到一种流体存储和分配系统,包含: -个气体存储和分配容器,在其封闭的内部空间容纳压缩气体,其中容器包括一 个出口; 一个阀头,安装在容器出口处; 一个气体分配组件,与阀头气流连通地连接; 一个位于容器内部空间的气压调节器,定位在阀头下面,用于使从容器中排出的 气体压力保持在预定值; 气体分配组件可以选择性地触发以使气体穿过气压调节器、阀头和气体分配组件 从容器的内部空间流出,用于从容器中排出气体。 在该系统的另一个方面,前面提到的气压调节器是第一气压调节器,该系统进一 步包括位于容器内部空间中的第二气压调节器,与第一气压调节器串连。 在这种双调节器排列的特定实施例中,第一气压调节器在排放端与第一粒子过滤 器连接,第二气压调节器在它的入口端与第二粒子过滤器连接。 这种双调节器布置的另一个特定实施例包括第一粒子过滤器,第一气压调节器, 第二气压调节器和第二粒子过滤器,在容器内部彼此同轴对齐。 本专利技术的其他方面、特征和实施例从接下来的说明和所附的权利要求中将会完全 明了。【附图说明】 图1是根据本专利技术一个实施例的气体存储和本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种流体存储和分配系统,包括:容器,所述容器限定用于容纳压缩气体的内部空间;阀头,所述阀头与所述容器密封地啮合,所述阀头包括能够打开或关闭的阀,以从所述容器分配气体,第一压力调节器和第二压力调节器,所述第一压力调节器和所述第二压力调节器在所述容器的所述内部空间中彼此串联连接,以使气体从所述容器流动到所述阀头以进行分配。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:王录平,格伦·M·汤姆,
申请(专利权)人:安格斯公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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