本发明专利技术公开了一种回归反射反光膜，包括多个同方向分布的反光阵列，相邻反光阵列之间具有第一V型凹槽；每个反光阵列由多个反光单元交错排列构成，同一反光阵列内的反光单元为在结构和排列上完全相同的立方柱体结构，在同一反光阵列内，立方柱体结构包含三个彼此相互正交的反光面，且相邻立方柱体的底面与另一立方柱体的顶面具有第二V型凹槽，第一V型凹槽与第二V型凹槽分布方向垂直。本发明专利技术公开的回归反射反光膜在大角度斜入射光照条件下具有良好的逆反射能力，可用于高速公路中间隔离带、马路人行横道斑马线等应用场所，且本发明专利技术的回归反射反光膜制备简单、生产成本低。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种具有特定几何形状的回归反射反光膜，属于逆反射反光材料领 域。
技术介绍
回归反射，又称逆反射，所指的是不管光沿什么方向入射，产生的反射光始终逆着 入射光路传播的光学现象。这种反射现象不同于漫反射或镜面反射。回归反射的特性被 广泛应用于通讯、遥感遥测、摄影、舞台布景等领域，尤其广泛用于制作各种警示标志，如道 路上的危险警告标志、交通控制标志、导航标志、广告牌、车牌、各种职业制服上的警示标志 等。衡量回归反射特性的最重要的指标参数是回归反射率，其定义是逆反射光能量占入射 光总能量的百分比。反射率越大，则反光标牌的可视距离越远。但不管何种逆反射材料，逆 反射率都会受入射角和方位角的影响而发生变化。从行业应用需求来看，人们期望反光膜 具有最大的广角性及最小的各向异性，但上述二者是一体两面，只能通过结构改进来尽可 能最大限度提高反光膜的广角性，减小或改善其各向异性。 目前在照明、光学标志牌、户外发光广告等多种场合广泛应用的反光膜的光学特 性为沿着反光膜的法线方向逆反射率最大，由于具有此类特性，适合应用于光源垂直照射 的场合下，但如果光源以大角度照射之，则回归反射光强较弱。这也就意味着已有的此类反 射膜对于一些特定场合，例如在高速公路中间隔离带、马路人行横道斑马线等特，光源是以 大角度照射到反光标牌上，导致传统的反射膜反射光较弱，无法满足实际应用需要。
技术实现思路
申请人多年来对回归反射反光膜的设计开发进行了深入研宄，并惊喜的制成了一 种具有逆反射性能的反光膜，所得反光膜具有特殊的回归反射特性：回归反射能力最强的 方向不是沿通常的膜面法向，而是沿与膜面成一定倾角的方向，从而使得所得回归反射反 光膜尤其适用于马路斑马线、高速公路隔离标线等大角度斜入射光照环境。 具体的说，本专利技术是通过如下技术方案实现的： 一种回归反射反光膜，包括多个同方向分布的反光阵列，相邻反光阵列之间具有 第一 V型凹槽；每个反光阵列由多个反光单元交错排列构成，同一反光阵列内的反光单 元为在结构和排列上完全相同的立方柱体结构，在同一反光阵列内，立方柱体结构包含三 个彼此相互正交的反光面，且相邻立方柱体的底面与另一立方柱体的顶面具有第二V型凹 槽，第一 V型凹槽与第二V型凹槽分布方向垂直。 其中，所述回归反射反光膜由热塑性透光塑料材料制成。 上述的热塑性透光塑料材料不受到特别限制，已有的透光性良好的、便于热塑加 工的塑料材料均可用于本专利技术，优选为聚碳酸酯、PMMA。 其中，第一 V型凹槽是由相邻反光阵列排列形成，因此其角度不受到特别限制；第 二V型凹槽是在与第一 V型凹槽垂直方向上将上方的材料加工除去形成，因此为了便于后 续加工，所述相邻立方柱体之间的第二V型凹槽夹角优选为5°~60°。 本领域技术人员容易理解，上述的反光阵列结构，可以存在多个平行排列的第一 V 型凹槽，多个平行分布的第二V型凹槽，在此情况下，多个第一 V型凹槽夹角可各不相同或 相同，多个第二V型凹槽夹角可各不相同或相同，为了加工生产的方便，通常采用多个相同 的第一 V型凹槽，多个相同的第二V型凹槽。 如本领域技术人员所知，为了将反光膜应用于箱体、建筑物表面等结构上，反光膜 还需要有其它附属结构，此类结构在本领域是广泛所知的，因此本专利技术的回归反射反光膜， 还包括一体成型的相同材料制成的透光薄膜，反光阵列位于透光薄膜下方并内凹于基底薄 膜之中，其底部依次叠合密封层、粘接剂、剥离纸。 在上述基础上，本专利技术还公开了所述回归反射反光膜的制备方法，包括下述步骤： 1)制备金属母模：在长方体状金属基板的第一侧面上标识至少一个第一直角三角形，按照 第一直角三角形的形状沿着金属基板的顶面加工去除标线上方的金属材料，使其形成沿相 同方向延伸的第一 V型凹槽；在与金属基板第一侧面垂直相交的第二侧面上标识至少一个 第二直角三角形，该第二直角三角形的直角边之一与金属基板的顶面重合，按照第二直角 三角形的形状沿着金属基板的顶面加工去除标线上方的金属材料，使其形成沿相同方向延 伸的第二V型凹槽；2)通过模压或挤出成型，将金属母模的结构转移给透光薄膜，并在透光 薄膜上形成具有与金属母模形状对应的反光阵列结构。 通过采用金属母模结构转移给透光塑料材料制备所述反光膜，可以快速、准确、高 精度的生产大量符合不同需要、不同规格的反光膜，母模的加工制作采用整体机械加工的 方法即可实现，从而便于提高工艺精度、节省劳动力成本、降低制造难度。 上述的金属母模，可以采用各种金属材料，包括但不限于但不限于金属铝、铜、铬 及其合金。 为了提高金属母模的使用寿命，防止金属母模长期使用的磨损失效，上述制备方 法还包括将步骤1)所得金属母模通过镍电铸工艺将其结构转移，形成在结构上与金属母 模互为阴阳模的副模。 上述的副模，如本领域技术人员所熟知的，可采用铜、铁、镍、镍钴合金、镍锰合金 等常见适合电铸的金属材料，采用电铸的方法来制作副模。 为了获得产品的成品，上述制备方法还包括下述步骤：将具有反光阵列结构的透 光薄膜与密封层、粘接剂、剥离纸叠合组装。 由于本专利技术的回归反射反光膜的光学特性，本专利技术还公开了所述回归反射反光膜 在大角度斜入射光照环境下作为反光膜的应用。【附图说明】 图1为用于制作母模的金属基板； 图2为图1的金属基板的"A"面的标线； 图3为图1的金属基板沿"A"面的标线车削加工出第一 "V"型槽后的效果图，其 中3_a为主视图，3_b为右视图，3_c为俯视图，3_d为立体图； 图4为图1的金属基板的"B"面的标线； 图5为图1的金属基板沿"B"面的标线车削加工出第二"V"型槽后两组垂直交叉 "V"型槽后的效果图，其中5-a为主视图，5-b为右视图，5-C为俯视图，5-d为立体图； 图6为金属母模转移结构的副模的立体图； 图7为最终所得回归反射反光膜结构示意图； 图8为实施例1的金属母模结构图，其中，8-a为主视图，8-b为右视图，8-c为俯视 图，8-d为立体图； 图9为实施例1中的反光阵列中的一个反光单元的结构图，其中，9-a为主视图， 9-b为右视图，9_c为俯视图，9_d为立体图； 图10为分析回归反射反射率所建立坐标系； 图11为不同入射光方向下的回归反射率（实施例1); 图12为实施例1的最佳食用入射角度； 图13为实施例2的金属母模结构图，其中，13-a为主视图，13-b为右视图，13-c为 俯视图，13-d为立体图； 图14为不同入射光方向下的回归反射率（实施例2); 图15为实施例3的金属母模结构图，其中，15-a为主视图，15-b为右视图，15-c为 俯视图，15-d为立体图； 图16为不同入射光方向下的回归反射率（实施例3)。【具体实施方式】 下面结合附图对本专利技术进行更清晰、更详细的说明。在如下具体实施和附图中公 开了本专利技术的若干较佳实现方式。本领域技术人员可以理解，如下所提供的实施例是示意 性的，所提供的附图也非按照比例绘制。本领域技术人员在理解和掌握本专利技术实质精神的 基础上，所进行的大小、形状、角度、参数等的改进依旧属于本专利技术的保护范围。 本专利技术所公开的回归反射反光膜，先通过车削加工制作具有特定结构的金属母 模，然后通过镍电铸等方法将母模的结构转移给副膜，最本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种回归反射反光膜，其特征在于包括多个同方向分布的反光阵列，相邻反光阵列之间具有第一V型凹槽；每个反光阵列由多个反光单元交错排列构成，同一反光阵列内的反光单元为在结构和排列上完全相同的立方柱体结构，在同一反光阵列内，立方柱体结构包含三个彼此相互正交的反光面，且相邻立方柱体的底面与另一立方柱体的顶面具有第二V型凹槽，第一V型凹槽与第二V型凹槽分布方向垂直。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：袁梦，
申请(专利权)人：袁梦，
类型：发明
国别省市：四川;51
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