曝光装置以及用于制造物品的方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种曝光装置以及用于制造物品的方法，该曝光装置包含：经由原件侧标记和投影光学系统来检测基板侧标记的第一检测器；与第一检测器相比按照更多的数量来布置的且在不经由投影光学系统的情况下检测基板侧标记的第二检测器；具有参考标记的参考板；以及控制单元，该控制单元被配置为：通过第二检测器来获得该多个参考标记的第一检测结果，基于第一检测结果来获得与该多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，通过第一检测器和第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果，基于第二检测结果来获得与第一检测器与第二检测器之间的距离相关的第二信息，并且基于第一信息和第二信息来控制原件与基板的对准。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及用于制造物品的方法
本专利技术涉及曝光装置以及用于制造物品的方法。
技术介绍
将原件(例如，掩模)的图案转印到其上施加了抗蚀剂的基板(例如，玻璃板和晶圆)之上的曝光装置已经被用于制造平板(例如，液晶面板和有机EL面板)以及半导体器件。在这样的曝光装置中，将原件的图案高精度地定位于基板上的照射区(shotarea)内是重要的。同时，提高曝光装置的吞吐量(生产能力)同样是所期望的。作为用于提高吞吐量的方法，例如，存在着这样的方法：在原件与基板的对准(定位)中，只有一部分标记(对准标记)已被测量(减少待测量的标记的数量)，而非测量基板上的全部标记。日本专利No.5006761公开了这样的方法：在照射区内的标记只有一部分被测量，并且照射区内的校正量基于在全部标记都已被测量的另一个基板上的照射区来预测。但是，很有可能，在日本专利No.5006761中公开的方法将会由于在基板随机变形的情形中待测量的标记的数量减少而导致照射区的校正量的误差。
技术实现思路
本专利技术提供了例如在提高对准精度和吞吐量方面有优势的曝光装置。根据本专利技术的一个方面，本专利技术提供了用于经由投影光学系统将形成于原件上的图案的图像转印到基板上的曝光装置，该曝光装置包含：经由形成于原件上的原件侧标记和投影光学系统来检测形成于基板上的基板侧标记中的至少一个的第一检测器；按照比第一检测器多的数量来布置的并且在没有经由投影光学系统的情况下分别检测基板侧标记的多个第二检测器；具有多个参考标记的参考板；以及被配置为控制原件与基板的对准的控制单元，其中控制单元被配置为通过第二检测器来获得该多个参考标记的第一检测结果并且基于第一检测结果来获得与该多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，控制单元被配置为通过第一检测器和第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果并且基于第二检测结果来获得与第一检测器与第二检测器之间的距离相关的第二信息，并且控制单元被配置为基于第一信息和第二信息来控制原件与基板的对准。根据以下关于示例性实施例的描述(参照附图)，本专利技术的更多特征将变得很清晰。附图说明图1示出了根据本专利技术的一个实施例的曝光装置的配置。图2A示出了一个实施例中基板上的标记的布局。图2B示出了一个实施例中原件上的标记的布局图2C示出了一个实施例中对准观测仪(scope)的布局。图2D示出了一个实施例中离轴观测仪的布局。图2E示出了一个实施例中参考标记的布局。图3是示出了一个实施例中的对准流程的流程图。具体实施方式以下，将参考附图来描述本专利技术的优选实施例。首先，将给出关于根据本专利技术的一个实施例的曝光装置的配置的描述。图1是示出根据本实施例的曝光装置100的配置的示意图。曝光装置100在例如平板(诸如液晶显示器件和有机EL器件)的制造过程中被用作光刻装置。特别地，在本实施例中，曝光装置100是通过步进扫描法将形成于原件(掩模)上的图案3a转印(曝光)到基板5a(即，例如，玻璃板)上的扫描型投影曝光装置。曝光装置100包含照明光学系统1、原件台3b、投影光学系统4、基板台5b、对准测量单元2、离轴测量单元9、参考板10和控制单元8。注意，在下面的图1和图2A至2E中，Y轴被定位于在与垂直方向上的Z轴垂直的平面中曝光期间原件3a和基板5a的扫描方向上，而X轴被定位于与Y轴正交的非扫描方向上。照明光学系统1具有光源(未示出)并且将狭缝形照明光(例如，圆弧形)照射到原件3a上。原件台3b保持原件3a并且在Y轴方向上是可移动的。投影光学系统4采用由多个镜面配置的镜面投影方法，并且将形成于原件3a上的图案的图像以例如相等的倍率投影到由基板台5b保持的基板5a上。基板台(基板保持单元)5b被放置于底座6上、保持住基板5a并且可在例如六个方向(具体地，X、Y、Z、ωx、ωy和ωz方向)上移动。在曝光期间，由原件台3b保持的原件3a以及由基板台5b保持的基板5a按照经由投影光学系统4位置共轭的关系(投影光学系统4的对象表面和图像表面)被布置。对准测量单元2被放置于照明光学系统1与原件3a之间，并且包括用作第一检测器的至少两个对准观测仪2a和2b(见图2C)。曝光装置100在将原件的图案3a转印到基板5a上的多个照射区上时执行照射区(基板5a)与原件3a之间的对准(定位)。然后，对准测量单元2经由投影光学系统4同时检测(观察)形成于基板5a上的标记(基板侧标记)以及形成于原件3a上的多个标记(原件侧标记)。注意，如果在由对准测量单元2执行测量时使用具有与在曝光基板5a时所使用的光的波长相同的波长的光，则基板5a可以被曝光(在基板5a上的抗蚀剂可以被曝光)。因此，具有与在曝光基板5a时所使用的光的波长不同的波长的光(这种光为非曝光用光)被用作在执行对准测量时所使用的光。离轴测量单元9位于投影光学系统4与基板5a(基板台5b)之间，并且包括用作第二检测器的至少两个(在本实施例中为六个)离轴观测仪9a至9f(见图2D)。离轴测量单元9在不经由投影光学系统4的情况下检测(观察)设置于基板5a上的照射区中的多个标记。注意，按照与由对准测量单元2进行的测量类似的方式，在离轴测量单元9执行测量时所使用的光同样是具有与在曝光基板5a时所使用的光的波长不同的波长的光(非曝光用光)。参考板10位于离轴测量单元9在其处可检测的位置，例如，位于面向离轴测量单元9的位置，并且包括与离轴观测仪9a至9f的每个位置(地点)对应的多个参考标记10a至10f。也就是，离轴测量单元9的离轴观测仪9a至9f中的每一个都可以单独地检测被设置于对应位置的每个参考标记10a至10f。附加地，曝光装置100可以包含驱动单元(第一驱动单元，未示出)，该驱动单元允许移动参考板10，从而使得在通过使用各离轴观测仪9a至9f来执行检测时，各参考标记10a至10f都位于检测范围内。作为替代地，在不设置专门用于移动参考版10的情况下，例如通过将参考板10基板台5b一体地放置，曝光装置100可以具有参考板10随基板台5b的移动而移动的配置。控制单元8由计算机来配置，通过线路与曝光装置100的每个构件连接，并且可以依据程序等来控制每个构件的操作、调整等。注意，控制单元8可以与曝光装置100的其他部分一体地进行配置(在共用的外壳内)，或者可以与曝光装置100的其他部分分离地进行配置(在分离的外壳内)。控制单元8基于由对准测量单元2测得的照射区上的每个标记的位置以及由离轴测量单元9测得的照射区上的标记的位置而获得照射区的形状信息。在它们当中，照射区的形状信息包括，例如，在照射区内的旋转分量、位移分量、倍率分量或正交分量。位移分量、倍率分量和正交分量可以分别包含X方向分量和Y方向分量。在此，控制单元8使离轴测量单元9测量参考板10，并由此可以基于该测量结果而获得与离轴观测仪9a至9f之间(在第二检测器之间)的距离(第一距离，以下称为“第一基线”)相关的第一信息。此外，控制单元8可以获得与扫描平面(XY平面)中的对准测量单元2(对准观测仪)与离轴测量单元9(离轴观测仪)之间的距离(第二距离，以下称为“第二基线”)相关的第二信息。控制单元8可以基于第一信息和第二信息来测量基板5a上的每个标记的位置。控制单元8基于所获得的形状信息来确定原件台3b和基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于经由投影光学系统将形成于原件上的图案的图像转印到基板上的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包含：第一检测器，所述第一检测器经由形成于所述原件上的原件侧标记和所述投影光学系统来检测形成于所述基板上的基板侧标记中的至少一个；多个第二检测器，所述多个第二检测器以与所述第一检测器相比更多的数量来布置并且在不经由所述投影光学系统的情况下分别检测所述基板侧标记；具有多个参考标记的参考板；以及被配置为控制所述原件与所述基板的对准的控制单元，其中所述控制单元被配置为通过所述第二检测器来获得所述多个参考标记的第一检测结果，并且基于所述第一检测结果来获得与所述多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，其中所述控制单元被配置为通过所述第一检测器和所述第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果，并且基于所述第二检测结果来获得与所述第一检测器和所述第二检测器之间的第二距离相关的第二信息，并且其中所述控制单元被配置为基于所述第一信息和所述第二信息来控制所述原件与所述基板的对准。

【技术特征摘要】
2014.04.02 JP 2014-0764481.一种用于经由投影光学系统将形成于原件上的图案的图像转印到基板上的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包含：第一检测器，所述第一检测器经由形成于所述原件上的原件侧标记和所述投影光学系统来检测形成于所述基板上的基板侧标记中的至少一个；多个第二检测器，所述多个第二检测器以与所述第一检测器相比更多的数量来布置并且在不经由所述投影光学系统的情况下分别检测所述基板侧标记；具有多个参考标记的参考板；以及被配置为控制所述原件与所述基板的对准的控制单元，其中所述控制单元被配置为通过所述第二检测器来获得所述多个参考标记的第一检测结果，并且基于所述第一检测结果来获得与所述多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，其中所述控制单元被配置为通过所述第一检测器和所述第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果，并且基于所述第二检测结果来获得与所述第一检测器和所述第二检测器之间的第二距离相关的第二信息，并且其中所述控制单元被配置为基于所述第一信息和所述第二信息来控制所述原件与所述基板的对准。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述第一检测器按照由所述第二检测器进行检测的时序来检测所述基板侧标记。3.根据权利要求1所述的曝光装置，包含保持所述基板的且可移动的基板保持器，其中所述参考板被布置为在所述基板保持器被移动至所述基板被交换的位置的情况下移动至...

【专利技术属性】
技术研发人员：和泉望，长野浩平，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP