透镜系统包括：最物方侧透镜组；第1最像方侧透镜元件；以及邻近配置在该第1最像方侧透镜元件的物方侧的第2最像方侧透镜元件，最物方侧透镜组具有正的光焦度，在进行聚焦时，最物方侧透镜组相对于像面是固定的，第1最像方侧透镜元件以及第2最像方侧透镜素子的至少一个具有负的光焦度，透镜系统满足以下的条件：0.5＜DAIR/Y以及1.5＜DIM/DOB＜4.0(DAIR：无限远对焦状态下的构成透镜系统的透镜元件间的空气间隔中的最大值，Y＝f×tanω，f：整个系统的焦距，ω：整个系统的半视场角，DOB：最物方侧透镜组的在光轴上的厚度，DIM：从相邻地位于最物方侧透镜组的像方侧的透镜组中的、最物方侧透镜元件的物方侧面至第1最像方侧透镜元件的像方侧面的光轴上的距离)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及内聚焦透镜系统、可更换镜头装置W及照相机系统。
技术介绍
对于具有进行光电转换的摄像元件的可更换镜头装置或照相机系统等的紧凑化 W及高性能化的要求极其高，现已提出了各种各样的使用于该样的可更换镜头装置或照相 机系统的透镜系统。 专利文献1揭示了一种内聚焦透镜系统，从物方依次具有正光焦度的第1透镜组 和正光焦度的第2透镜组，该第1透镜组在聚焦时相对于像面被固定，并具有负透镜成分、 第1正透镜成分、W及第2正透镜成分。 专利文献2揭示了一种内聚焦透镜系统，从物方依次具有正光焦度的第1透镜组 和正光焦度的第2透镜组，该第2透镜组在聚焦时移动，并具有正光焦度的第21透镜成分、 负光焦度的第22透镜成分、正光焦度的第23透镜成分、W及正光焦度的第24透镜成分。 现有技术文献 [000引专利文献 专利文献1 ;日本特开2009-276536号公报 专利文献2 ;日本特开2009-086221号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 本专利技术提供一种小型、且能够充分地抑制各像差的发生的、析像度高的高性能的 内聚焦透镜系统。又，本专利技术提供一种包含该内聚焦透镜系统的可更换镜头装置W及具有 该可更换镜头装置的照相机系统。 解决课题的手段 本专利技术的内聚焦透镜系统具有由至少一个透镜元件构成的透镜组， 所述内聚焦透镜系统包括： 被配置在最物方侧的最物方侧透镜组； 被配置在最像方侧的第1最像方侧透镜元件；W及 邻近配置在所述第1最像方侧透镜元件的物方侧的第2最像方侧透镜元件， 所述最物方侧透镜组具有正的光焦度，在从无限远对焦状态朝近物对焦状态进行 聚焦时，所述最物方侧透镜组相对于像面是固定的， 所述第1最像方侧透镜元件W及所述第2最像方侧透镜素子的至少一个具有负的 光焦度， 所述内聚焦透镜系统满足W下的条件（1)W及（2): (FjJXfXLV(巧 < 30…（1)BF/Y< 1. 75…（2)[002引 其中，[002引町。;整个系统的F值， f;整个系统的焦距， L;透镜全长（从配置在透镜系统的最物方侧的透镜元件的物方侧面至像面的光 轴上的距离）， Y;由下式表示的最大像高 Y=fXtan?， ? :整个系统的半视场角， BF;从第1最像方侧透镜元件的像方侧面的顶点至像面的距离。 本专利技术的可更换镜头装置，具有： 内聚焦透镜系统；和 镜头安装部，其能够与包含摄像元件的照相机主体连接，所述摄像元件接收所述 内聚焦透镜系统所形成的光学像，并将所接收的光学像转换为电图像信号， 所述内聚焦透镜系统具有由至少一个透镜元件构成的透镜组， 所述内聚焦透镜系统包括：被配置在最物方侧的最物方侧透镜组； 被配置在最像方侧的第1最像方侧透镜元件；W及 邻近配置在所述第1最像方侧透镜元件的物方侧的第2最像方侧透镜元件， 所述最物方侧透镜组具有正的光焦度，在从无限远对焦状态朝近物对焦状态进行 聚焦时，所述最物方侧透镜组相对于像面是固定的， 所述第1最像方侧透镜元件W及所述第2最像方侧透镜素子的至少一个具有负的 光焦度， 所述内聚焦透镜系统满足W下的条件（1)W及（2):[00川（FiJXfXLV(巧 < 30…（1)BF/Y< 1. 75- (2)[004引 其中， Fn。;整个系统的F值， f;整个系统的焦距， L;透镜全长（从配置在透镜系统的最物方侧的透镜元件的物方侧面至像面的光 轴上的距离）， Y;由下式表示的最大像高 Y=fXtan?， ? :整个系统的半视场角， BF;从第1最像方侧透镜元件的像方侧面的顶点至像面的距离。 本专利技术的照相机系统，具有： 包含内聚焦透镜系统的可更换镜头装置；和 通过照相机安装部能装卸地与所述可更换镜头装置连接的、包含摄像元件的照相 机主体，所述摄像元件接收所述内聚焦透镜系统所形成的光学像，并将所接收的光学像转 换为电图像信号， 所述内聚焦透镜系统具有由至少一个透镜元件构成的透镜组，所述内聚焦透镜系统包括： 被配置在最物方侧的最物方侧透镜组； 被配置在最像方侧的第1最像方侧透镜元件；W及 邻近配置在所述第1最像方侧透镜元件的物方侧的第2最像方侧透镜元件， 所述最物方侧透镜组具有正的光焦度，在从无限远对焦状态朝近物对焦状态进行 聚焦时，所述最物方侧透镜组相对于像面是固定的， 所述第1最像方侧透镜元件W及所述第2最像方侧透镜素子的至少一个具有负的 光焦度， 所述内聚焦透镜系统满足W下的条件（1)W及（2):[006引（Fwo'XfXLV(巧 < 30…（1) BF/Y< 1. 75…（2) 其中， 町。;整个系统的F值， f;整个系统的焦距， L;透镜全长（从配置在透镜系统的最物方侧的透镜元件的物方侧面至像面的光 轴上的距离），[006引 Y;由下式表示的最大像高 Y二fXtanco， ? :整个系统的半视场角， BF;从第1最像方侧透镜元件的像方侧面的顶点至像面的距离。 专利技术的效果 本专利技术的内聚焦透镜系统小型，且具有能够充分地抑制各像差的发生、析像度高 的高性能。【附图说明】 图1是表示实施方式1(数值实施例1)所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状 态的透镜配置图。图2是数值实施例1所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状态的纵向像差图。 图3是表示实施方式2 (数值实施例2)所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状 态的透镜配置图。 图4是数值实施例2所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状态的纵向像差图。 图5是表示实施方式3 (数值实施例3)所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状 态的透镜配置图。 图6是数值实施例3所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状态的纵向像差图。 图7是表示实施方式4 (数值实施例4)所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状 态的透镜配置图。 图8是数值实施例4所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状态的纵向像差图。 图9是表示实施方式5 (数值实施例5)所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状 态的透镜配置图。 图10是数值实施例5所设及的内聚焦透镜系统的无限远对焦状态的纵向像差图。 图11是实施方式6所设及的可更换镜头式数码照相机系统的概略结构图。【具体实施方式】 W下，一边适当参照附图，一边对实施方式进行详细说明。但是，有时会省略不必 要的详细说明。例如，有时会省略已经熟知的事项的详细说明、对于实质上相同的结构的重 复说明。该是为了避免W下的说明变得不必要的冗长，使得本领域技术人员容易理解。 另外，为了让本领域技术人员充分地理解本公开内容，专利技术者们提供了附图W及 W下的说明，但没有意图通过它们来限定权利要求书所记载的主题。 (实施方式1~W 图1、3、5、7W及9是各实施方式1~5所设及的内聚焦透镜系统的透镜配置图， 都表示处于无限远对焦状态下的内聚焦透镜系统。 在图1、3、5、7W及9中，被标注于透镜组的与光轴平行的箭头表示从无限远对焦 状态朝近物对焦状态进行聚焦时的透镜组的移动方向。另外，在图1W及3中，被标注于透 镜组的与光轴垂直的箭头表示该透镜组是为了对像的模糊进行光学补偿而在与光轴垂直 的方向上移动的透镜组。 在各图中，被标注于特定面的星号*表示该面是非球面。并且，在各图中，被标注 于各透镜组的符号的记号（+)及记号（一)对应于各本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种内聚焦透镜系统，其具有由至少一个透镜元件构成的透镜组，所述内聚焦透镜系统的特征在于，包括：被配置在最物方侧的最物方侧透镜组；被配置在最像方侧的第1最像方侧透镜元件；以及邻近配置在所述第1最像方侧透镜元件的物方侧的第2最像方侧透镜元件，所述最物方侧透镜组具有正的光焦度，在从无限远对焦状态朝近物对焦状态进行聚焦时，所述最物方侧透镜组相对于像面是固定的，所述第1最像方侧透镜元件以及所述第2最像方侧透镜元件的至少一个具有负的光焦度，所述内聚焦透镜系统满足以下的条件(1)以及(2)：(FNO2×f×L)/(Y2)＜30···(1)BF/Y＜1.75···(2)其中，FNO：整个系统的F值，f：整个系统的焦距，L：透镜全长，即从配置在透镜系统的最物方侧的透镜元件的物方侧面至像面的光轴上的距离，Y：由下式表示的最大像高Y＝f×tanω，ω：整个系统的半视场角，BF：从第1最像方侧透镜元件的像方侧面的顶点至像面的距离。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：饭山智子，米谷祐亮，葛原聪，末吉正史，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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