【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展,显示装置广泛应用于显示领域,现有的显示装置通常为液晶显示器(英文:LiquidCrystalDisplay,简称:LCD)。LCD通常采用液晶分子配合偏光片实现图像的显示。具体地,LCD通常包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板,以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,液晶层中包括多个液晶分子,阵列基板的背光侧设置有上偏光片,彩膜基板的出光侧设置有下偏光片,背光源位于上偏光片远离阵列基板的一侧,背光源与上偏光片之间设置有导光板。背光源发出的光依次经过导光板、上偏光片、阵列基板、液晶层、彩膜基板和下偏光片,利用液晶层中的液晶分子的光致各向异性,改变光的偏振态,调节由下偏光片射出的光的光通量,光线在经过彩膜基板时,彩膜能够对光线进行滤色形成彩色的光,使得LCD能够显示彩色图像。在实现本专利技术的过程中,专利技术人发现现有技术至少存在以下问题:背光源发出的光在经过导光板、上偏光片、阵列基板、液晶层、彩膜基板和下偏光片时,上偏光片、液晶层和下偏光片均会对光进行吸收,导致光的亮度和能量损失较大。
技术实现思路
为了解决现有技术中光的亮度和能量损失较大的问题,本专利技术提供一种显示基板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下:第一方面,提供一种显示基板,所述显示基板包括:衬底基板;所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元;每个所述像素单元包括:显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位 ...
【技术保护点】
一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:衬底基板;所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元;每个所述像素单元包括:显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构,以及设置在所述阻隔结构上的反光层;所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构,所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内,所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内;其中,在每个所述像素单元中,由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:衬底基板;所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元;每个所述像素单元包括:显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构,以及设置在所述阻隔结构上的反光层;所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构,所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内,所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内;其中,在每个所述像素单元中,由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述衬底基板的周边区域形成有聚光层,所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成有多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵,所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置,且相邻的两条所述横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵能够围成开口区域;所述开口区域上形成有透明电极;每个所述透明电极上形成有至少一个所述显色结构;每条所述纵向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构;和/或,每条所述横向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构。4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述反光层由多个长条状的反光层构成,每个所述长条状的反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个所述透光区域和所述第二反光结构;所述透明电极为长条状结构,所述透明电极位于每两条相邻的所述纵向黑矩阵之间,或者,所述透明电极位于每两条相邻的所述横向黑矩阵之间,每个所述长条状的反光层的长度方向与所述透明电极的长度方向垂直。5.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,当所述第一反光结构设置在所述纵向黑矩阵上时,所述第一反光结构的反光面与所述纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°~70°;当所述第一反光结构设置在所述横向黑矩阵上时,所述第一反光结构的反光面与所述横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°~70°。6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一反光结构通过构图工艺在所述衬底基板上形成;所述显色结构和所述阻隔结构都采用树脂形成;所述反光层为反光薄膜,采用反光材料形成。7.一种显示基板的制造方法,其特征在于,所述显示基板包括权利要求1至6任一所述的显示基板,所述显示基板包括:衬底基板,所述方法包括:在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元;每个所述像素单元包括:显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构,以及设置在所述阻隔结构上的反光层;所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构,所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内,所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内;其中,在每个所述像素单元中,由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前,所述方法还包括:在所述衬底基板的周边区域形成聚光层,所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前,所述方法还包括:在形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵,使所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置,且相邻的两条所述横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵围成开口区域;在所述开口区域上形成透明电极;所述在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元,包括:在每个所述透明电极上形成至少一个所述显色结构;在每条所述纵向黑矩阵上形成至少一个所述第一反光结构,使所述第一反光结构位于所述显色结构四周;在每条所述纵向黑矩阵上未设置所述第一反光结构的区域形成所述阻隔结构,使所述阻隔结构位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧;和/或,在每条所述横向黑矩阵上形成至少一个所述第一反光结构,使所述第一反光结构位于所述显色结构四周;在每条所述横向黑矩阵上未设置所述第一反光结构的区域形成所述阻隔结构,使所述阻隔结构位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧。10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元,还包括:在形成有所述阻隔结构的基板上除所述阻隔结构以外的区域形成...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯京,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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