一种雕刻上色系统技术方案

本发明专利技术公开了一种雕刻上色系统，包括：模型分析模块、雕刻模块、上色路径分析模块、上色模块；模型分析模块中预设有目标模型，并对目标模型进行分解，获得雕刻模型和色彩模型；雕刻模块与模型分析模块连接，用于雕刻模型对原材料进行雕刻，获得胚体；上色路径分析模块与模型分析模块连接，用于根据色彩模型生成上色路径；上色模块包含驱动控制单元和上色执行工件，第一驱动控制单元分别连接上色路径分析模块和上色执行工件，其根据上色路径控制上色执行工件以色彩打点的方式对胚体进行上色，获得对应目标模型的成品。本发明专利技术采用分层雕刻、先雕刻后上色、分色上色、打点上色等，可有效抵简化工作过程、降低难度，提高产品合格率，避免串色等。

【技术实现步骤摘要】
一种雕刻上色系统
本专利技术涉及花纹镂刻着色
，尤其涉及一种雕刻上色系统。
技术介绍
现社会，随着人们生活品质的提高，一切视觉上的享受也越来越被重视追捧。为了满足人们需要，各种包装越来越精美，其中花纹镂刻着色就是包装上常用来提高视觉享受的一种手段。花纹镂刻着色可用于瓶装容器、地板、墙板等多种应用领域。现有的花纹镂刻上色技术中，报废率高，尤其是着色时常常采用色彩喷涂的方式，即容易造成串色，有难以实现色彩的细节处理。故而，现有技术中，酒瓶等高档商品包装上很少用到花纹镂刻着色技术，致使这些液态商品常常出现包装跟不上的尴尬。
技术实现思路
基于
技术介绍
存在的技术问题，本专利技术提出了一种雕刻上色系统。本专利技术提出的一种雕刻上色系统，包括：模型分析模块、雕刻模块、上色路径分析模块、上色模块；模型分析模块中预设有目标模型，并对目标模型进行分解，获得雕刻模型和色彩模型；雕刻模块与模型分析模块连接，用于雕刻模型对原材料进行雕刻，获得胚体；上色路径分析模块与模型分析模块连接，用于根据色彩模型生成上色路径；上色模块包含驱动控制单元和上色执行工件，第一驱动控制单元分别连接上色路径分析模块和上色执行工件，其根据上色路径控制上色执行工件以色彩打点的方式对胚体进行上色，获得对应目标模型的成品。本专利技术中，采用点色的方式进行上色，相对于传统的喷彩上色，有利于提高色彩的精细程度，提高色彩画面的精致程度，并避免色彩越区造成串色，从而提高成品色彩图案的品质。本专利技术采用分层雕刻、先雕刻后上色、分色上色、打点上色等，可有效抵简化工作过程、降低难度，提高产品合格率，避免串色等。优选地，雕刻模块包括：第二驱动控制单元、雕刻执行工件、扫描对比单元和下料单元；第二驱动控制单元分别连接模型分析模块和雕刻执行工件，其根据雕刻模型控制雕刻执行工件对原材料进行雕刻；扫描对比单元用于扫描雕刻后的胚体模型，并将其与雕刻模型进行对比；扫描对比单元与下料单元连接，其根据对比结果控制下料单元工作。优选地，第二驱动控制单元内部预设有第一三维坐标，其将雕刻模型映射到第一三维坐标中，并建立包覆于雕刻模型外周的参考模型，其对雕刻模型的表层进行点分解生成表层点集，参考模型由不少于一个参考点组成，且表层点集中的每一个分解点均对应参考模型的一个参考点；第二驱动控制单元根据每一对分解点与参考点的对应关系生成进给值，根据进给值对分解点进行区间划分，每一区间中的分解点对应的进给值两两之间最大差值不大于预设浮动值；最后第二驱动控制单元针对每一区间建立雕刻路径。扫描对比单元的设置，可对雕刻完成的胚体进行实时检测，避免不合格的胚体流入下道工序，造成更大的损失。优选地，浮动值为零。优选地，扫描对比单元内预设有浮动值区间，扫描对比单元将胚体模型与雕刻模型的误差与浮动值区间进行对比，根据对比结果判断胚体是否合格。优选地，浮动值区间根据雕刻模型的蒙皮参数进行建立。优选地，上色路径分析模块内部预设有第二三维坐标，其将色彩模型映射到第二三维坐标中，并标注每一个色彩点的色相；第一驱动控制单元根据色相对色彩点进行分类，建立色彩子集，然后根据色彩子集生成打点路径，并集合打点路径形成上色路径。优选地，第一驱动控制单元根据色相控制上色执行工件逐一完成每一条打点路径，获得对应目标模型的成品。本专利技术中，对色彩点根据色相进行分类，从而可根据分类结果对胚体进行不同颜色的逐一上色，从而对上色工作工程中的执行颜色进行简化，避免同时操作多种颜色时可能造成的串色等，有利于提高上色工作效率，降低失误了，提高成品合格率。本专利技术中，通过对色彩点标设坐标的方式，可以精确的设计上色路线，提高上色效率，避免错位。具体实施方式本专利技术提出的一种雕刻上色系统，包括：模型分析模块、雕刻模块、上色路径分析模块、上色模块。模型分析模块中预设有目标模型，并对目标模型进行分解，获得雕刻模型和色彩模型。雕刻模块与模型分析模块连接，用于雕刻模型对原材料进行雕刻，获得胚体。雕刻模块包括：第二驱动控制单元、雕刻执行工件、扫描对比单元和下料单元。第二驱动控制单元分别连接模型分析模块和雕刻执行工件，其根据雕刻模型控制雕刻执行工件对原材料进行雕刻。第二驱动控制单元内部预设有第一三维坐标，其将雕刻模型映射到第一三维坐标中，并建立包覆于雕刻模型外周的参考模型，其对雕刻模型的表层进行点分解生成表层点集，参考模型由不少于一个参考点组成，且表层点集中的每一个分解点均对应参考模型的一个参考点。参考点可通过由雕刻模型向参考模型沿着雕刻执行工件相对于原材料的移动方向做射线确定，位于同一条射线上的分解点与参考点相对应。第二驱动控制单元根据每一对分解点与参考点的对应关系生成进给值，根据进给值对分解点进行区间划分，每一区间中的分解点对应的进给值两两之间最大差值不大于预设浮动值，浮动值具体可为零。最后第二驱动控制单元针对每一区间建立雕刻路径，然后控制雕刻执行工件根据雕刻路径对胚体进行雕刻。本实施方式中，第一三维坐标的设置有利于将雕刻模型数据化，从而为自动控制雕刻工作的进行奠定基础。且参考模型的设置，有利于对雕刻执行工件进行精确定位，从而提高雕刻精度与效率。本实施方式中，通过对分解点进行分类后再生成雕刻路径，可实现对原材料的分层雕刻，从而降低雕刻复杂程度，避免不同层次间相互干扰。扫描对比单元用于扫描雕刻后的胚体模型，并将其与雕刻模型进行对比。扫描对比单元与下料单元连接，其根据对比结果控制下料单元工作。扫描对比单元内预设有浮动值区间，扫描对比单元将胚体模型与雕刻模型的误差与浮动值区间进行对比，当两者误差在预设浮动值区间内，则胚体合格，胚体进入下道工序；当两者误差不在预设浮动值区间内，则胚体不合格，扫描对比单元控制下料单元对不合格胚体进行下料。本实施方式中，浮动值区间根据雕刻模型的蒙皮参数进行建立，以避免因为视觉不可查的细微误差导致原本可视作合格的胚体被淘汰。上色路径分析模块与模型分析模块连接，用于根据色彩模型生成上色路径。上色路径分析模块内部预设有第二三维坐标，其将色彩模型映射到第二三维坐标中，并标注每一个色彩点的色相；第一驱动控制单元根据色相对色彩点进行分类，建立色彩子集，然后根据色彩子集生成打点路径，并集合打点路径形成上色路径。本实施方式中，对色彩点根据色相进行分类，从而可根据分类结果对胚体进行不同颜色的逐一上色，从而对上色工作工程中的执行颜色进行简化，避免同时操作多种颜色时可能造成的串色等，有利于提高上色工作效率，降低失误了，提高成品合格率。上色模块包含驱动控制单元和上色执行工件，第一驱动控制单元分别连接上色路径分析模块和上色执行工件，其根据上色路径控制上色执行工件以色彩打点的方式对胚体进行上色，获得对应目标模型的成品。具体地，第一驱动控制单元根据色相控制上色执行工件逐一完成每一条打点路径，获得对应目标模型的成品。本实施方式中，采用点色的方式进行上色，相对于传统的喷彩上色，有利于提高色彩的精细程度，提高色彩画面的精致程度，并避免色彩越区造成串色，从而提高成品色彩图案的品质。以上所述，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种雕刻上色系统，其特征在于，包括：模型分析模块、雕刻模块、上色路径分析模块、上色模块；模型分析模块中预设有目标模型，并对目标模型进行分解，获得雕刻模型和色彩模型；雕刻模块与模型分析模块连接，用于雕刻模型对原材料进行雕刻，获得胚体；上色路径分析模块与模型分析模块连接，用于根据色彩模型生成上色路径；上色模块包含驱动控制单元和上色执行工件，第一驱动控制单元分别连接上色路径分析模块和上色执行工件，其根据上色路径控制上色执行工件以色彩打点的方式对胚体进行上色，获得对应目标模型的成品。

【技术特征摘要】
1.一种雕刻上色系统，其特征在于，包括：模型分析模块、雕刻模块、上色路径分析模块、上色模块；模型分析模块中预设有目标模型，并对目标模型进行分解，获得雕刻模型和色彩模型；雕刻模块与模型分析模块连接，用于根据雕刻模型对原材料进行雕刻，获得胚体；上色路径分析模块与模型分析模块连接，用于根据色彩模型生成上色路径；上色模块包含驱动控制单元和上色执行工件，第一驱动控制单元分别连接上色路径分析模块和上色执行工件，其根据上色路径控制上色执行工件以色彩打点的方式对胚体进行上色，获得对应目标模型的成品；雕刻模块包括：第二驱动控制单元、雕刻执行工件、扫描对比单元和下料单元；第二驱动控制单元分别连接模型分析模块和雕刻执行工件，其根据雕刻模型控制雕刻执行工件对原材料进行雕刻；扫描对比单元用于扫描雕刻后的胚体模型，并将其与雕刻模型进行对比；扫描对比单元与下料单元连接，其根据对比结果控制下料单元工作；第二驱动控制单元内部预设有第一三维坐标，其将雕刻模型映射到第一三维坐标中，并建立包覆于雕刻模型外周的参考模型，其对雕刻模型的表层进行点分解生成表层点集，参考模型由不少于一个参考点组成，且表层点集中的每一个分解点均对应参考模型...

【专利技术属性】
技术研发人员：单威，
申请(专利权)人：安徽一威贸易有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34