本实用新型专利技术涉及一种日夜两用宽带通滤光片。该滤光片包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜，滤光膜由32层膜层组成，该32层膜层由高折射率介质材料Nb2O5膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成。该滤光片采用Nb2O5作为高折射率材料，同时采用MgF2作为低折射率材料，进一步增大高低折射率材料间的折射率差异，以制备牢固度好、硬度强、吸收小、层数少、膜厚薄且有效消除超薄层的滤光膜，其可见光通带波段为400-640nm，平均透过率大于98％；透过红外光通带波段为840-970nm，平均透过率大于98％；截止带波段为670-800nm，平均透过率小于0.4％，能高效过滤杂光。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种滤光片，特别涉及一种日夜两用宽带通滤光片。
技术介绍
日夜两用带通滤光片是指能同时通过可见光和近红外光，同时截止部分可见光和近红外光的滤光片，主要应用于数码相机、数码摄像机、手机摄像、可视对讲、电子玩具、安全监控、生物医药等CXD或CMOS成像系统领域，保证白天可分别获得抗强光和抗杂光干扰能力强，色彩失真少的彩色图像，而夜晚也可获得同样清晰的黑白图像。在现有应用中，红外灯常用有红爆的红外LED发射管(使用波长为850nm)，因此常用日夜两用带通滤光片往往选择通过可见光和850nm近红外光；但其无法满足其它无红爆红外LED发射管(使用波长为940nm)的补光应用要求，甚至增强激光(使用波长为950nm)夜视等要求。此外，现有技术的日夜两用带通滤光片截止带透过率较高(一般仅为平均透过率小于1%)，且通带和截止带过渡区较宽，容易在成像时出现偏色或色差，难以满足CCD或CMOS成像系统对日夜两用滤光片的要求。且现有技术的日夜两用带通滤光片常用高折射率介质材料Ti02(n =2.35i550nm)和低折射率介质材料Si02(n = 1.45i550nm)交替堆叠制备，主要存在以下不足之处:(I)滤光膜层数较多(多达50多层)，膜层较厚(厚达4-5微米)，而且存在较多超薄层(单层膜厚小于1nm)，超薄层的精确控制对镀膜生产来说是个难点，较多超薄层的结构必然影响批量化生产的良品率和稳定性，(2)Ti02材料在蒸发沉积过程中容易失氧，形成其它低价氧化物薄膜，导致吸收增大，且Ti02薄膜长期暴露在紫外线照射下，会导致小于450nm的短波吸收增加，这必然影响到滤光片的长期使用性能。
技术实现思路
本技术的目的在于克服以上缺点，提供一种日夜两用宽带通滤光片，该滤光片采用折射率比常用Ti02略低但蒸发特性和吸收特性更稳定的Nb205作为高折射率材料，同时采用折射率比常用Si02更低的MgF2作为低折射率材料，进一步增大高低折射率材料间的折射率差异，以制备牢固度好、硬度强、吸收小、层数少、膜厚薄且有效消除超薄层的滤光膜，其可见光通带波段为400-640nm，平均透过率大于98% ;透过红外光通带波段为840-970nm，平均透过率大于98% ;截止带波段为670_800nm，平均透过率小于0.4%，能高效过滤杂光且有效避免色差或偏色问题。本技术是这样实现的:一种日夜两用宽带通滤光片，包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜，所述滤光膜由32层膜层组成，该32层膜层由高折射率介质材料Nb205膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成，该32层膜层从内至外依次为:第I层，Nb205膜层，厚度为99-101nm ;第2层，MgF2膜层，厚度为181.2-184.8nm ；第3层，Nb205膜层，厚度为27.7-28.3nm ;第4层，MgF2膜层，厚度为33.7-34.3nm ;第5层，Nb205膜层，厚度为28.7-29.3nm ;第6层，MgF2膜层，厚度为30.7-31.3nm ;第7层，Nb205 膜层，厚度为 99-101nm ;第 8 层，MgF2 膜层，厚度为 148.5-151.5nm ;第 9 层，Nb205膜层，厚度为 80.2-81.8nm ;第 10 层，MgF2 膜层，厚度为 144.5-147.5nm ;第 11 层，Nb205膜层，厚度为95-97nm ;第12层，MgF2膜层，厚度为40.6-41.4nm ;第13层，Nb205膜层，厚度为30.7-31.3nm ;第14层，MgF2膜层，厚度为20.8-21.2nm ;第15层，Nb205膜层，厚度为 48.5-49.5nm ;第 16 层，MgF2 膜层，厚度为 156.4-159.6nm ;第 17 层，Nb205 膜层，厚度为 79.2-80.Snm ;第 18 层，MgF2 膜层，厚度为 144.5-147.5nm ;第 19 层，Nb205 膜层，厚度为 82.2-83.8nm ;第 20 层，MgF2 膜层，厚度为 170.3-173.8nm ;第 21 层，Nb205 膜层，厚度为 14.9-15.2nm ;第 22 层，MgF2 膜层，厚度为 169.3-172.7nm ;第 23 层，Nb205 膜层，厚度为 84.2-85.9nm ;第 24 层，MgF2 膜层，厚度为 151.5-154.5nm ;第 25 层，Nb205 膜层，厚度为 106.9-109.1nm ;第 26 层，MgF2 膜层，厚度为 20.8-21.1nm ;第 27 层，Nb205 膜层，厚度为 121.8-124.2nm ;第 28 层，MgF2 膜层，厚度为 41.6-42.4nm ;第 29 层，Nb205 膜层，厚度为23.8-24.2nm ;第30层，MgF2膜层，厚度为49.5-50.5nm ;第31层，Nb205膜层，厚度为21.8-22.2nm ;第 32 层，MgF2 膜层，厚度为 99-lOlnm。本技术的制造工艺包括:在真空镀膜机的真空腔内，利用真空镀膜技术在透明玻璃基体上，在透明玻璃基体上依次精确沉积规定厚度要求Nb205薄膜和MgF2薄膜，最终形成所述的32层滤光膜。本技术提供的滤光片对波长为400-640nm和840_970nm的光增透，平均透过率大于98%，对波长为670-800nm的光截止，平均透过率小于0.4%，能高效过滤杂光。能有效地保证白天可分别获得抗强光和抗杂光干扰能力强，色彩失真少的彩色图像，而夜晚也可获得同样清晰的黑白图像。优选地，所述32层膜层的厚度依次为:第I层，Nb205膜层，厚度为10nm ;第2层，MgF2膜层，厚度为183nm ;第3层，Nb205膜层，厚度为28nm ;第4层，MgF2膜层，厚度为34nm ;第5层，Nb205膜层，厚度为29nm ;第6层，MgF2膜层，厚度为3 Inm ;第7层，Nb205膜层，厚度为10nm ;第8层，MgF2膜层，厚度为150nm ;第9层，Nb205膜层，厚度为81nm ;第10层，MgF2膜层，厚度为146nm;第11层，Nb205膜层，厚度为96nm ;第12层，MgF2膜层，厚度为41nm ;第13层，Nb205膜层，厚度为31nm ;第14层，MgF2膜层，厚度为21nm ;第15层，Nb205膜层，厚度为49nm ;第16层，MgF2膜层，厚度为158nm ;第17层，Nb205膜层，厚度为80nm ;第18层，MgF2膜层，厚度为146nm ;第19层，Nb205膜层，厚度为83nm ;第20层，MgF2膜层，厚度为172nm ;第21层，Nb205膜层，厚度为15nm ;第22层，MgF2膜层，厚度为17Inm ；第23层，Nb205膜层，厚度为85nm ;第24层，MgF2膜层，厚度为153nm ;第25层，Nb205膜层，厚度为108nm ;第26层，MgF2膜层，厚度为21nm ;第27层，Nb205膜层，厚度为123nm ；第28层，MgF2膜层，厚度为42nm ;第29层，Nb205膜层，厚度为24nm ;第30层，MgF2膜层，厚度为50nm ;第31本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种日夜两用宽带通滤光片，其特征在于：该滤光片包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜，所述滤光膜由32层膜层组成，该32层膜层由高折射率介质材料Nb2O5膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成，该32层膜层从内至外依次为：第1层，Nb2O5膜层，厚度为99‑101nm；第2层，MgF2膜层，厚度为181.2‑184.8nm；第3层，Nb2O5膜层，厚度为27.7‑28.3nm；第4层，MgF2膜层，厚度为33.7‑34.3nm；第5层，Nb2O5膜层，厚度为28.7‑29.3nm；第6层，MgF2膜层，厚度为30.7‑31.3nm；第7层，Nb2O5膜层，厚度为99‑101nm；第8层，MgF2膜层，厚度为148.5‑151.5nm；第9层，Nb2O5膜层，厚度为80.2‑81.8nm；第10层，MgF2膜层，厚度为144.5‑147.5nm；第11层，Nb2O5膜层，厚度为95‑97nm；第12层，MgF2膜层，厚度为40.6‑41.4nm；第13层，Nb2O5膜层，厚度为30.7‑31.3nm；第14层，MgF2膜层，厚度为20.8‑21.2nm；第15层，Nb2O5膜层，厚度为48.5‑49.5nm；第16层，MgF2膜层，厚度为156.4‑159.6nm；第17层，Nb2O5膜层，厚度为79.2‑80.8nm；第18层，MgF2膜层，厚度为144.5‑147.5nm；第19层，Nb2O5膜层，厚度为82.2‑83.8nm；第20层，MgF2膜层，厚度为170.3‑173.8nm；第21层，Nb2O5膜层，厚度为14.9‑15.2nm；第22层，MgF2膜层，厚度为169.3‑172.7nm；第23层，Nb2O5膜层，厚度为84.2‑85.9nm；第24层，MgF2膜层，厚度为151.5‑154.5nm；第25层，Nb2O5膜层，厚度为106.9‑109.1nm；第26层，MgF2膜层，厚度为20.8‑21.1nm；第27层，Nb2O5膜层，厚度为121.8‑124.2nm；第28层，MgF2膜层，厚度为41.6‑42.4nm；第29层，Nb2O5膜层，厚度为23.8‑24.2nm；第30层，MgF2膜层，厚度为49.5‑50.5nm；第31层，Nb2O5膜层，厚度为21.8‑22.2nm；第32层，MgF2膜层，厚度为99‑101nm。...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱元强，
申请(专利权)人：福建福特科光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35
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