彩膜基板的制作方法及其结构技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板的制作方法及其结构。本发明专利技术的彩膜基板的制作方法，通过采用三道半色调光罩依次对红、绿、蓝色阻层进行曝光、显影，分别在形成红、绿、蓝色阻块的同时，形成红、绿、蓝色阻薄膜，使红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成复合色阻薄膜，代替了黑色矩阵，省去了黑色矩阵制程，并可通过调节红、绿、蓝色阻薄膜的厚度控制所述复合色阻薄膜的厚度，以调节遮光效果；同时避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象，避免了色差，改善了产品品质，提升了产品良率。本发明专利技术的彩膜基板结构，采用红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成的复合色阻薄膜代替了黑色矩阵，成本较低，且避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象，无色差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板的制作方法及其结构。
技术介绍
液晶显示装置(LCD，Liquid Crystal Display)具有机身薄、省电、无福射等众多优点，得到了广泛的应用。如:液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。通常液晶显示装置包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶面板的结构主要是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(Color Filter,CF)、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。彩色滤光片基板即彩膜基板是液晶显示器的重要组成部分，传统的彩膜基板的制作方法为制作完黑色矩阵(Black Matrix,BM)后，再制作红/绿/蓝色阻层。黑色矩阵的制作方法是:先在基板上均匀涂布一层黑色矩阵材料，然后曝光，显影，最终制备出黑色矩阵膜层，该方式预计将有50%左右的黑色矩阵材料被显影掉，造成黑色矩阵材料的浪费；且黑色矩阵膜层上形成红/绿/蓝色阻层时，为了避免漏光，黑色矩阵与红/绿/蓝色阻之间会因为相互叠加而产生牛角现象，如果后制程要涂布外覆层(Over Coat，OC)，则需要更厚的外覆层才能达到平坦度要求，如果后制程为ITO (氧化铟锡)，则过高的牛角会刺穿ΙΤ0，在成盒制程时可能产生点或者线不良，降低产品良率。因此，有必要提供一种彩膜基板的制作方法及其结构，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种彩膜基板的制作方法，可省去黑色矩阵制程，减小外覆层的厚度，节省成本，同时可避免因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象，避免色差，改善广品品质，提升广品良率。本专利技术的目的还在于提供一种彩膜基板结构，采用红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成的复合色阻薄膜代替黑色矩阵，成本较低，且无色差。为实现上述目的，本专利技术提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:步骤1、提供基板，在所述基板上沉积第一色阻层；通过第一道半色调光罩对所述第一色阻层进行曝光、显影，在所述基板上得到数个间隔分布的第一色阻块、及数个第一色阻薄膜；其中，每两个相邻的第一色阻块之间间隔分布有三个第一色阻薄膜，所述三个第一色阻薄膜中位于两侧的第一色阻薄膜分别与其邻近的第一色阻块相连接，所述三个第一色阻薄膜之间形成两个第一间隙；步骤2、在所述基板上沉积第二色阻层，所述第二色阻层填充于所述数个第一色阻块之间的区域，并覆盖所述数个第一色阻薄膜；通过第二道半色调光罩对所述第二色阻层进行曝光、显影，在所述基板上得到分别位于所述数个第一色阻块同一侧的第一间隙处的数个第二色阻块、及位于所述数个第一色阻薄膜上的数个第二色阻薄膜；步骤3、在所述基板上沉积第三色阻层，所述第三色阻层填充于所述数个第一、第二色阻块之间的区域，并覆盖所述数个第二色阻薄膜；通过第三道半色调光罩对所述第三色阻层进行曝光、显影，在所述基板上得到分别位于所述数个第二色阻块远离所述第一色阻块一侧的第一间隙处的数个第三色阻块、及位于所述数个第二色阻薄膜上的数个第三色阻薄膜；所述数个相对应的第一、第二、第三色阻薄膜从下至上依次叠加，形成数个复合色阻薄膜，所述数个复合色阻薄膜位于所述数个第一、第二、第三色阻块之间，从而代替黑色矩阵，起到遮挡漏光的作用。还包括:步骤4、在所述数个第一、第二、第三色阻块、及第三色阻薄膜上制作外覆层O所述第一、第二、第三色阻为红、绿、蓝色阻按任意顺序的排列组合。步骤2中，所述第一、第二、第三色阻薄膜的大小和形状完全相同。步骤3中，所述第一、第二、第三色阻块的厚度相同。通过调整所述第一、第二、第三色阻薄膜的厚度来控制所述复合色阻薄膜的光密度值。本专利技术还提供一种彩膜基板结构，包括基板、间隔分布于所述基板上的数个第一、第二、第三色阻块、及设于所述基板上将所述数个第一、第二、第三色阻块间隔开的数个复合色阻薄膜；所述复合色阻薄膜包括叠加设置的第一、第二、第三色阻薄膜。所述第一、第二、第三色阻为红、绿、蓝色阻按任意顺序的排列组合。所述复合色阻薄膜从下至上依次由第一、第二、第三色阻薄膜叠加而成，构成每一复合色阻薄膜的第一、第二、第三色阻薄膜中，有两层色阻薄膜分别与其邻近的第一、第二、或第三色阻块颜色相同。所述第一、第二、第三色阻块呈岛状。本专利技术的有益效果:本专利技术的彩膜基板的制作方法，通过采用三道半色调光罩依次对红、绿、蓝色阻层进行曝光、显影，分别在形成红、绿、蓝色阻块的同时，形成红、绿、蓝色阻薄膜，使红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成复合色阻薄膜，由于光穿过复合色阻薄膜时被完全吸收而呈现黑色，从而代替了黑色矩阵，省去了黑色矩阵制程，并可通过调节红、绿、蓝色阻薄膜的厚度控制所述复合色阻薄膜的厚度的厚度，以调节遮光效果；同时避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象，避免了色差，改善了产品品质，提升了产品良率。本专利技术的彩膜基板结构，采用红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成的复合色阻薄膜代替了黑色矩阵，成本较低，且避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象，无色差。【附图说明】为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的彩膜基板的制作方法的流程图；图2-图3为本专利技术的彩膜基板的制作方法的步骤I的示意图；图4-图5为本专利技术的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图；图6-图7为本专利技术的彩膜基板的制作方法的步骤3的示意图；图8为本专利技术的彩膜基板结构的剖面示意图。【具体实施方式】为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，本专利技术首先提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:步骤1、如图2、图3所示，提供基板1，在所述基板I上沉积第一色阻层。通过第一道半色调(Half-Tone)光罩91对所述第一色阻层进行曝光、显影，在所述基板I上得到数个间隔分布的第一色阻块10、及数个第一色阻薄膜101 ;其中，每两个相邻的第一色阻块10之间间隔分布有三个第一色阻薄膜101，所述三个第一色阻薄膜101中位于两侧的第一色阻薄膜分别与其邻近的第一色阻块10相连接，所述三个第一色阻薄膜101之间形成两个第一间隙102。步骤2、如图4、图5所示，在所述基板I上沉积第二色阻层，所述第二色阻层填充于所述数个第一色阻块10之间的区域，并覆盖所述第一色阻薄膜101。通过第二道半色调光罩92对所述第二色阻层进行曝光、显影，在所述基板I上得到分别位于所述数个第一色阻块10同一侧的第一间隙102处的数个第二色阻块20、及位于所述数个第一色阻薄膜101上的数个第二色阻薄膜201。步骤3、如图6、图7所示，在所述基板I上沉积第三色阻层，所述第三色阻层填充于所述数个第一、第二色阻块10、20之间的区域，并覆盖所述第二色阻薄膜201。通过第三道半色调光罩93对所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供基板(1)，在所述基板(1)上沉积第一色阻层；通过第一道半色调光罩(91)对所述第一色阻层进行曝光、显影，在所述基板(1)上得到数个间隔分布的第一色阻块(10)、及数个第一色阻薄膜(101)；其中，每两个相邻的第一色阻块(10)之间间隔分布有三个第一色阻薄膜(101)，所述三个第一色阻薄膜(101)中位于两侧的第一色阻薄膜(101)分别与其邻近的第一色阻块(10)相连接，所述三个第一色阻薄膜(101)之间形成两个第一间隙(102)；步骤2、在所述基板(1)上沉积第二色阻层，所述第二色阻层填充于所述数个第一色阻块(10)之间的区域，并覆盖所述数个第一色阻薄膜(101)；通过第二道半色调光罩(92)对所述第二色阻层进行曝光、显影，在所述基板(1)上得到分别位于所述数个第一色阻块(10)同一侧的第一间隙(102)处的数个第二色阻块(20)、及位于所述数个第一色阻薄膜(101)上的数个第二色阻薄膜(201)；步骤3、在所述基板(1)上沉积第三色阻层，所述第三色阻层填充于所述数个第一、第二色阻块(10、20)之间的区域，并覆盖所述数个第二色阻薄膜(201)；通过第三道半色调光罩(93)对所述第三色阻层进行曝光、显影，在所述基板(1)上得到分别位于所述数个第二色阻块(20)远离所述第一色阻块(10)一侧的第一间隙(102)处的数个第三色阻块(30)、及位于所述数个第二色阻薄膜(201)上的数个第三色阻薄膜(301)；所述数个相对应的第一、第二、第三色阻薄膜(101、201、301)从下至上依次叠加，形成数个复合色阻薄膜，所述数个复合色阻薄膜位于所述数个第一、第二、第三色阻块(10、20、30)之间，从而代替黑色矩阵，起到遮挡漏光的作用。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙海燕，申智渊，龙冲，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42