本发明专利技术公开了一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。该阻垢剂中包含羟基乙叉二膦酸30-40％、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40％、硼氢化钾10-30％、纯水20-40％。本发明专利技术的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾具有抑制细菌、还原金属氧化物的作用，本发明专利技术将上述三种物质组合在一起，同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，特别适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于环保
，涉及一种污水处理药剂，特别涉及一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。
技术介绍
印染废水污染大，水量大，现已使用反渗透膜处理的越来越多。但大多数反渗透膜阻垢剂主要针对钙镁垢、粘泥等污染，而印染废水是高有机废水，同时由于生产助剂和废水处理添加剂导致大量金属氧化性污染，因此现有常规阻垢剂不能满足印染废水膜处理系统维护的需要。目前还缺乏一种专门针对印染废水膜处理系统，适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好的阻垢剂。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，克服现有技术的不足，提供一种专门针对印染废水膜处理系统，阻垢效果良好的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。本专利技术的目的是通过如下技术方案实现的:一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其中各组分及质量百分含量如下:羟基乙叉二膦酸10-30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40%、硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。进一步的优化方案:上述印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂包括:羟基乙叉二膦酸20 %、十二烷基二甲基苄基氯化铵30 %、硼氢化钾20 %、纯水30 %。上述印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂的制备方法:按上述配比将上述各组分混合均匀即得。本专利技术的有益效果:本专利技术与现有技术相比，具有如下优点:本专利技术的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，应用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。本专利技术的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾(KBH4))具有抑制细菌、还原金属氧化物的作用。本专利技术将羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵、硼氢化钾这三种物质组合在一起，充分发挥他们相互之间的协同配合作用，使其同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，专门针对印染废水中的大量金属氧化性污染和有机污染，特别适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。【具体实施方式】以下结合实施例对本专利技术作进一步的说明。实施例1本专利技术一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，它包括:羟基乙叉二膦酸10%、十二烷基二甲基苄基氯化铵40%、硼氢化钾10%、纯水40%。实施例2本专利技术一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，它包括:羟基乙叉二膦酸20%、十二烷基二甲基苄基氯化铵30%、硼氢化钾20%、纯水30%。实施例3本专利技术一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，它包括:羟基乙叉二膦酸30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20%、硼氢化钾30%、纯水20%。应用效果试验例将本专利技术实施例1-3的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，应用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，进行试验。应用试验结果表明:加一般阻垢剂，反渗透膜的污堵周期为20-30天；加本专利技术的配方的阻垢剂，反渗透膜的污堵周期为30-40天。由此可见，本专利技术的阻垢剂，针对印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。【主权项】1.一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征在于，其中各组分及质量百分含量如下:羟基乙叉二膦酸10-30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40%、硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。2.如权利要求1所述的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征在于，其中各组分及质量百分含量如下:羟基乙叉二膦酸20 %、十二烷基二甲基苄基氯化铵30 %、硼氢化钾20 %、纯水30%。【专利摘要】本专利技术公开了一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。该阻垢剂中包含羟基乙叉二膦酸30-40％、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40％、硼氢化钾10-30％、纯水20-40％。本专利技术的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾具有抑制细菌、还原金属氧化物的作用，本专利技术将上述三种物质组合在一起，同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，特别适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。【IPC分类】C02F1/44, B01D61/02, B01D65/08【公开号】CN104923078【申请号】CN201510316239【专利技术人】夏志先 【申请人】上海丰信环保科技有限公司【公开日】2015年9月23日【申请日】2015年6月10日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征在于，其中各组分及质量百分含量如下：羟基乙叉二膦酸10‑30％、十二烷基二甲基苄基氯化铵20‑40％、硼氢化钾10‑30％、纯水20‑40％。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：夏志先，
申请(专利权)人：上海丰信环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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