磁性靶材装置制造方法及图纸

一种磁性靶材装置，包含一个由非磁性金属制成的背板，及一个由磁性金属制成的溅镀靶。该溅镀靶包括一个设置于该背板的基底面、一个相反于该基底面的轰击面，及至少一个由该轰击面贯通至该基底面的导磁通道，该基底面至该轰击面的直线距离能定义一个靶材厚度，该导磁通道包括一个由该轰击面朝该背板方向延伸的第一导磁段、一个连通该第一导磁段并与该第一导磁段形成一个第一夹角延伸的第二导磁段，及一个连通该第二导磁段并与该第二导磁段形成一个第二夹角地朝该背板延伸的第三导磁段，该第二导磁段具有一个延伸长度，该延伸长度与该靶材厚度的比值不小于0.3且不大于1。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种镀膜工具，特别是涉及一种磁性靶材装置。
技术介绍
目前常见的镀膜制程是在真空腔体中形成电浆，通过磁场引导电浆轰击溅镀靶， 使溅镀靶的材料在待镀物上形成薄膜。在以前，溅镀靶多采用非磁性金属制成，但随着科技 进步，也随之产生磁性金属薄膜的需求，但，若用磁性金属制作的溅镀靶，会干扰磁场导引 电浆，而产生不良影响。 参阅图1，美国公告专利第4412907号公开的一种由磁性金属制成的溅镀靶装置， 包含一个背板11、一个设置于该背板11的溅镀靶12及一个能提供磁场的磁场单元13。 为了能使该磁场单元13的磁场能够传达至该溅镀靶12的表面121，该溅镀靶12 设置有多个导磁通道14,使得磁场能从所述导磁通道14穿过所述溅镀靶12到达表面121， 以导引电浆。每一个导磁通道14具有一个曲折段141，以避免电浆穿过该导磁通道14轰击 该背板11，造成溅镀薄膜的纯度受影响，因此，该曲折段141的长度及该溅镀靶12的厚度比 值就是影响溅镀质量的重要参数。 在该美国专利公开的溅镀靶装置中，该曲折段141长度与该溅镀靶12厚度的比值 实质上只有〇. 25,可以理解的是，比值小表示该曲折段141的长度相对较短，表示虽然磁场 容易传达至表面121但相对的电浆也容易通过该导磁通道14轰击该背板11，因此，0. 25并 非是较佳的比值。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种能有效溅镀磁性金属薄膜且不易混入杂质的磁 性靶材装置。 本技术的磁性靶材装置，包含一个背板及一个溅镀靶。 该背板由非磁性金属制成。 该溅镀靶由磁性金属制成并包括一个设置于该背板的基底面、一个相反于该基底 面的轰击面，及至少一个由该轰击面贯通至该基底面的导磁通道，该基底面至该轰击面的 直线距离能定义一个靶材厚度，该导磁通道包括一个由该轰击面朝该背板方向延伸的第一 导磁段、一个连通该第一导磁段并与该第一导磁段形成一个第一夹角延伸的第二导磁段， 及一个连通该第二导磁段并与该第二导磁段形成一个第二夹角地朝该背板延伸的第三导 磁段，该基底面至该轰击面的直线距离能定义一个靶材厚度，该第二导磁段具有一个延伸 长度，该延伸长度与该靶材厚度的比值不小于0. 3且不大于1，该第一夹角及该第二夹角均 大于0°且小于180°。 本技术的磁性靶材装置，该导磁通道呈环形地将该溅镀靶切割成多个靶区 块。 本技术的磁性靶材装置，该溅镀靶包括多个导磁通道，所述导磁通道分别呈 环形且彼此相间隔地将该溅镀靶切割成多个靶区块，每一个导磁通道围绕至少一个靶区 块。 本技术的磁性靶材装置，每一个导磁通道的该第一导磁段及该第三导磁段分 别垂直于该轰击面及该背板。 本技术的磁性靶材装置，该第一夹角及该第二夹角彼此的角度相等。 本技术的磁性靶材装置，该第一夹角及该第二夹角的角度为90°。 本技术的磁性靶材装置，该第一夹角及该第二夹角的角度大于0°且小于 90。。 本技术的磁性靶材装置，该第一夹角及该第二夹角的角度大于90°且小于 180。。 本技术的有益效果在于：通过调整该延伸长度与该靶材厚度的比值，能够在 派镀时能避免该背板被电衆轰击，而影响镀膜纯度，还能够有效传导磁场以导引电衆轰击 该溅镀靶的轰击面。【附图说明】 本技术的其他的特征及功效，将于参照图式的实施方式中清楚地呈现，其 中： 图1是一个剖视图，说明现有的一种磁性溅镀靶； 图2是一个上视图，说明本技术磁性靶材装置的一个实施例的两个导磁通道 呈环形设置； 图3是一个剖视图，说明该实施例的所述导磁通道的内部形态； 图4是一个图3的局部放大图，说明其中一个导磁通道的第一、第二及第三导磁段 分别形成直角、该第二导磁段的延伸长度，及一个靶材厚度； 图5是一个类似图3的视图，说明本技术磁性靶材装置的一个第二实施例； 图6是一个类似图4的视图，说明该第一、第二及第三导磁段分别形成一个钝角； 图7是一个类似图3的视图，说明本技术磁性靶材装置的一个第二实施例； 图8是一个类似图4的视图，说明该第一、第二及第三导磁段分别形成一个锐角。【具体实施方式】 在本技术被详细描述之前，应当注意在以下的说明内容中，类似的元件是以 相同的编号来表不。 参阅图2、图3与图4,本技术磁性靶材装置的第一实施例包含一个背板2及 一个溅镀靶3。 该背板2是由非磁性金属制成。 该溅镀靶3由磁性金属制成并包括一个设置于该背板2的基底面31、一个相反于 该基底面31的轰击面32,及至少一个由该轰击面32贯通至该基底面31的导磁通道33。 该基底面31至该轰击面32的直线距离能定义一个靶材厚度H。 在本实施例中，该溅镀靶3包括两个呈环形的该导磁通道33,而将该溅镀靶3切割 为三个靶区块34,可以理解的是，该溅镀靶3也能包括三个以上的所述导磁通道33,而将该 溅镀靶3切割为四个以上的所述靶区块34,也能达成相同的目的及功效。 该导磁通道33具有一个由该轰击面32朝该背板2方向延伸的第一导磁段331、一 个连通该第一导磁段331并与该第一导磁段331形成一个第一夹角Θ i延伸的第二导磁段 332,及一个连通该第二导磁段332并与该第二导磁段332形成一个第二夹角Θ 2地朝该背 板2延伸的第三导磁段333。 该第二导磁段332具有一个延伸长度L，该延伸长度L与该靶材厚度H的比值不小 于0.3且不大于1，也就是〇.3^|：^1.0。该第一夹角Q 1及该第二夹角Θ 2均大于〇°且小 于 180°，也就是 0°〈 Q1P2XISOd。 在本实施例中，该第一导磁段331及该第三导磁段333是分别从该轰击面32及该 基底面31垂直延伸，该第一夹角Q 1及该第二夹角Θ 2的角度相等且均为90°，也就是Θ 1 =Θ 2= 90。。 经由以上说明，能将本实施例的优点归纳如下： -、通过所述导磁通道33的设置，能够避免磁场被该溅镀靶3的磁性材质干扰，而 能使得磁场通过所述导磁通道33被导引至该轰击面32,有效引导电浆轰击。 二、通过调整该延伸长度L及该靶材厚度H的比值，较佳地，能使电浆不易流入所 述导磁通道33,以避免电浆轰击该背板2造成镀膜的纯度不均。 参阅图5及图6,本技术磁性靶材装置的一个第二实施例，该第二实施例类似 该第一实施例，其差异之处在于： 该第一夹角Θ i及该第二夹角Θ 2均为一个钝角，也就是说，该第一夹角θ 1及该 第二夹角θ2是大于90°且小于180°，也就是说90°〈Θ Je2XlSOa。 如此，也能达成与该第一实施例相同的目的及功效。 参阅图7及图8,本技术磁性靶材装置的一个第三实施例，该第三实施例类似 该第一实施例，其差异之处在于： 该第一夹角Θ i及该第二夹角Θ 2均为一个锐角，也就是说，该第一夹角θ 1及该 第二夹角Q2是大于〇°且小于90°，也就是说〇°〈Θ 。 综上所述，本技术磁性靶材装置能够有效导引磁场，且能避免电浆轰击靶材 以外的材料，使得溅镀的薄膜材质均匀，所以确实能达成本技术的目的。【主权项】1. 一种磁性靶材装置，包含： 一个背板，由非磁性金属制成； 一个溅镀靶，由磁性金属制成并包括一个设置于该背板的基底面、一个相反于该基底 面的轰击面，及至少一个由该轰本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁性靶材装置，包含：一个背板，由非磁性金属制成；一个溅镀靶，由磁性金属制成并包括一个设置于该背板的基底面、一个相反于该基底面的轰击面，及至少一个由该轰击面贯通至该基底面的导磁通道，该导磁通道具有一个由该轰击面朝该背板方向延伸的第一导磁段、一个连通该第一导磁段并与该第一导磁段形成一个第一夹角延伸的第二导磁段，及一个连通该第二导磁段并与该第二导磁段形成一个第二夹角地朝该背板延伸的第三导磁段；其特征在于：该基底面至该轰击面的直线距离能定义一个靶材厚度，该第二导磁段具有一个延伸长度，该延伸长度与该靶材厚度的比值不小于0.3且不大于1，该第一夹角及该第二夹角均大于0°且小于180°。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：叶崇宇，苏晖家，叶承朋，张倧伟，黄琬瑜，卢木森，黄一原，
申请(专利权)人：凌嘉科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71