本实用新型专利技术提供了一种高精度铜带擦拭装置，其一次对铜带的两个表面进行擦拭，且通过机械化结构进行擦拭，使得擦拭效率高，且擦拭全面覆盖整条铜带，确保擦拭效果，确保后续产品的良品率，降低了制造成本。其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于：所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及铜带制造的
，具体为一种高精度铜带擦拭装置。
技术介绍
铜带在制作成型完成后，需要将铜带表面的污渍、粉肩擦拭干净，才能进行后续产品的制作，现有的铜带擦拭通过人工分别对铜带的双面进行擦拭，其擦拭效率低，且人工擦拭，易发生擦拭不到位的情况，影响后续产品的制作，易产生不良品，使得制造成本高。
技术实现思路
针对上述问题，本技术提供了一种高精度铜带擦拭装置，其一次对铜带的两个表面进行擦拭，且通过机械化结构进行擦拭，使得擦拭效率高，且擦拭全面覆盖整条铜带，确保擦拭效果，确保后续产品的良品率，降低了制造成本。一种高精度铜带擦拭装置，其技术方案是这样的:其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于:所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱，所述导柱的上端紧固连接所述上盖，所述导柱分别贯穿对应位置的上压块后支承于对应位置的所述下压块的上端面，待擦拭铜带的下表面支承于所述下压块所对应的擦拭布结构的上表面。其进一步特征在于:所述下压块对应于所述导柱的支承位置设置有定位凹槽，所述导柱的下端对应定位于所述定位凹槽；所述底座、上盖的四角之间分别设置有等高柱，确保底座和上盖处于平行布置状??τ O采用上述技术方案后，在使用时先通过气缸将上压块提起，然后将高精度铜带穿过，最后再通过气缸将上压块压下，通过上压块、下压块上的擦拭布结构将高精度铜带夹在中间；随着铜带的运动将铜带上的污渍、粉肩擦拭干净；通过底座下方的四个调整螺丝可微调下压块的水平位置，从而可使擦拭布与铜带贴合的更好以提高该装置擦拭的效率，其一次对铜带的两个表面进行擦拭，且通过机械化结构进行擦拭，使得擦拭效率高，且擦拭全面覆盖整条铜带，确保擦拭效果，确保后续产品的良品率，降低了制造成本。【附图说明】图1为本技术的主视图示意图；图2为本技术的立体图结构示意图；图中序号所对应的名称如下:底座1、上盖2、上压块3、下压块4、擦拭布结构5、气缸6、活塞杆7、调整螺丝8、导柱9、待擦拭铜带10、等高柱11。【具体实施方式】一种高精度铜带擦拭装置，见图1、图2:其包括底座1、上盖2，底座I和上盖2之间紧固连接形成空间位置，底座I和上盖2之间所形成的空间位置内布置有上压块3、下压块4，上压块3位于下压块4的正上方位置，上压块3、下压块4的中间段设置有擦拭布结构5，上盖2上固装有气缸6，气缸6的活塞杆7贯穿上盖2后紧固连接上压块3，调整螺丝8自下而上贯穿底座I后分别紧固连接下压块4的底端面的四角位置，通过底座下方的四个调整螺丝8可微调下压块4的水平位置，从而可使擦拭布结构5与待擦拭铜带10贴合的更好以提高该装置擦拭的效率；上盖2的两侧自上而下布置有导柱9，导柱9的上端紧固连接上盖2，两侧的导柱9分别贯穿对应位置的上压块3后支承于对应位置的下压块4的上端面，待擦拭铜带10的下表面支承于下压块4所对应的擦拭布结构5的上表面。下压块4对应于导柱9的支承位置设置有定位凹槽，导柱9的下端对应定位于定位凹槽，确保整个装置的定位快速准确；底座1、上盖2的四角之间分别设置有等高柱11，确保底座I和上盖2处于平行布置状态，使得擦拭效果更好。以上对本技术的具体实施例进行了详细说明，但内容仅为本技术创造的较佳实施例，不能被认为用于限定本技术创造的实施范围。凡依本技术创造申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本专利涵盖范围之内。【主权项】1.一种高精度铜带擦拭装置，其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于:所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱，所述导柱的上端紧固连接所述上盖，所述导柱分别贯穿对应位置的上压块后支承于对应位置的所述下压块的上端面，待擦拭铜带的下表面支承于所述下压块所对应的擦拭布结构的上表面。2.如权利要求1所述的一种高精度铜带擦拭装置，其特征在于:所述下压块对应于所述导柱的支承位置设置有定位凹槽，所述导柱的下端对应定位于所述定位凹槽。3.如权利要求1或2所述的一种高精度铜带擦拭装置，其特征在于:所述底座、上盖的四角之间分别设置有等高柱。【专利摘要】本技术提供了一种高精度铜带擦拭装置，其一次对铜带的两个表面进行擦拭，且通过机械化结构进行擦拭，使得擦拭效率高，且擦拭全面覆盖整条铜带，确保擦拭效果，确保后续产品的良品率，降低了制造成本。其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于：所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱。【IPC分类】B08B1/02【公开号】CN204638604【申请号】CN201520307655【专利技术人】陈航 【申请人】顺德工业(江苏)有限公司【公开日】2015年9月16日【申请日】2015年5月13日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高精度铜带擦拭装置，其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于：所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱，所述导柱的上端紧固连接所述上盖，所述导柱分别贯穿对应位置的上压块后支承于对应位置的所述下压块的上端面，待擦拭铜带的下表面支承于所述下压块所对应的擦拭布结构的上表面。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈航，
申请(专利权)人：顺德工业江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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