清洁电子元件的清洁设备及工艺制造技术

一种用于清洁电子元件（例如照相机模块或者电子基板）的清洁设备。该清洁设备具有多个处理区，和一个或多个传送装置，该传送装置用于将电子元件相继的传送到每一个处理区，使得所述电子元件顺序在串连的处理区进行处理。在一个方面，在一个处理区中，在大气压力下，对所述电子元件采用等离子处理。另一方面，还包括多个分离控制的传送装置，其中，该电子元件在每一个处理区经过各自的处理时间进行处理，其中至少一个处理时间不同于其他的处理时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于清洁电子元件的清洁设备和清洁工艺，该电子元件例如，照相机模块和电子基板。
技术介绍
现有的清洁工艺通常利用多个处理不同步骤的清洁站。这些现有清洁工艺的一个问题是需要由工人用手将待清洁的电子元件从一个清洁站传递到下一个清洁站。因此，这些现有清洁工艺效率低下，降低吞吐量和产量。另一个问题是电子元件在清洁站之间的人手操作进一步弄脏电子元件，使电子元件具有污垢，灰尘和其他污染物。本专利技术的目的是克服或改善现有技术中的至少一个缺点，或提供一种有用的替代方案。
技术实现思路
本专利技术的各个方面和各种特征在所附的权利要求书中限定。可以理解的是，本专利技术的各种特征可以不同的组合出现在各种实施例中。在整个说明书中，包括权利要求书中，除非明确地陈述或上下文清楚地要求，词语“包括”，“包含”和其他类似应解释为包含的意义，即，“包括，但不限于”，而不是排他或者穷尽的意义。【附图说明】根据本专利技术的最佳模式的优选的实施例将通过举例的方式，同时参考附图进行描述，其中:图1是本专利技术一实施例的清洁设备的示意性平面图；图2是本专利技术一实施例的清洁设备的示意性侧视图；图3是本专利技术另一实施例的清洁设备的示意性侧视图；图4是本专利技术另一实施例的清洁设备的示意性侧视图；图5是本专利技术又一实施例的清洁设备的示意性平面图；图6是本专利技术再一实施例提供的清洁设备的示意性平面图。【具体实施方式】参照附图，提供了用于清洁电子元件2的清洁设备I。该清洁设备包括多个处理区3，以及一个或多个用于将电子元件2相继传送到每个处理区3的传送装置4，使得所述电子元件顺序在在串连的各个处理区进行处理。该电子元件2可以是电子基板，陶瓷基板，照相机模块，用于OLED和LED的显示面板的元件。该电子元件2也可以是多个电子元件。例如，如在附图中所描述的，这可以是以运料盒5的形式容纳一排列的电子基板6或者一排列的照相机模块。应理解的是，本文描述的装置和工艺除了电子元件以外，还可清洁其它合适的零部件。根据本专利技术的一个方面，在一个处理区7中，在大气压力下施加等离子到电子元件2，这个处理区称为等离子区。另一个处理区是吹风区8，该吹风区8通过向电子元件吹送气体以除去电子元件上的污染物。该气体可以是空气，氮气(N2)，或其他合适的气体。还另一个处理区是真空区9，在该真空区9中对电子元件采用真空处理以去除电子元件上的污染物。该真空区在等离子区之前，而送风区在该真空区之前。即，该电子元件2首先传送到送风区，然后送到真空区，再送到等离子区。在一个实施方式中，在等离子区7中，还施加去离子水(DIW)到该电子元件上。等离子区7在大气压力下施加等离子而不是在真空压力下，这是本专利技术之前已有的。这种方式具有的重要优势，这样等离子区不需要如过去般为独立的装置，以提供真空环境。该独立的真空装置通常需要密封。这使清洁过程变得复杂，因为在被清洁的电子元件2可以放置到该独立的真空装置以施加等离子之前，独立的真空装置内的压力需要恢复为大气压力。而电子元件2被放到该独立的真空装置中，则需要将压力降低至真空压力才施加等离子。然后，再将该独立的真空装置恢复到大气压力，方可将电子元件2移走。在其它的实施例中，上述过程或其它过程的组合可以合并在同一区域中。例如，吹送气体到电子元件上和对电子元件采用真空处理可以合并在同一处理区中使用。同样，在上述一个区中描述的过程可以被拆分到几个单独的处理区中。例如，去离子水的应用可以在与等离子区分开的处理区中。在其它实施例中，上述的一个或多个过程或区域可以省略。在又一些其它实施例中，也可以加入其它合适的步骤在单独的处理区或者跟一处理区的过程组合。该处理区3可以被整合为一单一机器。这包括由对应于该处理区3的单独模块站组成的单一机器，它们结合在一起形成该单一机器。这还包括具有分别执行对应于处理区3的工序的多个部分的单一机器。该处理区3和一个或者多个传送装置4也可以整合成为单一机器。相同地，这包括由对应于该处理区3的单独模块站组和一个或者多个传送装置4组成的单一机器，它们结合在一起形成该单一机器；以及具有分别执行对应于处理区3的工序的多个部分和一个或多个以传送装置4的形式存在的部分的单一机器。该处理区3和一个或者多个传送装置4可以封装到一个受控制的清洁环境中，例如洁净室。由于该等离子区7是处于大气压力下，所以不需要独立的真空封装，因此不需要处理工人进入到该受控制的清洁环境。本专利技术另一个方面，还提供一种用于清洁电子元件的清洁工艺。该清洁工艺实施例可以通过前面的描述理解。例如，在一个实施例中，该清洁工艺包括:将电子元件2顺序传送到多个处理区3，以使电子元件在串连的处理区按次序进行处理；在每个串连的处理区3按次序为电子元件2进行工序。该清洁工艺还包括在一个处理区7中，在大气压力下为电子元件2加上等离子。在另一个实施例中，该清洁工艺包括在一个处理区9中对电子元件2进行真空处理，然后再在一个处理区7中在大气压力下为电子元件施加等离子，并且于所述的一个处理区中对电子元件2采用进行真空处理之前，在一个处理区8中吹送气体到电子元件上。该清洁方法的进一步的特征和其他实施例可以从前面的描述理解。清洁设备I的不同实施例可以具有一个或多个传送装置4。在具有多个传送装置的实施例中，每一个传送装置4可以独立操控。这是本专利技术另一方面的具体特征。特别是，根据本专利技术的另一个方面，并参考附图，提供了用于清洁电子元件2的清洁设备I。该清洁设备包括多个处理区3。电子元件2在每一个处理区3经过各自的处理时间处理，其中至少一个处理时间不同于其他的处理时间。该清洁设备I还具有多个用于依次将电子元件2传送到每一个处理区3的独立操控的传送装置4，以使电子元件顺序通过各个处理区进行处理。该清洁设备I包括一个或多个缓冲区10。在电子元件2离开一个处理区3后，经由一个或多个独立操控的传送装置4送到一个缓冲区10，以等待至下一个处理区3准备好接收该电当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洁电子元件的清洁设备，所述清洁设备包括：多个处理区；和一个或多个传送装置，所述传送装置用于将电子元件相继的传送到每一个处理区，使得所述电子元件顺序通过串连的处理区进行处理；其中，在一个处理区中，在大气压力下，施加等离子到电子元件上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朴健禹，
申请(专利权)人：东莞高伟光学电子有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44