气相沉积设备制造技术

本发明专利技术涉及显示器制备技术领域，公开了一种气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少了背板上阴影效应的现象的发生。气相沉积设备，包括：真空腔室，位于真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑背板的基座，金属掩膜上设有抗等离子体涂布层，还包括：位于基座两个相对侧的夹持机构，每个夹持机构用于夹持金属掩膜的一端以将金属掩膜拉开，且用于夹持同一金属掩膜的两个夹持机构之间的距离可调；对位系统，用于控制每个夹持机构以设定拉力拉开金属掩膜，还用于分别控制每个夹持机构移动以将金属掩膜贴合在背板的设定位置上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示器制备
，特别涉及一种气相沉积设备。
技术介绍
现有的气相沉积设备因需要避免在背板涂胶区发生成膜现象，需配合使用金属掩膜遮罩在背板与等离子体产生源之间，主要方法为将金属掩膜焊接在不锈钢框架上，再放置到气相沉积设备内使用，但使用铁镍合金的金属掩膜会与真空腔室内的氟离子反应，因此会影响到金属掩膜的使用寿命，现有的做法为将金属掩膜焊接在不锈钢框架上后，一起镀上一层抗等离子体的图布层，再放置到气相沉积设备内使用，但不锈钢框架容易产生形变，容易在背板上产生阴影效应，且不同尺寸的金属掩膜需要配合使用不同尺寸的金属框架，增加了气相沉积设备使用的繁琐性。
技术实现思路
本专利技术提供了一种气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少背板上阴影效应的现象的发生。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案:本专利技术提供了一种气相沉积设备，包括:真空腔室，位于所述真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑所述背板的基座，所述金属掩膜上设有抗等离子体涂布层，还包括:位于所述基座两个相对侧的夹持机构，每个夹持机构用于夹持所述金属掩膜的一端以将所述金属掩膜拉开，且用于夹持同一金属掩膜的两个夹持机构之间的距离可调；对位系统，用于控制每个夹持机构以设定拉力拉开所述金属掩膜，还用于分别控制每个夹持机构移动以将所述金属掩膜贴合在所述背板的设定位置上。本专利技术提供的气相沉积设备，通过设置夹持机构和对位系统，可以省去现有技术中的不锈钢框架，节省不锈钢框架的生产成本以及运输成本，同时可以避免因不锈钢框架变形造成背板上形成阴影的现象的发生；本专利技术提供的气相沉积设备通过夹持机构便可实现将金属掩膜拉开，且将两个夹持机构之间的距离设置为可调的，可以使得夹持机构能够夹持不同尺寸的金属掩膜，进而可以使得气相沉积设备可以对不同尺寸的背板进行金属掩膜的贴附。所以，本专利技术提供的气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少了背板上阴影效应的现象的发生。在一些可选的实施方式中，所述对位系统包括:采集装置，用于采集所述背板上的第一对位标识图像信息和所述金属掩膜上的第二对位标识图像信息；与每个夹持机构一一对应的搬送装置，所述搬送装置用于带动与其对应的夹持机构沿第一设定方向、第二设定方向以及第三设定方向移动，其中所述第一设定方向和第二设定方向与水平面平行，且第一设定方向和第二设定方向垂直，所述第三设定方向与水平面垂直；与所述采集装置和每个搬送装置信号连接的控制装置，所述控制装置根据接收到的第一对位标识图像信息和第二对位标识图像信息、以及所述设定拉力分别控制每个搬送装置工作。搬送装置可以在三个方向上移动金属掩膜，使得金属掩膜与背板较好的定位，另外以设定的拉力控制夹持机构，可以避免金属掩膜被扯断损坏的现象的发生。在一些可选的实施方式中，所述搬送装置包括:底座；传动杆，所述传动杆的一端与所述底座固定连接，所述传动杆的另一端与一夹持机构固定连接；安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第一设定方向移动的第一运动机构；安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第二设定方向移动的第二运动机构；安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第三设定方向移动的第三运动机构。在一些可选的实施方式中，所述夹持机构包括:平行设置的第一夹板和第二夹板，所述第一夹板与所述传动杆的另一端固定连接，所述第一夹板和所述第二夹板之间通过卡口和卡扣连接。便于夹持金属掩膜。在一些可选的实施方式中，所述金属掩膜上设有与所述卡扣配合的通孔。便于定位金属掩膜在夹持机构内的位置。在一些可选的实施方式中，所述搬送装置还包括:与所述控制装置信号连接的压力传感器，用于检测所述传动杆所受的压力信息，所述控制装置根据所述压力信息控制所述底座在第三设定方向上的移动量。搬送装置沿第三设定方向将金属掩膜压合至接触背板，压力传感器根据检测的压力信息，可以调节金属掩膜沿第三方向的移动量，使得金属掩膜均匀的与背板接触，避免金属掩膜一侧接触到背板，另一侧没有接触到背板的现象的发生。在一些可选的实施方式中，所述底座、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构位于所述真空腔室外，所述传动杆的一端伸入所述真空腔室，所述传动杆的另一端位于所述真空腔室外、且通过波纹管与所述真空腔室的外壁密封连接。这样的设计，可以是使得底座、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构不占用真空腔室的内部空间，同时又可以实现带动夹持机构移动的目的，另外通过波纹管达到使真空腔室处于密封的状态。在一些可选的实施方式中，所述第一运动机构为第一伸缩缸，所述第一伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第一伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第一设定方向平行;和/或;所述第二运动机构为第二伸缩缸，所述第二伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第二伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第二设定方向平行；和/或；所述第三运动机构为第三伸缩缸，所述第三伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第三伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第三设定方向平行。在一些可选的实施方式中，所述第一运动机构包括:与所述底座传动连接的第一螺纹丝杠，所述第一螺纹丝杠的轴线与所述第一设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第一螺纹丝杠的一端传动连接的第一驱动电机；和/或，所述第二运动机构包括:与所述底座传动连接的第二螺纹丝杠，所述第二螺纹丝杠的轴线与所述第二设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第二螺纹丝杠的一端传动连接的第二驱动电机；和/或，所述第三运动机构包括:与所述底座传动连接的第三螺纹丝杠，所述第三螺纹丝杠的轴线与所述第三设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第三螺纹丝杠的一端传动连接的第三驱动电机。在一些可选的实施方式中，所述采集装置为电荷耦合元件镜头。【附图说明】图1为本专利技术实施例提供的第一种气相沉积设备的部分结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的第二种气相沉积设备的部分结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的第三种气相沉积设备的部分结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的第四种气相沉积设备的部分结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的气相沉积设备中的搬送装置的部分结构示意图；图6为金属掩模板未均匀接触到背板上的示意图。附图标记:1-真空腔室2-背板3-金属掩膜4-基座5-夹持机构51-第一夹板52-第二夹板53-卡扣6-对位系统61-采集装置62-搬送装置621-底座622-传动杆623-第一运动机构624-第二运动机构625-第三运动机构626-压力传感器63-控制装置7-波纹管【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术专利保护的范围。如图1所示，图1为本专利技术实施例提供的第一种气相沉积设备的部分结构示意图；本专利技术提供的气相沉积设备，包括:真空腔室1，位于真空腔室I内的背板2、位于背板2上方的金属掩膜3以及用于支撑背板2的基座4，金属掩膜3上设有抗等离子体涂布层，还包括:位于基座4两个相对侧的夹持机构5，每个夹持机构5用于夹持金属掩膜3的一端以将金属掩膜3拉开，且用于夹持同一金属掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气相沉积设备，包括：真空腔室，位于所述真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑所述背板的基座，所述金属掩膜上设有抗等离子体涂布层，其特征在于，还包括：位于所述基座两个相对侧的夹持机构，每个夹持机构用于夹持所述金属掩膜的一端以将所述金属掩膜拉开，且用于夹持同一金属掩膜的两个夹持机构之间的距离可调；对位系统，用于控制每个夹持机构以设定拉力拉开所述金属掩膜，还用于分别控制每个夹持机构移动以将所述金属掩膜贴合在所述背板的设定位置上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏志玮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11