一种激光直写机特殊样品套刻的样品台制造技术

本发明专利技术公开了一种激光直写机特殊样品套刻的样品台，包括样品台主体，在所述样品台主体上设置若干个小孔，所述小孔分布在激光直写平台的真空吸附孔所吸附的范围内，所述样品台主体边缘设置定位线。本发明专利技术中（一）玻璃片子有一定的厚度，用于抬高样品的总高度，从而防止薄片曝光时镜头撞倒定位钉；（二）玻璃片上镂空的小孔，用于紧固样品台上较薄或较小的样品，防止曝光时样品滑动；（三）定位线可以精准的定位样品，从而实现每次放样角度差别在仪器允许的范围之内了，轻松便捷准确地放置样品，无须多次放样，从而大大提高了曝光套刻精度和效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术专利属于电子设备
，具体地说，涉及一种激光直写机特殊样品套刻的样品台。
技术介绍
随着集成电路行业的飞速发展，元器件的微型化已经非常普遍。那么激光直写机就是一种专门用于制作微米量级图形的机子，在业内也常称为曝光机。它可以曝出各种各样的微图形。在实际的器件制备过程中常常会用到多层曝光。而多层曝光对仪器的操作要求是非常高的，每次放片的位置角度相差不能大于5mrad，否则多层曝光的图形就无法完全对准，所以多层曝光时必须要用到定位钉，以保证多次放片的位置差别在允许的范围内，这样才能完美地实现样品图形的套刻。然而激光直写机的平台参数是固定的，只能对直径大于40mm的样品进行操作。另外套刻时由于要用到定位钉，定位钉有一定的高度，一般在500_左右，所以要进行套刻的样品厚度一般要求在100mm左右，才能保证操作过程中不会损坏仪器。实际的科研工作中由于受镀膜仪载样台的限制，一般衬底的尺寸都在20mnT 20mm左右，且做磁性材料研宄和器件制备也常要用到硅片，硅片厚度一般在250mm -500mm这样一个厚度范围，那么像这类科研中常要用到的较小片子和较薄片子，激光直写机就无法很好的加工制备。对于薄片来说，如果要想套刻，只能是把样品放上，用定位钉定好位置，然后再把定位钉取下来，接着进行下面的曝光程序，但是取定位钉的时候很容易使样品发生轻微移动，这样样品位置就会发生变化，造成两次放样角度差别太大，从而无法进行套刻；或者单纯的靠肉眼来辨别每次放样的位置；如果角度偏差大于5mrad，此时往往需要把激光直写平台退出来，重新放置样品。有时为了套刻一个图形，甚至需要放十几次样品，才能使再次放样与第一次放样的角度差在仪器允许的范围之内，之后才能完成一次完美的套刻，否则无法使需要套刻的图形套刻在一起。这两种方式显然都是非常行不通的。对于较小片子来说，激光直写平台更是无法操作了，由于真空吸附台上小孔成圆形分布，圆的最小尺寸直径为40mm，所以能吸附的最小样品直径必须大于40mm，从而导致小于这个尺寸的样品都无法被吸附，实验中常用的方法是将小片子用胶粘到大片子上进行操作。这就意味着样品肯定会粘的不是特别平整，从而引起涂胶不均匀，或曝光时聚焦状态不一样，从而影响最终的实验结果。可见激光直写对较小片子进行单次曝光都非常困难，更何谈套刻。以上所述的这类问题目前尚没有好的解决方案，也没有类似的装置。
技术实现思路
本专利技术提供了一种操作方便，精度高，效率高的激光直写机特殊样品套刻的样品台O本专利技术的目的通过以下技术方案来实现:一种激光直写机特殊样品套刻的样品台，包括样品台主体，在所述样品台主体上设置若干个小孔，所述小孔分布在激光直写平台的真空吸附孔所吸附的范围内，所述样品台主体边缘设置定位线。优选地，所述样品台主体背面设有导通环，所述小孔与所述导通环相通。优选地，所述小孔通过导通通道与所述导通环连通。本专利技术的有益的效果是:(一)玻璃片子有一定的厚度，用于抬高样品的总高度，从而防止薄片曝光时镜头撞倒定位钉；(二)玻璃片上镂空的小孔，用于紧固样品台上较薄或较小的样品，防止曝光时样品滑动；(三)定位线可以精准的定位样品，从而实现每次放样角度差别在仪器允许的范围之内了，轻松便捷准确地放置样品，无须多次放样，从而大大提高了曝光套刻精度和效率。【附图说明】图1是本专利技术激光直写机特殊样品套刻的样品台一种实施例的结构示意图； 图2为图1的俯视图； 图3为本专利技术激光直写机特殊样品套刻的样品台另一种实施例的结构示意图； 图4为图3的俯视图； 图中样品台主体，2小孔，3导通环，4定位钉，5定位线，6导通通道，7示例样品。具体实施方法 结合附图和实施例对本专利技术做进一步的说明。一种激光直写机特殊样品套刻的样品台，包括样品台主体，在所述样品台主体上设置若干个小孔，所述小孔分布在激光直写平台的真空吸附孔所吸附的范围内，所述样品台主体边缘设置定位线。进一步地，所述样品台主体背面设有导通环，所述小孔与所述导通环相通。进一步地，所述小孔通过导通通道与所述导通环连通。实施例1，如图1、2所示，本实施例是对于较大且较薄的片子而言，所述样品台主体I，是一个方形的玻璃片子，其尺寸为70mnT70mm，厚度为1mm，用以抬高样品，防止薄片曝光时镜头撞到定位钉4。在所述方形的玻璃片子中间位置设置有一个小孔2，该小孔2与激光直写平台的真空吸附孔是对应的，该孔的孔径1_，孔深1_，以中间的小孔2为圆心半径为20mm的圆圈上的小孔2是与样品台主体I背面的导通环3是相通的，导通环内半径为19_，外半径为22_，深度为0.4_，导通环3可以把激光直写大平台上的真空吸附孔完全覆盖，将样品放置到样品台上时，就可以达到紧固样品的作用；样品台主体I边缘设置定位线5，用以定位样品，将样品放置到样品台上，并将样品的一端对准定位线5，然后再将整个样品台对准定位钉4，这样就可以开始曝光了，如需多次曝光，只需将样品再对准定位线5，整个样品台对准定位钉4，就可以很容易地满足两次放样角度差不大于5mrad，满足套刻要求。实施例2，如图3、4所示，本实施例是针对较小片子而言的，样品台主体1，是一个方形的玻璃片子，其尺寸为50mnT 50mm，厚度为1mm，样品台主体I背面的导通环3，环内半径为19_，外半径为22_，深度为0.4_，此设计是为了把激光直写大平台上的真空吸附孔完全覆盖，并且起到密闭气体的作用，样品台背面的导通通道6，其尺寸为ImnT 20mm，深度为0.4mm,在所述方形的玻璃片子中间位置设置有一个小孔2，该小孔2与激光直写平台的真空吸附孔是对应的，该孔的孔径1mm，孔深1mm，以中间孔为圆心半径为1mm圆圈上的孔是通过导通通道6与导通环3连接起来的，这样真空吸附孔就能与激光直写平台的真空吸附孔连接起来，这样将样品放置到样品台上，且将样品台上的真空吸附孔完全覆盖，就可以达到紧固样品的作用，将示例样品7的右端对准定位线5，然后再将整个样品台对准定位钉4即可。这样就可以开始激光直写仪的曝光过程了，如需多次曝光，只需将样品再对准定位线5，整个样品台对准定位钉4，即可轻而易举地满足两次放样角度差不大于5mrad，即满足了套刻要求。以上两个实施例中样品台的设计，只是针对DWL66FS这个型号激光直写仪设计的，样品台上导通环的尺寸以及真空吸附孔的分布尺寸可根据不同型号的仪器设备和实验需求而做相应的修改，定位线的疏密程度也可根据实际需要做调整。本专利技术样品台的使用方法非常简单，只要将样品放置到样品台上，并将样品的右侧对准定位线，然后再将样品台的右侧对准定位钉即可，本专利技术中将薄片放置到样品台上，从而增加了样品相对于激光直写平台的高度，从而防止曝光过程中镜头被撞坏；同时还解决了小片光刻及套刻的难题，由于本样品台的巧妙设计，从而使得直径小于40mm且大于20mm的片子可以被紧固地吸附到激光直写平台上，无需再将小片子用胶粘到大片子上，进而可以实现单次曝光及套刻。本专利技术中引入了定位线，从而实现精准地放样，保证多次放样的角度差在仪器允许的范围内。从而避免了放十几次样品才能完成一次套刻的难题。通过以上专利技术装置，可以对特殊样品，较薄或较小片子轻而易举地进行套刻工艺，从而解决了目前特殊样品套刻的一大难题。在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光直写机特殊样品套刻的样品台，其特征在于，包括样品台主体，在所述样品台主体上设置若干个小孔，所述小孔分布在激光直写平台的真空吸附孔所吸附的范围内，所述样品台主体边缘设置定位线。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李喜玲，郭党委，唐丽云，周保范，
申请(专利权)人：兰州大学，
类型：发明
国别省市：甘肃;62