一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机制造方法及图纸

技术编号:12019038 阅读:73 留言:0更新日期:2015-09-09 16:03
本发明专利技术公开了一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,包含通过泵送管道依次连接的工艺室、隔离阀、自动压力控制器及干泵;自动压力控制器与干泵之间设置数字压力检测器;数字压力检测器设置在泵送管道的外侧;数字压力检测器用于检测泵送管道压力改变。泵送管道外侧均布多个O型圈。本发明专利技术能够监控泵送管道的压力改变,实时消除泵送管道前级APC组件和隔离阀的故障,防止泵送管道泄露。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域,具体涉及一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机
技术介绍
现有技术中的化学干法蚀刻机,工艺室泵送管道外侧没有设置监测检测压力改变的装置。如果工具接到“排气无法在设定的时间内完成”的警报,这意味着工艺室无法将气体排到基准压力(低于7.5毫托)外。造成这种情况的原因如下: 1、干泵效率衰减; 2、泵送管道O型圈损坏; 3、APC组件故障; 4、隔离阀故障等。由于不知道泵送管道的压力,我们可能浪费大量的时间来逐一排查可能造成故障的原因。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,能够监控泵送管道的压力改变,实时消除泵送管道前级APC组件和隔离阀的故障,防止泵送管道泄露。为了达到上述目的,本专利技术通过以下技术方案实现:一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,其特点是,包含:通过泵送管道依次连接的工艺室、隔离阀、自动压力控制器及干泵; 上述的自动压力控制器与干泵之间设置数字压力检测器; 上述的数字压力检测器设置在泵送管道的外侧; 上述的数字压力检测器用于检测泵送管道压力改变。上述的泵送管道外侧均布多个O型圈。本专利技术与现有技术相比具有以下优点:由于设有数字压力检测器,能够监控泵送管道的压力改变,实时消除泵送管道前级APC组件和隔离阀的故障,检测O型圈是否破坏。【附图说明】图1为本专利技术一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机整体结构示意图。【具体实施方式】以下结合附图,通过详细说明一个较佳的具体实施例,对本专利技术做进一步阐述。如图1所示,一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,包含通过泵送管道3依次连接的工艺室1、隔离阀4、自动压力控制器5及干泵2 ;自动压力控制器5与干泵2之间设置市售的数字压力检测器6 ;数字压力检测器6设置在泵送管道3的外侧;数字压力检测器6用于检测泵送管道3压力改变。泵送管道3外侧均布多个O型圈31。具体应用:当工艺室遇到“排气无法在设定的时间内完成”时,我们可以堵住自动压力控制器5与泵送管道3之间的端口,通过数字压力检测器6监控泵送管道3的眼里改变,从而确定泵送管道3的O型圈31是否被破坏。尽管本专利技术的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍,但应当认识到上述的描述不应被认为是对本专利技术的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后,对于本专利技术的多种修改和替代都将是显而易见的。因此,本专利技术的保护范围应由所附的权利要求来限定。【主权项】1.一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,其特征在于,包含:通过泵送管道(3)依次连接的工艺室(I)、隔离阀(4)、自动压力控制器(5)及干泵(2); 所述的自动压力控制器(5)与干泵(2)之间设置数字压力检测器(6); 所述的数字压力检测器(6)设置在泵送管道(3)的外侧; 所述的数字压力检测器(6)用于检测泵送管道(3)压力改变。2.如权利要求1所述的化学干法蚀刻机,其特征在于,所述的泵送管道(3)外侧均布多个O型圈(31)。【专利摘要】本专利技术公开了一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,包含通过泵送管道依次连接的工艺室、隔离阀、自动压力控制器及干泵;自动压力控制器与干泵之间设置数字压力检测器;数字压力检测器设置在泵送管道的外侧;数字压力检测器用于检测泵送管道压力改变。泵送管道外侧均布多个O型圈。本专利技术能够监控泵送管道的压力改变,实时消除泵送管道前级APC组件和隔离阀的故障,防止泵送管道泄露。【IPC分类】H01L21/66, H01L21/306【公开号】CN104900508【申请号】CN201410075877【专利技术人】张程, 王旭东 【申请人】上海华虹宏力半导体制造有限公司【公开日】2015年9月9日【申请日】2014年3月4日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设有泵送管道压力监控装置的化学干法蚀刻机,其特征在于,包含:通过泵送管道(3)依次连接的工艺室(1)、隔离阀(4)、自动压力控制器(5)及干泵(2);所述的自动压力控制器(5)与干泵(2)之间设置数字压力检测器(6);所述的数字压力检测器(6)设置在泵送管道(3)的外侧;所述的数字压力检测器(6)用于检测泵送管道(3)压力改变。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张程王旭东
申请(专利权)人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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