超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物制造技术

技术编号:12015594 阅读:140 留言:0更新日期:2015-09-06 02:12
一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,由以下重量份数的组分构成:二硼化钛55-65份、石墨烯8-12份、电气石粉8-12份、纳米碳化硅4-6份、碳酸银1.5-3份、氮化硼10-20份。本发明专利技术组分简单,成本也较低,对传统的单组分或双组分蒸发舟进行了较大的调整,具有较好蒸发效率,可以有效改善铝的融化和蒸发速度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电容器
,具体涉及一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物
技术介绍
将高纯度铝在高真空状态下熔化、蒸发、沉淀到基膜上,在基膜表面形成一层极薄的金属层后的塑料薄膜就是金属化铝膜。金属化薄膜上的金属层在单位正方形面积的电阻值称为方块电阻,用Ω/□表示,因为金属化膜上金属化层的厚度很小极难测量,通常用方块电阻来表示金属镀层的厚度。所述金属化铝膜的金属层为金属铝附着在有基膜上形成,为了获得超低方阻金属化有机膜,需要改善铝的融化和蒸发速度,提高沉淀到基膜上的铝量,以及及时散发大幅度增加的热量,因此金属化铝膜层采用真空蒸镀制成。现有技术中蒸发舟基本上都是采用单一蒸发组分,使用效果并不佳。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种蒸发性能好,成本低的超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物。本专利技术所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,由以下重量份数的组分构成:二硼化钛55-65份、石墨烯8-12份、电气石粉8-12份、纳米碳化硅4-6份、碳酸银1.5-3份、氮化硼10-20份。上述各组分的较佳重量份数为:二硼化钛60份、石墨烯10份、电气石粉10份、纳米碳化硅5份、碳酸银2份、氮化硼15份。一般金属化铝膜的金属层是金属铝附着在有基膜上形成,为了获得超低方阻金属化有机膜,需要改善铝的融化和蒸发速度,提高沉淀到基膜上的铝量,以及及时散发大幅度增加的热量,因此金属化铝膜层采用真空蒸镀制成。真空蒸镀的条件为,真空镀膜机的蒸镀速度为1~3米/秒,镀膜机冷却主鼓的温度为-20~-30℃,使用比现有的氮化硼蒸发舟性能更好的蒸发舟,二硼化钛、氮化硼、石墨烯、电气石粉等多组分蒸发舟,可以有效改善铝的融化和蒸发速度,其蒸发率可以从5克/分钟以下提高到12克/分钟;可以提高同时间内铝在基膜上的沉淀量,降低膜的蒸镀速度,即膜卷的转动线速度,普通方阻金属化铝膜的蒸镀速度为7米/秒,应降低到2米/秒左右。更多的铝沉淀在基膜,也带来更多的热量,如果散热不好,会烫伤有机基膜,影响金属化铝膜的性能,需要将镀膜机主鼓的冷却温度从通常的-5℃降低到-25℃附近。本专利技术的有益效果是:本专利技术组分简单,成本也较低,对传统的单组分或双组分蒸发舟进行了较大的调整,具有较好蒸发效率,可以有效改善铝的融化和蒸发速度。具体实施方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本专利技术。一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,由以下重量份数的组分构成:二硼化钛60份、石墨烯10份、电气石粉10份、纳米碳化硅5份、碳酸银2份、氮化硼15份。一般金属化铝膜的金属层是金属铝附着在有基膜上形成,为了获得超低方阻金属化有机膜,需要改善铝的融化和蒸发速度,提高沉淀到基膜上的铝量,以及及时散发大幅度增加的热量,因此金属化铝膜层采用真空蒸镀制成。真空蒸镀的条件为,真空镀膜机的蒸镀速度为1~3米/秒,镀膜机冷却主鼓的温度为-20~-30℃,使用比现有的氮化硼蒸发舟性能更好的蒸发舟,二硼化钛、氮化硼、石墨烯、电气石粉等多组分蒸发舟,可以有效改善铝的融化和蒸发速度,其蒸发率可以从5克/分钟以下提高到12克/分钟;可以提高同时间内铝在基膜上的沉淀量,降低膜的蒸镀速度,即膜卷的转动线速度,普通方阻金属化铝膜的蒸镀速度为7米/秒,应降低到2米/秒左右。更多的铝沉淀在基膜,也带来更多的热量,如果散热不好,会烫伤有机基膜,影响金属化铝膜的性能,需要将镀膜机主鼓的冷却温度从通常的-5℃降低到-25℃附近。实施例2一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,由以下重量份数的组分构成:二硼化钛65份、石墨烯8份、电气石粉12份、纳米碳化硅4份、碳酸银3份、氮化硼10份。一般金属化铝膜的金属层是金属铝附着在有基膜上形成,为了获得超低方阻金属化有机膜,需要改善铝的融化和蒸发速度,提高沉淀到基膜上的铝量,以及及时散发大幅度增加的热量,因此金属化铝膜层采用真空蒸镀制成。真空蒸镀的条件为,真空镀膜机的蒸镀速度为1~3米/秒,镀膜机冷却主鼓的温度为-20~-30℃,使用比现有的氮化硼蒸发舟性能更好的蒸发舟,二硼化钛、氮化硼、石墨烯、电气石粉等多组分蒸发舟,可以有效改善铝的融化和蒸发速度,其蒸发率可以从5克/分钟以下提高到12克/分钟;可以提高同时间内铝在基膜上的沉淀量,降低膜的蒸镀速度,即膜卷的转动线速度,普通方阻金属化铝膜的蒸镀速度为7米/秒,应降低到2米/秒左右。更多的铝沉淀在基膜,也带来更多的热量,如果散热不好,会烫伤有机基膜,影响金属化铝膜的性能,需要将镀膜机主鼓的冷却温度从通常的-5℃降低到-25℃附近。实施例3一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,由以下重量份数的组分构成:二硼化钛55份、石墨烯12份、电气石粉8份、纳米碳化硅6份、碳酸银1.5份、氮化硼20份。一般金属化铝膜的金属层是金属铝附着在有基膜上形成,为了获得超低方阻金属化有机膜,需要改善铝的融化和蒸发速度,提高沉淀到基膜上的铝量,以及及时散发大幅度增加的热量,因此金属化铝膜层采用真空蒸镀制成。真空蒸镀的条件为,真空镀膜机的蒸镀速度为1~3米/秒,镀膜机冷却主鼓的温度为-20~-30℃,使用比现有的氮化硼蒸发舟性能更好的蒸发舟,二硼化钛、氮化硼、石墨烯、电气石粉等多组分蒸发舟,可以有效改善铝的融化和蒸发速度,其蒸发率可以从5克/分钟以下提高到12克/分钟;可以提高同时间内铝在基膜上的沉淀量,降低膜的蒸镀速度,即膜卷的转动线速度,普通方阻金属化铝膜的蒸镀速度为7米/秒,应降低到2米/秒左右。更多的铝沉淀在基膜,也带来更多的热量,如果散热不好,会烫伤有机基膜,影响金属化铝膜的性能,需要将镀膜机主鼓的冷却温度从通常的-5℃降低到-25℃附近。以上显示和描述了本专利技术的基本原理和主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解,本专利技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理,在不脱离本专利技术精神和范围的前提下,本专利技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,其特征在于,由以下重量份数的组分构成:二硼化钛55‑65份、石墨烯8‑12份、电气石粉8‑12份、纳米碳化硅4‑6份、碳酸银1.5‑3份、氮化硼10‑20份。

【技术特征摘要】
1.一种超低方阻金属化铝膜用蒸发舟组合物,其特征在于,由以下重量
份数的组分构成:二硼化钛55-65份、石墨烯8-12份、电气石粉8-12份、纳米
碳化硅4-6份、碳酸银1.5-3份、氮化硼10-20份。...

【专利技术属性】
技术研发人员:孔祥新
申请(专利权)人:铜陵市新泰电容电器有限责任公司
类型:发明
国别省市:安徽;34

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