【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种金属低刻蚀的光刻胶剥离液，包含季胺氢氧化物，醇胺，溶剂，带有颜料吸附基团的星形共聚物，其特征在于，还含有下列结构的硅烷的一种或多种： 其中X为活性基团酰氧基、羟基、巯基、缩水甘油醚氧基、烷氧基中的一种，n为1‑3，Y1、Y2和Y3为甲基或可水解基团，其中，所述可水解基团为甲氧基、乙氧基、酰氧基、丁氧基、异丙氧基，且Y1、Y2和Y3中至少独立的含有2个所述可水解基团。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘江华，刘兵，彭洪修，
申请(专利权)人：安集微电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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