【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光定向调制显示器相关申请的交叉引用本申请要求于2012年8月10日提交的美国临时专利申请No.61/681,870的优先权,该美国临时专利申请的全部内容通过引用被结合于此。
本专利技术一般地涉及显示系统,并且更具体而言,涉及显示系统中包括两级或更多级光调制的光源。
技术介绍
双调制显示器提供了增大的局部峰值亮度和降低的整体亮度。显示器的每个像素可以具有高峰值亮度,例如400-1000尼特(nit)或甚至更多。但是,显示器工作期间大部分像素可能只需要以低得多的亮度,例如100尼特或甚至更低,呈现。能够跨全屏生成400-1000尼特的显示器不必要地对每个像素采用昂贵的部件来实现高局部峰值亮度,并且由于利用不足、过度供应的光能而生成过多的热量。诸如移动设备的小显示系统可能没有足够的空间来安装大量的有源发光元件。但是,能够提供相对均匀的全屏照明的低填充因子单板对于制作或安装会是昂贵的,尤其是在其中空间可用性非常珍贵的小形式因子的设备当中。另外,组装到一起用于全屏照明的多个低填充因子的照明模块常常呈现不期望的视觉假象,诸如多个照明模块的边界区域中和/或诸如被板上电路系统占用的其它区域中在视觉上可察觉到的线条、阴影和不均匀。可以安装诸如光漫射器的附加部件,以改善或减少不期望的视觉假象,由此导致移动设备更大和更重的形式因子。这部分中所描述的方法是可以被探究的方法,但不一定是之前已经被其他人设想或探究的方法。因此,除非另外指出,否则不应当仅凭其在这部分中的包括就假设在这部分中描述的任何方法有资格被当作现有技术。类似地,除非另外指出,否则关于一种或多种方法确定出的问题不应当 ...
【技术保护点】
一种光源,包括:光反射体,被一个或更多个光反射表面包围,该光反射体配置为在该光反射体内再循环入射到所述一个或更多个光反射表面上的光;及多个多像素光调制器,配置为基于图像数据设置成各自的透射状态以便调制(a)从光反射体射出并且(b)照射光接收表面的各自的多像素部分的光,其中所述多个多像素光调制器空间地嵌入到所述一个或更多个光反射表面当中的至少一个光反射表面中,其中至少两个相邻的多像素部分共享对应于显示面板的一个或更多个共用像素的共用部分。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.08.10 US 61/681,8701.一种光源,包括:光反射体,被一个或更多个光反射表面包围,该光反射体配置为在该光反射体内再循环入射到所述一个或更多个光反射表面上的光;及多个多像素光调制器,配置为基于图像数据设置成各自的透射状态以便调制(a)从光反射体射出并且(b)照射光接收表面的各自的多像素部分的光,其中所述多个多像素光调制器空间地嵌入到所述一个或更多个光反射表面当中的至少一个光反射表面中,其中至少两个相邻的多像素部分共享对应于显示面板的一个或更多个共用像素的共用部分,其中所述一个或更多个光反射表面中的光反射表面包括多个凹面镜。2.如权利要求1所述的光源,其中光接收表面的多像素部分对应于显示面板上的一组像素,并且其中光接收表面的每个多像素部分对应于显示面板上的两个或更多个像素。3.如权利要求1所述的光源,其中光反射体包括在该光反射体的一个或更多个部件中的量子点。4.如权利要求1所述的光源,其中所述多个多像素光调制器当中的至少一个多像素光调制器包括以下中的至少一个:透镜、快门、光圈、液晶光阀、机械阀、光导、凹面镜或者量子点。5.如权利要求1所述的光源,其中提供给光反射体的光是从以下中的至少一个发射的:侧光式有源光发射器或直射式有源光发射器。6.如权利要求1所述的光源,其中提供给光反射体的光是从以下中的至少一个发射的:发光二极管(LED)、冷阴极荧光灯(CCFL)、基于量子点的光转换器、有机发光二极管(OLED)、荧光灯、白炽灯或者气体放电灯。7.如权利要求1所述的光源,其中所述多个多像素光调制器当中的至少两个多像素光调制器配置为利用不同颜色的光照射光接收表面的各自的多像素部分中的多像素部分。8.如权利要求1所述的光源,其中所述多个多像素光调制器当中的至少一个多像素光调制器配置为利用一个或更多个选定光谱范围的光波长照射光接收表面的各自的多像素部分中的多像素部分。9.如权利要求1所述的光源,其中在图像帧时间内照射在光接收表面的一部分上的光的最大强度与在该图像帧时间内同时照射该一部分的多像素光调制器的个数成比例。10.如权利要求1所述的光源,其中光接收表面包括以下中的至少一个:矩形形状、多边形形状、弯曲形状、球形形状、凹形状、凸形状、不规则形状或者不相交的形状。11.如权利要求1所述的光源,其中所述多个多像素光调制器被划分成一个或更多个单独可安装的模块。12.如权利要求1所述的光源,其中在图像帧时间内照射在光接收表面的第一部分上的光不超过30尼特,并且其中在相同的图像帧时间内照射在光接收表面的第二不同部分上的光超过30尼特、100尼特、500尼特或1000尼特中的一者。13.如权利要求1所述的光源,其中光接收表面的一部分配置为在图像帧时间内同时被由一个或更多个多像素光调制器引导的光照射,并且其中该一部分上的光强度配置为利用以下中的至少一个控制:调节这一个或更多个多像素光调制器的光透射状态,调节处于非暗透射状态的这一个或更多个多像素光调制器的空间密度,调节来自这一个或更多个多像素光调制器的照射的持续时间,或者调节这一个或更多个多像素光调制器的光方向。14.如权利要求1所述的光源,其中所述一个或更多个光反射表面中的至少一个光反射表面包括多个光照射模块,并且其中每个光照射模块包括所述多个多像素光调制器当中的一个或更多个多像素光调制器。15.如权利要求1所述的光源,其中光源是手持式显示设备、平板计算设备、个人计算设备、电视系统、以剧场为基础的显示系统或者室外显示系统的一部分。16.如权利要求1所述的光源,其中所述一个或更多个光反射表面中的光反射表面包括以下中的至少一个:反射金属表面、全内反射(TIR)表面、基板、光学膜、光学反射增强膜、反射液晶层、电子纸或者其它反光材料。17.如权利要求1所述的光源,其中处于非暗透射状态的每个多像素...
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