本实用新型专利技术为一种磁性陶瓷盘,包括有永磁体和圆环形支撑板,永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面;永磁体的表面粗糙度在Ra0.4~Ra0.025之间,表面湿滑动摩擦系数在0.03~0.08之间。该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高,表面摩擦系数低,结构和生产工艺简单,加工难度小等特点。
【技术实现步骤摘要】
本技术是关于磁性圆盘及其生产工艺,尤其涉及一种磁性陶瓷盘及其生产工-H-O
技术介绍
盘式磁选(磁分离)设备已经广泛应用在冶金、矿山、有色金属、黄金、电力和水处理等行业中,现有的盘式磁选(磁分离)设备,如:CN2721618Y “稀土磁环分离净化废水装置”、CN101327464A “一种盘式磁选机”和CN2077328U “圆盘型永磁弱磁磁选机”等专利中均具有永磁实心圆盘,且均为永磁体靠磁力吸附于支撑板上,再用厚度在2?5mm的不锈钢薄钢板将永磁体密封,使之不直接接触磁性物。这些现有装置的永磁体没有直接接触到浆料或磁性物质,而是人为设置一层不锈钢薄钢板隔层。从理论上分析,距离永磁体表面1mm的范围内的磁场强度的衰减最为严重,该隔层就严重影响永磁体的作用效率。另外,上述专利中公示的盘式磁选(磁分离)设备均采用刮渣条强制性卸渣,由于不锈钢薄钢板摩擦系数较高,导致不锈钢薄钢板和刮渣条的磨损较大,严重降低使用寿命。再者,上述现有技术中的磁盘还存在结构复杂,制造难度大等缺陷。由此,本专利技术人凭借多年从事相关行业的经验与实践,提出一种磁性陶瓷盘,以克服现有技术的缺陷。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种磁性陶瓷盘,该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高,表面摩擦系数低,结构和生产工艺简单,加工难度小等特点。本技术的目的是这样实现的,一种磁性陶瓷盘,包括有永磁体和圆环形支撑板,所述永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面;所述永磁体的表面粗糙度在Ra0.4?Ra0.025之间,表面湿滑动摩擦系数在0.03?0.08之间。在本技术的一较佳实施方式中,所述永磁体是由多个磁块构成;各相邻磁块之间的间隙填充有粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末。在本技术的一较佳实施方式中,硬质非金属粉末为莫氏硬度在6.5?7.5之间的硬玉、石英石、榴石、橄揽石或电气石。在本技术的一较佳实施方式中,所述永磁体为烧结铁氧体或烧结钕铁硼材料。在本技术的一较佳实施方式中,所述支撑板由金属或硬质非金属材料构成。在本技术的一较佳实施方式中,所述支撑板直径为300?2000mm,厚度为6?10mm,环宽在 100 ?1000mm。在本技术的一较佳实施方式中,所述粘结胶为丙烯酸酯结构胶、环氧结构胶或聚氨酯结构胶。由上所述,该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高,表面摩擦系数低,结构和生产工艺简单,加工难度小等特点。【附图说明】以下附图仅旨在于对本技术做示意性说明和解释,并不限定本技术的范围。其中:图1:为本技术磁性陶瓷盘结构示意图。图2:为本技术磁性陶瓷盘的剖视结构示意图。【具体实施方式】为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照【附图说明】本技术的【具体实施方式】。如图1、图2所示,本技术提出一种磁性陶瓷盘100,该磁性陶瓷盘100包括有永磁体I和圆环形支撑板3,所述永磁体I是由多个磁块11构成;所述永磁体I由粘结胶2粘贴固定于支撑板3的上、下表面,各相邻磁块11之间的间隙填充有粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末的混合物,以提高填充材料的耐磨性;所述永磁体I的表面粗糙度在Ra0.4?Ra0.025之间(即:表面光洁度在▽ 9?▽ 13之间),表面湿滑动摩擦系数在0.03?0.08之间。具体地,在本实施例中,永磁体I的表面粗糙度为Ra0.05 (即:表面光洁度为V 11);表面湿滑动摩擦系数为0.07。在本实施方式中,所述硬质非金属粉末为莫氏硬度在6.5?7.5之间的硬玉、石英石、榴石、橄揽石或电气石;粘结胶2与硬质非金属粉末按体积1:1?1:3之间的比例混合。所述支撑板3由金属或硬质非金属材料构成,所述支撑板3直径为300?2000mm,厚度为6?10mm,环宽在100?100mm ;在本实施例中,支撑板3采用铁素体不锈钢;所述粘结胶2采用丙烯酸酯结构胶、环氧结构胶或聚氨酯结构胶其中的一种。在本实施例中粘结胶2采用环氧结构胶。上述磁性陶瓷盘100的生产工艺,包括如下步骤:a、将直径为300?2000mm、厚度为6?1mm的金属或硬质非金属板裁成环宽在100?100mm之间的圆环支撑板3 ;b、将永磁体I以一定的排列方式通过粘结胶2均匀粘结在支撑板3的上、下两侧,并采用粘结胶2和粒径在325目(0.045mm)以下硬质非金属粉末的混合物将永磁体I中相邻各磁块11之间的间隙严密填充;C、将经过上述加工之后的磁性陶瓷盘放置烘箱内,在70?100°C的温度烘烤30?60分钟;或自然放置24?36小时,以固化粘结胶2 ;d、将经固化后的磁性陶瓷盘上、下两个侧面进行镜面磨抛:I)打磨压强控制在I?4MPa之间;2)抛光压强控制在3?6MPa之间;3)抛磨盘面温度控制在O?45°C之间;4)打磨需在有水或者油充当介质的条件下进行,介质沉淀净化后循环使用;5)水或者油介质带压给入盘面;6)水或者油介质给入压力在0.1MPa?0.5MPa(湿润、降温、清洗盘面);7)打磨依次采用100目、500目、1000目、2000目和3000目金刚水磨片,直至盘面光洁度达到▽ 9?▽ 13 (表面粗糙度在Ra0.4?Ra0.025) ;8)抛光采用毡轮抛光轮;e、将盘面进行清洗,即制造生产出磁性陶瓷盘。由上所述,该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高,表面摩擦系数低,结构和生产工艺简单,加工难度小等特点。与现有技术相比,本技术具有以下特点:(I)结构简单,加工难度小;整个磁性陶瓷盘无需焊接,且不追求密封,仅仅采用粘结胶即可完成生产加工;(2)永磁体磁能积利用率高;本技术磁性陶瓷盘的永磁体的表面直接作用于磁性物质,与浆料或者磁性物质之间没有隔层,可提高永磁体磁能积利用率30%以上;(3)盘面摩擦系数低,采用刮渣条卸渣时,对盘面和刮渣条的磨损小,可延长磁性陶瓷盘的使用寿命;本技术磁性陶瓷盘表面作镜面抛光处理,摩擦系数可由镜面抛光前的0.3?0.6降低至0.08以下,直接表征为刮渣条与盘面的摩擦力降低了 4倍以上;(4)抛磨后盘面平整,无裂痕和磁体崩塌现象;采用由粗到细金刚水磨片进行打磨,确保盘面平整、光洁;在有水或油介质存在下,通过控制抛磨压强和盘面温度,可以避免盘面磁体出现裂痕或崩塌现象。以上所述仅为本技术示意性的【具体实施方式】,并非用以限定本技术的范围。任何本领域的技术人员,在不脱离本技术的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改,均应属于本技术保护的范围。【主权项】1.一种磁性陶瓷盘,包括有永磁体和圆环形支撑板,其特征在于:所述永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面;所述永磁体的表面粗糙度在Ra0.4?Ra0.025之间,表面湿滑动摩擦系数在0.03?0.08之间。2.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘,其特征在于:所述永磁体是由多个磁块构成;各相邻磁块之间的间隙填充有粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末。3.如权利要求2所述的磁性陶瓷盘,其特征在于:硬质非金属粉末为莫氏硬度在6.5?7.5之间的硬玉、石英石、榴石、橄揽石或电气石。4.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘,其特征在于:所述永磁体为烧结铁氧体或烧结钕铁硼材料。5.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘,本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁性陶瓷盘,包括有永磁体和圆环形支撑板,其特征在于:所述永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面;所述永磁体的表面粗糙度在Ra0.4~Ra0.025之间,表面湿滑动摩擦系数在0.03~0.08之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:倪明亮,陈立,
申请(专利权)人:四川环能德美科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:四川;51
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