一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构制造技术

技术编号:11995141 阅读:202 留言:0更新日期:2015-09-02 23:41
本发明专利技术属于土木建筑工程技术领域,具体涉及一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构。它包括封底混凝土和地下连续墙,所述封底混凝土端部与地下连续墙连接,所述地下连续墙上与封底混凝土连接的部位内凹形成企口空间,所述封底混凝土端部与企口空间密封配合形成企口状的抗剪接头。本发明专利技术封底混凝土与地下连续墙之间采用企口连接方式,充分利用连续墙的重力及其侧壁的摩阻力参与封底混凝土的抗突涌,有效减小封底混凝土的厚度及基桩长度,也延长了封底混凝土与地下连续墙界面的渗流路径,增强了界面的防水性能,节省了工程投资。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于土木建筑工程
,具体涉及一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构
技术介绍
在目前的水下开挖基坑工程中,如图1所示,其封底混凝土 I与地下连续墙2的接触面5为平面,二者为分离的结构。这种封底混凝土与地下连续墙的连接方式的主要存在以下缺点:(I)地下连续墙无法参与封底混凝土的受力及抗浮稳定,坑底以下的全部水压力仅由封底混凝土 I及其基粧3承担,导致封底混凝土厚度较厚,基粧设置较多,工程费用较尚O(2)封底混凝土与地下连续墙分离式的接触面,容易夹杂泥砂、泥皮而成为基坑渗漏点。(3)地下连续墙的重力及其侧壁摩阻力较大但无法发挥其抵抗水压力的作用,存在一定程度的浪费。
技术实现思路
本专利技术的目的就是为了解决上述
技术介绍
存在的不足,提供一种成本低、防水性能好的水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构。本专利技术采用的技术方案是:一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,包括封底混凝土和地下连续墙,所述封底混凝土端部与地下连续墙连接,所述地下连续墙上与封底混凝土连接的部位内凹形成企口空间,所述封底混凝土端部与企口空间密封配合形成企口状的抗剪接头。进一步地,所述地下连续墙上内凹的企口空间的深度为7-lOcm。进一步地,所述企口空间为矩形槽,所述封底混凝土的端部与矩形槽的槽壁紧密贴合。进一步地,所述封底混凝土的端面与地下连续墙内部的边缘主筋贴合。更进一步地,所述封底混凝土的端面穿过地下连续墙内部的边缘主筋与地下连续墙内部的内排主筋贴合。本专利技术的有益效果是:(I)封底混凝土与地下连续墙之间通过企口连接,实现剪力的传递,结构简单,充分利用地下连续墙的重力及其侧壁的摩阻力,参与封底混凝土的抗外部水压力,有效减小封底混凝土的厚度、减少基粧设置数量或减短粧长,节省工程投资。(2)企口连接方式使封底混凝土与地下连续墙之间的接触面较干净,增强了封底混凝土与地下连续墙间的咬合及摩擦,也延长了封底混凝土与地下连续墙界面的渗流路径,提高了界面的防水能力。【附图说明】图1为现有技术的结构示意图。图2为本专利技术的结构示意图。图3为图2中I处封底混凝土浇筑前的一种示意图。图4为图2中I处封底混凝土浇筑后的一种示意图。图5为图2中I处封底混凝土浇筑前的另一种示意图。图6为图2中I处封底混凝土饶筑后的另一种不意图。【具体实施方式】下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步的详细说明,便于清楚地了解本专利技术,但它们不对本专利技术构成限定。如图2-6所示,本专利技术包括封底混凝土 I和地下连续墙2,所述封底混凝土 I端部与地下连续墙2连接,具体的为,地下连续墙2上与封底混凝土I连接的部位内凹形成企口空间2.1,所述封底混凝土 I的端部1.1与企口空间2.1密封配合形成企口状的抗剪接头。本专利技术封底混凝土 I与地下连续墙2之间通过企口连接,实现剪力的传递,结构简单,充分利用地下连续墙2的重力及其侧壁的摩阻力,参与封底混凝土的抗外部水压力,有效减小封底混凝土的厚度、减少基粧设置数量或减短粧长,节省工程投资。同时企口连接方式使封底混凝土与地下连续墙之间的接触面较干净,增强了封底混凝土与地下连续墙间的咬合及摩擦,也延长了封底混凝土与地下连续墙界面的渗流路径,提高了界面的防水能力。上述方案中,地下连续墙上内凹的企口空间的深度L为7-lOcm,企口空间深度在合适的范围内既可保证在实现抗剪连接的同时,方案投资更经济。企口空间2.1为一面开口的矩形槽,封底混凝土 I的端部1.1各平面分别与矩形槽的各槽壁紧密贴合,当封底混凝土 I四周边缘均与地下连续墙2连接时,四面地下连续墙2上的矩形槽连通,保证封底混凝土I与地下连续墙2连接的密封性能。上述方案中,如图3、图4所示,在地下连续墙2厚度较薄时,封底混凝土 I端部伸入深度较浅,封底混凝土 I的端面仅与地下连续墙2内部竖直的边缘主筋2.2贴合,即可实现抗剪连接;当地下连续墙2厚度较厚时,其内部设置多排主筋,此时封底混凝土 I端部伸入深度较深,如图5、图6所示,封底混凝土 I的端面穿过地下连续墙2内部的边缘主筋2.2,与地下连续墙2内部竖直的内排主筋2.3贴合。封底混凝土 I端部伸入地下连续墙2内的深度根据实际施工状况而定。本专利技术施工时,地下连续墙2的钢筋笼沉放入槽前,在与封底混凝土 I对应部位即企口空间2.1内预埋硬质泡沫4,硬质泡沫4与地下连续墙的主筋之间通过绑扎方式实现可靠固定。水下开挖完成后,封底混凝土 I浇筑前,由潜水员潜入水下取出硬质泡沫4,并对企口空间2.1进行清理,清理干净后水下浇筑封底混凝土 1,即可形成封底混凝土 I与地下连续墙2之间企口状的抗剪接头。待封底混凝土 I达到强度后,排出坑内水体,即可进行坑内主体结构的浇筑作业。本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。【主权项】1.一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,包括封底混凝土(I)和地下连续墙(2),所述封底混凝土(I)端部与地下连续墙(2)连接,其特征在于:所述地下连续墙(2)上与封底混凝土连接的部位内凹形成企口空间(2.1),所述封底混凝土(I)的端部(1.1)与企口空间(2.1)密封配合形成企口状的抗剪接头。2.根据权利要求1所述的一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,其特征在于:所述地下连续墙⑵上内凹的企口空间(2.1)的深度(L)为7-lOcm。3.根据权利要求1或2所述的一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,其特征在于:所述企口空间(2.1)为矩形槽,所述封底混凝土(I)的端部(1.1)与矩形槽的槽壁紧密贴合。4.根据权利要求1所述的一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,其特征在于:所述封底混凝土(I)的端面与地下连续墙(2)内部的边缘主筋(2.2)贴合。5.根据权利要求1所述的一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,其特征在于:所述封底混凝土(I)的端面穿过地下连续墙(2)内部的边缘主筋(2.2)与地下连续墙(2)内部的内排主筋(2.3)贴合。【专利摘要】本专利技术属于土木建筑工程
,具体涉及一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构。它包括封底混凝土和地下连续墙,所述封底混凝土端部与地下连续墙连接,所述地下连续墙上与封底混凝土连接的部位内凹形成企口空间,所述封底混凝土端部与企口空间密封配合形成企口状的抗剪接头。本专利技术封底混凝土与地下连续墙之间采用企口连接方式,充分利用连续墙的重力及其侧壁的摩阻力参与封底混凝土的抗突涌,有效减小封底混凝土的厚度及基桩长度,也延长了封底混凝土与地下连续墙界面的渗流路径,增强了界面的防水性能,节省了工程投资。【IPC分类】E02D5-18【公开号】CN104878742【申请号】CN201510290023【专利技术人】肖明凊, 龚彦峰, 何应道, 鲁志鹏, 孙峰, 龙凡, 蒋喆, 梁艳 【申请人】中铁第四勘察设计院集团有限公司【公开日】2015年9月2日【申请日】2015年5月29日本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种水下封底混凝土与地下连续墙的抗剪连接结构,包括封底混凝土(1)和地下连续墙(2),所述封底混凝土(1)端部与地下连续墙(2)连接,其特征在于:所述地下连续墙(2)上与封底混凝土连接的部位内凹形成企口空间(2.1),所述封底混凝土(1)的端部(1.1)与企口空间(2.1)密封配合形成企口状的抗剪接头。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:肖明凊龚彦峰何应道鲁志鹏孙峰龙凡蒋喆梁艳
申请(专利权)人:中铁第四勘察设计院集团有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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