一种适于吸合冲击过程中滑块的缓冲器制造技术

技术编号:11988503 阅读:76 留言:0更新日期:2015-09-02 17:22
本发明专利技术涉及一种适于吸合冲击过程中滑块的缓冲器,该缓冲器包括:缸体,并将开口封闭的缸盖,缸盖的中心轴线处设有中心通孔;由一活塞杆穿过该中心通孔,且该活塞杆顶端设有活塞体组件,活塞杆的末端连接于外筒左侧端部;在缓冲工作时,缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;缸体的侧壁中绕设有电磁线圈,活塞体组件右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当滑块撞击所述缸体的右端面时,处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,使电磁线圈产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制电流驱动模块关闭输出电流,以释放滑块。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种缓冲器,其特征在于:所述缓冲器包括:呈圆柱形,且用于填充缓冲介质的缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动;所述活塞杆的末端连接于所述缓冲器的外筒左侧端部;在缓冲工作时,所述缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;所述缸体的侧壁中绕设有电磁线圈,所述活塞体组件的右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当所述滑块撞击所述缸体的右端面时,所述处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,使所述电磁线圈产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至所述处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制所述电流驱动模块关闭输出电流,使所述磁场消失,以释放所述滑块;所述活塞体组件包括:同轴设置的左、右活塞体,该左、右活塞体上对称设有若干个用于介质轴向流动的通孔,左、右活塞体的相邻端面之间的密封配合,以使作活塞运动时,介质仅通过所述左、右活塞体上的各通孔实现往返流动;所述左活塞体内设有用于放置电机的空腔,该电机由所述处理器模块控制,其转子连接于所述右活塞体,用于根据介质压力带动该右活塞体旋转,以控制左、右活塞体上的各通孔的相对位置关系,进而控制介质流量,即控制活塞运动速度。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:唐全林邓学山高云飞苏欣张智明徐金明谭晓强徐仁才李刚潘金亮唐豪清
申请(专利权)人:苏州唐氏机械制造有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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