本发明专利技术提供含有抗静电剂的粘合剂组合物以及粘合膜。具体而言，本发明专利技术提供不损害粘合性能，同时抗静电性优异，并且返工性也优异的，含有抗静电剂的粘合剂组合物和使用其的粘合膜。所述含有抗静电剂的粘合剂组合物，其特征在于，作为上述抗静电剂含有具有五氟苯基(C6F5基)的化合物即五氟苯化合物。上述五氟苯化合物为离子化合物，其阴离子优选为选自由五氟苯羧酸阴离子、五氟苯磺酸阴离子、五氟苯氧基阴离子组成的阴离子组中的1种。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】 本申请是申请号为201210182856. 6,申请日为2012年6月5日，专利技术名称为"含 有抗静电剂的粘合剂组合物以及粘合膜"的中国专利申请的分案申请。
本专利技术涉及含有抗静电剂的粘合剂组合物以及粘合膜。更详细地，涉及含有作为 抗静电剂的具有五氟苯基（C 6F5基）的化合物（以下、称为"五氟苯化合物"）的粘合剂组合 物，以及使用其的粘合膜。本专利技术涉及不损害粘合性能，同时抗静电性能优异，并且返工性 (y 7 -夕性）也优异的粘合剂组合物以及使用其的粘合膜。
技术介绍
-直以来，在电子设备部件、光学设备部件、图像显示面板等的精密部件和构件的 制造加工/装配工序中，为了暂时保护这些精密部件和构件的表面，防止来自工作环境气 氛的颗粒/气体污染物质的附着、划痕/打痕的产生，在精密部件和构件的表面贴附表面保 护膜。 例如，在制造构成液晶显示器的构件的偏光板、相位差板等的光学构件的工序中 使用的表面保护膜，在具有光学透明性的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET)树脂膜的一面上形 成粘合剂层，直至贴合于光学构件之前，将为了保护该粘合剂层的被剥离处理的剥离膜贴 合于粘合剂层的上面。 而且，由于偏光板、相位差板等的光学构件，以贴合有表面保护膜的状态进行伴有 液晶显示板的显示能力、色度、对比度、杂质混入等的光学评价的产品检验，因此，作为对于 表面保护膜的要求性能，要求在粘合剂层中不附着有气泡或杂质。 而且，近年来，从偏光板、相位差板等的光学构件剥离表面保护膜时，担心伴随着 从被粘物剥离粘合剂层时产生的静电而产生的剥离带电影响到液晶显示器的电气控制回 路的故障，对于粘合剂层要求优异的抗静电性能。 而且，在使表面保护膜贴合于偏光板、相位差板等的光学构件时，由于各种原因， 有暂时剥离表面保护膜，重新粘贴表面保护膜的情况，这时要求从被粘物的光学构件的容 易剥离（返工性）。 这样，近年来，作为对于构成表面保护膜的粘合剂层的要求性能，从适合于使用表 面保护膜的易用性方面出发，要求粘合力的经时稳定性、优异的抗静电性能、和返工性能 等。 但是，对于构成表面保护膜的粘合剂层的要求性能，虽然能够分别满足这些粘合 力的经时稳定性、优异的抗静电性能、和返工性能的各自的要求性能，但同时低成本地满足 表面保护膜的粘合剂层中要求的要求性能是困难的课题。 例如，对于粘合力的经时稳定性，已知有以下的提案。 在具有碳原子数在7以下的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯与含有羧基的共聚性化 合物的共聚物为主要成分用交联剂对其交联处理制成的丙烯酸类粘合剂层中，在长时间粘 附的情况中，具有粘合剂向被粘物一侧移动而附着，并且对被粘物的附着力经时大幅上升 的问题。为了避免该问题，已知提供粘合剂层，所述粘合剂层使用具有碳原子数为8~10 的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯与具有醇性羟基的共聚性化合物的共聚物，用交联剂对其 交联处理而得到（专利文献1)。 并且提出提供粘合剂层等，所述粘合剂层通过在上述同样的共聚物中少量混合 (甲基）丙烯酸烷基酯与含有羧基的共聚性化合物的共聚物，用交联剂将其交联处理而得 到。 并且，对于优异的抗静电性能，作为赋予表面保护膜抗静电性的方法，显示有向基 材膜捏合入抗静电剂的方法等，作为抗静电剂，例如公开了（a)具有季铵盐、吡啶嗡盐、伯 至叔氨基等的阳离子基的各种阳离子抗静电剂；(b)具有磺酸盐基、硫酸酯盐基、磷酸酯盐 基、膦酸盐基等的阴离子基的阴离子抗静电剂；（c)氨基酸类、氨基硫酸酯类等的两性抗静 电剂、（d)氨基醇类、甘油类、聚乙二醇类等的非离子抗静电剂；（e)将如上所述的抗静电剂 高分子量化得到的高分子型抗静电剂等（专利文献2)。 此外，近年来，提出使得基材膜中含有这样的抗静电剂，或者不在基材膜的表面上 涂布，而是直接使得粘合剂层中含有这样的抗静电剂（专利文献3)。 在专利文献3中，公开了含有（1)通过辐射聚合可聚合混合物得到的共聚物，所述 可聚合混合物含有（a)氨基甲酸乙酯丙烯酸酯、和（b)具有聚环氧烷链的（甲基）丙烯酸 酯、和（c)附着力赋予性单体作为主成分；和（2)离子化合物的，具有抗静电性的粘合剂组 成，以及使用其的粘合片。具体地，作为粘合剂组合物的制造方法，向含有聚酯型氨基甲酸 乙酯丙烯酸酯类的氨基甲酸乙酯丙烯酸酯、和甲氧基聚丙烯酸乙二醇酯类的具有聚氧化烯 链的（甲基）丙烯酸酯单体、和丙烯酸羟丙酯类的附着力赋予性单体、和依照需要的丙烯酸 异辛酯类的其他共聚单体的可聚合混合物中，混合高氯酸锂类的离子化合物，如果需要，添 加光聚合引发剂，搅拌直至完全溶解后，通过照射紫外线硬化能够得到粘合剂组合物。 然而，由于作为离子化合物使用的高氯酸锂具有金属腐蚀性，因此有得到的具有 抗静电性的粘合剂组成的使用地方受限的问题。 而且，对于返工性能，例如提出粘合剂组合物，所述粘合剂组合物通过以对于丙烯 酸类树脂100重量份为0. 0001~10重量份的比例，在丙烯酸类树脂中混合异氰酸酯类化 合物的硬化剂和特定的硅酸盐低聚物得到（专利文献4)。 在专利文献4中，以烷基的碳原子数为约2~12的丙烯酸烷基酯，或烷基的碳原 子数为约4~12的甲基丙烯酸烷基酯等为主要单体成分，例如，能够包含含有羧基的单体 等的、含有其它官能团的单体成分。一般地，优选使含有50重量％以上的上述主要单体，并 且，希望含有官能团的单体成分的含量为〇. 001~50重量％，优选0. 001~25重量％，更 优选0. 01~25重量％。由于这样的专利文献4中记载的粘合剂组合物即使在高温下或 者高温高湿下，凝聚力和附着力的经时变化也是小的，并且，曲面附着力中也显示优异的效 果，因此具有返工性。 一般地，如果将粘合剂层制成柔性性状，则粘合剂残留变得容易发生，返工性也容 易降低。即，容易变得错误地贴合时剥离困难、重新贴合困难。因此，为了使其具有返工性， 需要考虑使具有羧基等的官能团的单体交联于主剂上，将粘合剂层制成一定的硬度。 日本专利特开昭63-225677号公报 日本专利特开平11-070629号公报 日本专利特开2000-129235号公报 日本专利特开平8-199130号公报
技术实现思路
在现有技术中，作为对于构成表面保护膜的粘合剂层的要求性能，虽然能够分别 满足粘合力的经时稳定性、优异的抗静电性能、和返工性能的各自的要求性能，但同时以低 成本满足表面保护膜的粘合剂层中要求的要求性能是困难的课题。 本专利技术鉴于上述情况，以提供不损害粘合性能，同时抗静电性能优异，并且返工性 也优异的，含有抗静电剂的粘合剂组合物以及使用其的粘合膜作为课题。 为了解决上述课题，本专利技术提供一种粘合剂组合物，其为含有抗静电剂的粘合剂 组合物，其特征在于作为上述抗静电剂含有具有五氟苯基（C6F5基）的化合物即五氟苯化合 物。 上述五氟苯化合物为离子化合物，其阴离子优选为选自由五氟苯羧酸阴离子、五 氟苯磺酸阴离子、五氟苯氧基阴离子组成的阴离子组中的一种。 粘合剂聚合物为由（A)烷基的碳原子数为Cl~C14的（甲基）丙烯酸烷基酯单 体的至少1种与（B)含有羟基和/或羧基的可共聚乙烯基单体的至少1种形成的共聚组合 物，优选相对于上述共聚组合物的100重量份，上述抗静电剂含有〇. 1~10重量份的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种粘合剂组合物，其为含有粘合剂聚合物、交联剂、和抗静电剂的粘合剂组合物，其特征在于，所述粘合剂聚合物由丙烯酸酯类聚合物形成，作为所述抗静电剂含有由阴离子和阳离子形成的离子化合物，所述阴离子为选自由五氟苯羧酸阴离子、五氟苯磺酸阴离子、五氟苯氧基阴离子组成的阴离子组中的一种。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：长仓毅，岛口龙介，
申请(专利权)人：藤森工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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