具有全氟化基团的反应性聚噁唑啉制造技术

本发明专利技术涉及一种具有下式的化合物：其中：R1选自H、烷基基团、芳基基团以及它们的组合；R2为Rf–Y–(CH2)x–；R3为反应性基团；Rf为全氟化烷基基团；Y选自键，–S(O)2–N(CH3)–、–S(O)2–N(CH2CH3)–、–S(O)2–O–、–S(O)2–、–C(O)–、–C(O)–S–、–C(O)–O–、–C(O)–NH–、–C(O)–N(CH3)–、–C(O)–N(CH2CH3)–、–(CH2CH2O)y–、–O–和–O–C(O)–CH＝CH–C(O)–O–；n大于10；x为2至20；并且y为至少1。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】具有全氟化基团的反应性聚頓唑啉 相关专利申请的夺叉引用 本专利申请要求于2012年12月19日提交的美国临时专利申请第61/739150号 的权益，该临时专利申请的公开内容以引用方式全文并入本文。
技术介绍
具有独特润湿行为诸如超亲水性（具有小于5°的水接触角的表面）或两亲性 (具有对亲水性和疏水性介质二者的亲和力的表面）的表面对于许多应用是期望的。例如， 抗起雾的表面是挡风玻璃、安全眼镜和其他眼镜所需的。当水在材料上冷凝并结珠以形成 微米大小的散射光从而导致模糊的液滴时，雾形成。超亲水性通常抵抗雾的形成，因为任何 冷凝的水立即润湿表面以形成透明的薄膜而不是单独的液滴。然而，这些表面的防雾特性 可因环境污染而被掩盖。因此，表现出易于除去油脂或灰尘污染的表面可有助于在长暴露 时间下保持防雾特性。 因此，对易于清洁（即，易清洁）和防雾的表面的需求推动了开发新的具有反应性 基团的可被配制成稳健、耐久涂料的两亲性聚合物。
技术实现思路
本公开提供具有全氟化烷基基团的反应性聚噁唑啉（POx)。更具体地讲，本公开提 供新型两亲性可聚合的聚合物，其中将聚噁唑啉用作亲水性组分，并将全氟化烷基基团用 作疏水性组分。此类可聚合的聚合物适用于制备可用于制造防雾、防污和/或易清洁涂料 的两亲性聚合物。 在一个实施例中，本公开提供下式的化合物：【主权项】1. 一种具有下式的化合物：其中： R1选自H、烷基基团、芳基基团以及它们的组合； R2SRf-Y - (CH2)x-; R3为反应性基团； Rf为全氟化烷基基团； Y 选自键，-S(O)2-N(CH3) -、- S(O)2-N(CH2CH3) -、- S(O)2-O-、- S(O)2-、-C(O) - , -C(O) - S - , -C(O) - 0 - , -C(O) - NH - , - C (0) - N (CH3) -、-C(O)-N(CH2CH3) -、- (CH2CH2O)y -、- 0 -和-0 - C(O) - CH = CH - C(O) - 0 -; η为大于10的整数； X为2至20的整数；并且 y为至少1的整数。2. 根据权利要求1所述的化合物，其中R 1选自H、甲基和乙基。3. 根据权利要求1所述的化合物，其中R3为可聚合基团和/或基底反应性基团。4. 根据权利要求1所述的化合物，其中R3选自乙烯基基团、乙烯基醚基团、（甲基）丙 條醜氧基基团、（甲基）丙條醜胺基基团、二烷氧基甲娃烷基烷基硫基基团和二烷氧基甲娃 烷基烷基氣基基团O5. 根据权利要求1所述的化合物，其中Y选自键，-3(0)2-叭013)-、-(：(0)-順-和-(CH 2CH2O) y - 〇6. 根据权利要求1所述的化合物，其中1^为全氟化（C1-C5)烷基基团。7. 根据权利要求1所述的化合物，其中η为不大于500的整数。8. 根据权利要求1所述的化合物，其中η为20至100的整数。9. 根据权利要求1所述的化合物，其中X为2至10的整数。10. 根据权利要求1所述的化合物，其中y为不大于20的整数。11. 一种具有下式的化合物· 其中： R1选自H、烷基基团、芳基基团以及它们的组合； R2SRf-Y - (CH2)x-; R3选自乙烯基基团、乙烯基醚基团、（甲基）丙烯酰氧基基团、和（甲基）丙烯酰胺基 基团、二烷氧基甲娃烷基烷基硫基基团和二烷氧基甲娃烷基烷基氣基基团； Rf为全氟化（Cl-C5)烷基基团； Y选自键，-S(O)2-N(CH3) -、- C(O) - NH -和-(CH2CH2O)y -; η为20至100的整数； X为2至20的整数；并且 y为1至20的整数。【专利摘要】本专利技术涉及一种具有下式的化合物：其中：R1选自H、烷基基团、芳基基团以及它们的组合；R2为Rf–Y–(CH2)x–；R3为反应性基团；Rf为全氟化烷基基团；Y选自键，–S(O)2–N(CH3)–、–S(O)2–N(CH2CH3)–、–S(O)2–O–、–S(O)2–、–C(O)–、–C(O)–S–、–C(O)–O–、–C(O)–NH–、–C(O)–N(CH3)–、–C(O)–N(CH2CH3)–、–(CH2CH2O)y–、–O–和–O–C(O)–CH＝CH–C(O)–O–；n大于10；x为2至20；并且y为至少1。【IPC分类】C08G73-02【公开号】CN104870520【申请号】CN201380066738【专利技术人】S·科拉克, P·B·阿姆斯特朗 【申请人】3M创新有限公司【公开日】2015年8月26日【申请日】2013年12月10日【公告号】WO2014099465A1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有下式的化合物：其中：R1选自H、烷基基团、芳基基团以及它们的组合；R2为Rf–Y–(CH2)x–；R3为反应性基团；Rf为全氟化烷基基团；Y选自键，–S(O)2–N(CH3)–、–S(O)2–N(CH2CH3)–、–S(O)2–O–、–S(O)2–、–C(O)–、–C(O)–S–、–C(O)–O–、–C(O)–NH–、–C(O)–N(CH3)–、–C(O)–N(CH2CH3)–、–(CH2CH2O)y–、–O–和–O–C(O)–CH＝CH–C(O)–O–；n为大于10的整数；x为2至20的整数；并且y为至少1的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·科拉克，P·B·阿姆斯特朗，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US