基板载具制造技术

本实用新型专利技术涉及一种基板载具，包括：框体，被配置成容纳基板于其中并且支撑基板，其中所述框体包括多个夹具，用以固定所述基板于所述框体中；以及轨道，附接于所述框体，其中所述轨道包括可磁性化材料，所述框体的外表面以及所述轨道包括等离子体相容材料。根据本实用新型专利技术实施例的处理腔包括以相容于清洁用等离子体的材料封装、涂覆或制造的部件。根据本实用新型专利技术实施例的基板载具可以相容于清洁用等离子体的材料制成或涂覆。根据本实用新型专利技术实施例，等离子体清洁动作可在具有一个或多个基板载具的处理腔中执行，这些基板载具未承载任何基板，以清洁这一个或多个基板载具以及腔体部件。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术的实施例一般是关于处理大面积基板的装置及方法。更特定地，本实 用新型的实施例是关于用以于大面积基板处理腔中清洁基板载具与部件的装置及方法。
技术介绍
平面显示器及太阳能面板的工艺通常包括在大面积基板上沉积薄膜。薄膜可利用 化学气相沉积（chemicalvapordeposition)工艺沉积，在化学气相沉积中，化学前体被导 入至处理腔（processingchamber)中，进行化学反应以形成预定的化合物或材料，然后沉 积在定位于处理腔内的基板上。在处理及传递大面积基板进出处理腔的期间内，有时会使 用基板载具来支撑大面积基板。在沉积工艺中，化学前体除了在大面积基板上反应并形成 薄膜之外，也可能会在基板载具和腔体部件上反应并形成薄膜。基板载具及腔体部件上的 薄膜形成可能会造成微粒污染（particlecontamination)。可通过使用等离子体来清洁腔 体部件来减低微粒污染。传统的大面积基板的基板载具，以及用来支撑及搬运大面积基板 的腔体部件通常以不锈钢制成，以获得足以承载大面积基板的结构强度。然而，不锈钢并不 相容于清洁用等离子体（cleaningplasma)。因此，传统的大面积基板的基板载具及处理腔 需要打开腔体的手动清洁，使系统停机时间延长。所以，存在有清洁用以处理大面积基板的 基板载具及腔体部件的需要。
技术实现思路
本技术的实施例是关于一种垂直处理系统，具有与清洁用等离子体相容的腔 体部件。本技术的实施例也关于一种可用等离子体来清洁的基板载具。 本技术的一实施例提供一种基板载具。基板载具包括用以容纳与支撑基板于 其中的框体。框体包括多个夹具，用以固定基板于框体中。基板载具也包括附接于框体的 上部轨道。上部轨道包括可磁性化的材料，框体的外表面以及上部轨道与清洁用等离子体 相容。 本技术的另一实施例提供一种用以处理大面积基板的装置。装置包括腔体及 等离子体源。腔体定义一内部空间。等离子体源邻近内部空间的中间区域设置，并分隔内 部空间为第一处理区域与第二处理区域。装置也包括第一直线滚轮轨道、第一磁轨及第一 背板，第一直线滚轮轨道设置于第一处理区域的下部，用以于垂直方向支撑及传输基板载 具；第一磁轨设置于第一处理区域的上部，用以在垂直方向上导引被第一直线滚轮轨道所 支撑的基板载具；第一背板可移动地设置在第一处理区域内。第一背板被配置成附接于位 于第一直线滚轮轨道上的基板载具，以密封基板载具的背侧。装置还包括第二直线滚轮轨 道、第二磁轨及第二背板，第二直线滚轮轨道设置于第二处理区域的下部，用以于垂直方向 支撑及传输基板载具；第二磁轨设置于第二处理区域的上部，用以在垂直方向上导引由第 二直线滚轮轨道所支撑的基板载具；第二背板可移动地设置在第二处理区域内。第二背板 被配置成附接于位于第二直线滚轮轨道上的基板载具，以密封基板载具的背侧。 本技术的另一实施例提供一种用以处理大面积基板的系统布局。系统布局包 括前述实施例所公开的用以处理大面积基板的装置、第一装料锁定腔、第二装料锁定腔、第 一装载/卸载托架及第二装载/卸载托架。第一装载/卸载托架可移动地附接于第一装料 锁定腔，第二装载/卸载托架可移动地附接于第二装料锁定腔。第一装料锁定腔被配置成 装载及卸载基板载具至装置的第一直线滚轮轨道，第二装料锁定腔被配置成装载及卸载基 板载具至装置的第二直线滚轮轨道。 本技术的另一实施例提供一种等离子体清洁载具的方法。此方法包括于处理 腔中容纳未承载基板的基板载具，此处理腔被配置为处理位于垂直方向上的一个或多个大 面积基板；以及于处理腔中产生清洁用等离子体，以清洁基板载具与处理腔的内部表面。根 据本技术的一实施例，在沉积期间用以覆盖基板背侧的背板的表面也可与处理腔的内 表面同时用等离子体清洁。等离子体清洁期间背板可与基板载具相隔一距离。 根据本技术一方面，提供了一种基板载具，包括：框体，被配置成容纳基板于 其中并且支撑基板，其中所述框体包括多个夹具，用以固定所述基板于所述框体中；以及轨 道，附接于所述框体，其中所述轨道包括可磁性化材料，所述框体的外表面以及所述轨道包 括等离子体相容材料。 根据本技术又一方面，所述框体包括上段、下段以及两个侧边段，所述上段、 所述下段以及所述两个侧边段围绕位于其中的矩形内部开口，所述框体的一侧形成有步 阶。 根据本技术又一方面，所述基板载具还包括设置于所述步阶上的多个接触 垫，于操作期间内，所述多个接触垫接触所述基板。 根据本技术又一方面，所述基板载具还包括设置于所述框体上的多个夹具， 所述多个夹具的每一个定位成能将所述基板压向所述步阶。 根据本技术又一方面，所述基板载具还包括多个连接器，所述多个连接器将 所述轨道耦接至所述框体的所述上段。 根据本技术又一方面，所述框体包括所述等离子体相容材料的涂层。 根据本技术又一方面，所述轨道的所述可磁化材料封装于所述等离子体相容 材料之中。 根据本技术又一方面，所述等离子体相容材料包括铝、陶瓷或聚四氟乙烯。 根据本技术又一方面，所述基板载具还包括附接于所述框体的所述下段的下 部边缘，所述下部边缘塑形为能与驱动机构互动，以移动所述基板载具。 根据本技术又一方面，所述下部边缘塑形为与多个滚轮互动。 根据本技术又一方面，所述下部边缘包括含有铝、陶瓷或聚四氟乙烯的涂层。 根据本技术又一方面，所述等离子体相容材料包括纯度高于96 %的氧化铝。【附图说明】 为了可以详细理解本技术的上述特征的方式，可以参照实施例对以上简述的 本技术作更具体的描述，一些实施例图示于附图中。然而应当注意，附图仅图示本实用 新型的典型实施例，因此不视为限定本技术的范围，本技术承认其他等效的实施 例。 图1是根据本技术一实施例的系统布局的平面图。 图2是根据本技术一实施例的化学气相沉积腔的剖面图。 图3A至图3F是根据本技术一实施例的基板载具的示意图。 为便于理解，在可能的情况下使用相同的附图标记来表明附图中共同的相同元 件。可以构想，一个实施例中公开的元件可有利地应用于其他实施例而无须特别复述。【具体实施方式】 本技术的实施例是关于一种在处理腔中清洁基板载具与部件的装置及方法。 特别地，本技术的实施例关于具有相容于等离子体清洁动作（plasmacleaning)的腔 体部件的处理腔。本技术的实施例也关于在未承载基板时相容于等离子体清洁动作的 基板载具。根据本技术实施例的处理腔可包括用相容于清洁等离子体的材料封装、涂 覆或制造的部件。根据本技术实施例的基板载具可以与清洁用等离子体相容的材料来 形成或涂覆。根据本技术实施例，等离子体清洁动作可在具有一个或多个的基板载具 的处理腔中执行，而这些基板载具上没有任何基板，以清洁此一个或多个的基板载具与腔 体部件。 图1是根据本技术一实施例的系统布局（systemlayout) 100的平面图。系 统布局100被配置成当在实质上垂直的方向上放置大面积基板时处理大面积基板。系统布 局100可制作成处理表面积超过90, 000平方毫米（mm2)的基板的大小。 系统布局100包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板载具，包括：框体，被配置成容纳基板于其中并且支撑基板，其中所述框体包括多个夹具，用以固定所述基板于所述框体中；以及轨道，附接于所述框体，其中所述轨道包括可磁性化材料，所述框体的外表面以及所述轨道包括等离子体相容材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：栗田真一，B·M·约翰斯通，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国;US