本发明专利技术提供一种气路清洗装置，用于对光谱检测仪器的气路进行清洗，其特征在于，包括：清洗气源；稳压阀，与清洗气源相连接；气体流量控制装置，与稳压阀相连接；限流阀，一端与稳压阀相连接，另一端与光谱检测仪器的气路出口相连通，当打开清洗气源进行清洗时，清洗气源产生的气流沿与检测时载气运行方向相反的方向进入气路。本发明专利技术的气路清洗装置可以大幅减少清洗时间，可将清洗时间减少为原来的1/2到1/3。缩短了分析间隔中的清洗时间，因此整体上提高了分析速度。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种气路清洗装置，本专利技术还涉及一种气路清洗方法，属于分析仪器领域。
技术介绍
光谱类检测仪器，例如气相分子吸收光谱仪，通常其在测定一个样品后，需要清洗管路，以便进行下一个样品分析，通常采用清洗的方法是:根据原样品测定方法所采用的载气流量，加大载气流量，或者保持流量不变，将残留的气体带走，直至将气路，包含比色管部分，清洗干净。上述方法缺点第一是清洗耗时很长，不利于分析效率提高。第二是消耗纯水量很大，使得仪器中产生很多的水汽，进而导致检测器受水汽污染，产生分析误差。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种快速清洗装置，以解决上述问题。本专利技术采用了如下技术方案:一种气路清洗装置，用于对光谱检测仪器的气路进行清洗，其特征在于，包括:清洗气源；稳压阀，与所述清洗气源相连接；气体流量控制装置，与所述稳压阀相连接；限流阀，一端与所述稳压阀相连接，另一端与所述光谱检测仪器的气路出口相连通，当打开所述清洗气源进行清洗时，所述清洗气源产生的气流沿与检测时载气运行方向相反的方向进入所述气路。另外，本专利技术的气路清洗装置，还可以具有这样的特征:其中，清洗气源为氮气、氩气、或其它惰性气体、或者洁净空气。另外，本专利技术的气路清洗装置，还可以具有这样的特征:其中，气体流量控制装置为稳压阀、限流阀、质量流量控制器或转子流量计中的任意一种或者多种组合使用。另外，本专利技术的气路清洗装置，还可以具有这样的特征:还具有第二三通阀，位于光谱检测仪器的气路末端，用于排出气路中的气流。另外，本专利技术的气路清洗装置，还可以具有这样的特征:其中，所述清洗气源产生的气压大于大于所述载气进入到比色管内后的气压。本专利技术还提供一种气路清洗的方法，一种气路清洗方法，利用气路清洗装置对光谱检测仪器的气路进行清洗，其特征在于，包括以下步骤:步骤一，同时打开清洗气源和载气气源，载气气源释放载气，载气从反应腔中正向进入光谱检测仪器的气路入口进行清洗，清洗气源释放清洗气体，清洗气体经过稳压阀、限流阀后从所述光谱检测仪器的气路出口处逆向进入气路进行清洗；步骤二、两路气体混合后从气路入口处的排气阀排出，其中，所述清洗气体的气压大于所述载气进入到比色管内后的气压。专利技术的有益效果本专利技术的气路清洗装置可以大幅减少清洗时间，可将清洗时间减少为原来的1/2到1/3。缩短了分析间隔中的清洗时间，因此整体上提高了分析速度。此外，本专利技术开能够减少杂质气体或者水汽等在比色管内壁上的聚集，保持比色管长期处于干净状态。【附图说明】图1是本专利技术的气路清洗装置的结构示意图；图2是清洗时的气流方向示意图。【具体实施方式】以下结合附图来说明本专利技术的【具体实施方式】。如图1所示，气路清洗装置包括:清洗气源，在本实施方式中清洗气源采用气泵11 ;稳压阀12 ;气体流量控制装置，本实施方式中采用限流阀13 ;第一三通阀15 ;以及第二三通阀16。以下以气路清洗装置应用于气相分子吸收光谱仪为例进行描述。如图1所示，气相分子吸收光谱仪包括比色管21，光源22，检测器23，反应腔24，干燥器25，以及载气气源26 ο气泵11、稳压阀12、限流阀13和第一三通阀15依次相连。气泵11用于产生清洗气体。第一三通阀15连接在气相分子吸收光谱仪原有的检测气路的出口处。第二三通阀16安装在反应腔24的出口处。干燥器25设置在反应腔内的上部，对从反应腔流出的气体进行干燥。气路清洗装置的使用过程:首先介绍传统的正常清洗模式，正常清洗时使用纯水对反应腔中的化学试剂进行冲洗，同时打开载气气源26将反应腔中残留的气体吹出。载气从反应腔24经过干燥器25后向外吹出，同时对气路的后端进行清洗，载气的流动方向为图中黑色箭头所示的方向。当使用清洗装置进行清洗时，保持上述的正常清洗模式不变，关闭第一三通阀15通往外界的出口 15a，打开气泵11。即同时开启载气气源26和气泵11。气泵11产生的清洁空气先通过稳压阀12，然后通过限流阀13，再通过第一三通阀15逆向进入比色管21所在的气路中进行冲洗清洁。该清洁空气的行进方向与载气的流动方向相反，这两路气体的流动方向如图1所示，图1中实心黑色箭头为正常清洗时载气的流动方向，载气的流动方向与样品测定时载气流动方向是相同的，空心白色箭头为清洗气体的流动方向。清洗气体的气流量大小可通过气体流量控制装置调节，在清洗状态下，清洗气体的气压应设置为大于载气进入比色管内后的气压，使得清洗气体能够从反向进入气路中进行清洗。图2是清洗时的气流方向示意图，如图2所示，由于清洗气体的流量大于载气的流量，因此载气和清洗气体这两路气体将在第二三通阀16处汇合并排出。在传统的清洗方式下，在使用载气气源对气路进行清洗的同时，需要使用纯水清洗反应腔。此时，载气经过反应腔和干燥器进入上方的比色管等气路中，在这个过程中载气会带入纯水中的水蒸气，即使经过干燥器的干燥，水蒸气也难免会附着在比色管中，甚至进入仪器内部的其它零件中，导致检测器受水汽污染，产生分析误差。此外，由于在清洗反应腔的同时载气在不断的通过反应腔进入气路中，因此，反应腔中残留的气体也会随载气进入气路中，不仅延长了清洗的时间，也使得杂质气体在比色管内壁上聚集。而本专利技术的气路清洗装置，由于清洗气流的方向与载气的运动方向相反，使得载气不会进入比色管，而是在第二三通阀16处排出，防止了载气中的水蒸气或者其它杂质气体聚集在比色管中。同时由于清洗气流的方向与载气的运行方向相反，因此，对于管壁的清洗力度更大，可对正常载气冲洗方向冲不到的部位也进行清洗。同时，由于载气不会进入比色管之中，因此反应腔中残留的气体不会随载气进入比色管后面的气路中，使得清洗气流的冲洗时间缩短。另外，当一些仪器在图1中第二三通阀16所处的位置原本就具有泄压孔时，可以省略第二三通阀16。另外，在原有设备上安装本专利技术的清洗装置，对原有设备的改装非常简便，只需要在原有设备的出气口处和反应腔的出口处各安装一个三通阀，而不需要对原有设备的气路或者内部构造进行大规模的修改。通常情况下原有设备在反应腔的出口处原本就具有泄压孔，此时仅需要在原有设备的出气口处安装一个三通阀即可。清洗气体除本实施例中所采用的气泵产生的洁净空气以外，还可以可以为氮气、氩气，或其它的惰性气体，但应保证气体的洁净。通过气体流量控制装置调节气体流量大小，气体流量控制装置可以是限流阀、质量流量控制器、转子流量计等，或者这几种装置的组合使用。【主权项】1.一种气路清洗装置，用于对光谱检测仪器的气路进行清洗，其特征在于，包括: 清洗气源； 稳压阀，与所述清洗气源相连接； 气体流量控制装置，与所述稳压阀相连接； 限流阀，一端与所述稳压阀相连接，另一端与所述光谱检测仪器的气路出口相连通，当打开所述清洗气源进行清洗时，所述清洗气源产生的气流沿与检测时载气运行方向相反的方向进入所述气路。2.根据权利要求1所述的气路清洗装置，其特征在于: 其中，所述清洗气源流出的气体为氮气、氩气、或其它惰性气体、或者洁净空气。3.根据权利要求1所述的气路清洗装置，其特征在于: 其中，所述气体流量控制装置为稳压阀、限流阀、质量流量控制器或转子流量计中的任意一种或者多种组合使用。4.根据权利要求1所述的气路清洗装置，其特征在于:还具有第二三通阀，位于所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种气路清洗装置，用于对光谱检测仪器的气路进行清洗，其特征在于，包括：清洗气源；稳压阀，与所述清洗气源相连接；气体流量控制装置，与所述稳压阀相连接；限流阀，一端与所述稳压阀相连接，另一端与所述光谱检测仪器的气路出口相连通，当打开所述清洗气源进行清洗时，所述清洗气源产生的气流沿与检测时载气运行方向相反的方向进入所述气路。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李明，余海霞，周侣艳，张德兵，张大庆，阳纯泉，卢文武，姚逸，蔡杰，陈凡，
申请(专利权)人：上海北裕分析仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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