含离子液体的口腔护理组合物制造技术

本发明专利技术涉及包含离子液体的口腔护理组合物，其中离子液体包含咪唑阳离子，和涉及使用所述口腔护理组合物除去或减少菌斑的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】含离子液体的口腔护理组合物 专利技术背景 离子液体是一类包含阳离子和阴离子的盐，其在100 °c或更低的温度下呈液体且通常 具有低于室温的熔点。虽然不希望受理论的束缚，离子液体一般具有比常规盐低得多的对 称性且阳离子和阴离子的电荷通过在离子液体中共振而在分子的较大体积中分布，这被认 为促成它们在比常规盐（例如NaCl，mp 801°C )低得多的温度下的液态。离子液体通常由 包含杂环的阳离子和相反阴离子组成，通常在性质上是无机的。阳离子和阴离子的性质将 确定离子液体的疏水性、粘度、密度和其它物理参数和特性。 离子液体已被评价为对用于广泛范围的有机合成应用的常规有机溶剂的环境友 好的或'绿色'替代品。离子液体具有将它们与常规有机溶剂区别开来的独特特征。例如， 离子液体是不挥发的（即它们不容易蒸发到大气中），它们具有高极性和电荷密度，它们可 以是疏水性或亲水性的，且它们具有独特的溶剂化性质。因此，已知离子液体被用来清洁组 合物（例如，如在US 2006/0090777 Al和US 7 939 485 B2中所公开的）。一系列的离子 液体为商业可获得的，或它们可通过简单的离子交换反应而容易地合成。 生物膜是结构化的微生物群，所述微生物被包封在自身产生的聚合的细胞外基质 内。生物膜通常粘附在活的或惰性的表面。在人或动物体内，生物膜可在任何内或外表面 上形成。已发现生物膜参与体内广泛种类的微生物感染并引起许多病症，包括尿道感染、中 耳感染和特别是口腔疾病。 牙菌斑由生物膜前体形成，并一定程度地存在于口腔内几乎所有的牙齿表面上或 在牙医和卫生人员（hygenist)使用的牙科器械上。它包含由包埋在多糖基质中的微生物 群组成的密集的微生物层。菌斑可在牙齿表面的任何部分上形成，且特别是在牙龈边缘和 在牙釉质中的裂纹处发现。与在牙齿上形成菌斑有关的威胁在于菌斑积聚并最终生产牙龈 炎、牙周炎和其它类型的牙周疾病以及龋齿和牙结石的趋势。 菌斑本身极其坚固地附着于牙齿表面并在将其除去后迅速地在牙齿表面上重新 形成。目前菌斑去除方法主要依赖于菌斑的机械去除。这些方法包括刷牙、用研磨剂牙膏刷 牙、用牙线清洁、使用牙间清洁器、刮、利用声波的能量（例如Sonicare牙刷）和超声（例 如Ultreo牙刷），部分地依赖于许多消费者完全不具备的好的刷牙或用牙线清洁技术。而 且，这些方法尤其不足以除去顽固的菌斑，或深藏在牙腔和牙缝内、牙齿之间或牙龈袋（gum pocket)内的菌斑。 本领域也已知将消灭或阻止细菌的生长的抗微生物剂掺入口腔组合物内。然而， 由于致密的细胞外基质和细胞外层保护生物膜或菌斑沉积物内部发现的细菌免于抗微生 物剂的作用，存在于生物膜或菌斑沉积物中的细菌显示对抗微生物剂的增加的抗性。 因此需要提供用于除去菌斑的改进的方法和组合物，所述方法和组合物减轻因差 的刷牙/用牙线清洁技术所致的某些效率低下和有效地除去藏匿在牙齿之间、牙腔和牙缝 内和在牙龈袋内的菌斑。 专利技术简述 本专利技术旨在至少部分地满足本领域的这些需求。 在第一方面，本专利技术提供一种口腔护理组合物，其包含离子液体，其中离子液体包 含： a) 咪唑戀阳离子和 b) 选自水杨酸根、乙酸根、卤离子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸 根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根（例如甲基硫酸根、乙基硫酸 根）、月桂基硫酸根、苯酷硫酸根、苯甲酸根、乙酰丙酮酸根（acetylacetonate)、羧酸根、梓 檬酸根、抗坏血酸根、二氰胺（dicyamide)、L_或D-氨基酸（例如精氨酸根、甘氨酸根、脯氨 酸根等）、乙醇酸根、葡糖酸根、马来酸根、甜味剂阴离子（例如糖精根（saccharinate)、阿 司帕坦根（aspartamate)、环己基氨基磺酸根）、氢氧根、琥珀酸根、酒石酸根、丁二酸二辛 基磺酸根、亚油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的阴离子。 典型地，阳离子是具有式I-R1H2H3-咪唑鐵的咪唑鐵离子，其中R 1、R2和R 3 独立地选自H、烷基和烯基。 任选地，R1、R2和R3独立地选自H、C 烷基和C 2_22烯基。在另一个实施方案中， R1、R2和R 3独立地选自H、C 12_22烷基和C 12_22烯基。在还有的另一个实施方案中，R 1、R2和R 3 独立地选自H、Cp8烷基和C 2_8烯基。在又一个实施方案中，R 1、R2和R 3独立地选自H、C η烷 基和C2_4烯基。更任选地，R 1和R 3独立地选自C Htl烷基和C 2_1(|烯基，和R 2独立地选自H、 CV1。烷基和C2_1Q烯基。 还更任选地，C1M烷基和C 2_1(|烯基是线性的。 任选地，R1是C 6_1(|烷基或C 6_1(|烯基。更任选地，R 3是甲基。 典型地，R2是H。 任选地，R1选自乙基、丁基、己基、癸基和烯丙基。 更任选地，卤离子是氟离子、氯离子、溴离子或碘离子。 还更任选地，烷基硫酸根和烷基磷酸根包含1-22个碳原子。还更任选地，烷基硫 酸根和烷基磷酸根包含1-4个碳原子，或6-10个碳原子或12-22个碳原子。典型地，阴离 子选自乙酸根、溴离子、氯离子、甲基硫酸根、乙基硫酸根、辛基硫酸根、二乙基磷酸根和甲 苯磺酸根。 任选地，阴离子选自乙酸根、辛基硫酸根或甲苯磺酸根。 任选地，离子液体选自1-乙基-3-甲基咪唑错（EMM)氯化物、EMM溴化物、EMM 乙基硫酸盐、EMIM二乙基磷酸盐、EMIM乙酸盐、EMIM甲苯磺酸盐、1- 丁基-3-甲基咪唑Il (BMM)氯化物、BM頂溴化物、BMM甲基硫酸盐、BMM辛基硫酸盐、BM頂乙酸盐、1-烯丙 基-3-甲基咪唑輸（AMM)氯化物、1-癸基-3-甲基咪唑錯（DMM)氯化物和1，2, 3-三甲 基咪唑鐵（TMM)甲基硫酸盐。典型地，口腔护理组合物包含基于组合物总重量计少于0.1 wt%的量的研磨剂。任选地，口腔护理组合物包含基于组合物总重量计少于0. 01 wt%的量 的研磨剂。更任选地，口腔护理组合物基本上不含任何研磨剂。 典型地，离子液体以基于组合物总重量的约0.1 wt%_约30 wt%的量存在于口腔 护理组合物中。任选地，离子液体以基于组合物总重量的约0.5 wt%_约20 wt%的量存在 于口腔护理组合物中。更任选地，离子液体以基于组合物总重量的约5 wt%_约15 wt%的 量存在于口腔护理组合物中。还更任选地，离子液体以基于组合物总重量的约8 wt%_约10 Wt%的量存在于口腔护理组合物中。 典型地，离子液体以约I mM-约500 mM的浓度存在于口腔护理组合物中。 任选地，离子液体以约5 mM-约300 mM的浓度存在于口腔护理组合物中。更任选 地，离子液体以约15 mM-约250 mM或约I mM-约50 mM的浓度存在于口腔护理组合物中。 典型地，口腔护理组合物包含用于口腔清洗剂、牙膏、口腔珠粒或条带、灌洗液、菌 斑去除液、舌喷雾、牙线、糖果、锭剂、口香糖、贴剂（例如类似无烟烟草袋的口腔内贴剂）和 棒棒糖的口腔可接受的载体。 典型地，口腔护理组合物还包含一种或多种选自稀释剂、碳酸氢盐、pH调节剂、表 面活性剂、泡沫调节剂、增稠剂、粘度调节剂、湿润剂、甜味剂、香料、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种口腔护理组合物，其包含离子液体，其中离子液体包含：a) 咪唑阳离子和b) 选自乙酸根、卤离子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根、月桂基硫酸根、苯酚硫酸根、苯甲酸根、乙酰丙酮酸根、羧酸根、柠檬酸根、抗坏血酸根、二氰胺、L‑或D‑氨基酸、乙醇酸根、葡糖酸根、马来酸根、甜味剂阴离子、氢氧根、琥珀酸根、酒石酸根、丁二酸二辛基磺酸根、亚油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的阴离子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：M佩特尔，M哈桑，R帕雷德斯，
申请(专利权)人：高露洁棕榄公司，
类型：发明
国别省市：美国;US