一种体感滤光片制造技术

本发明专利技术公开了一种体感滤光片，包括基板，以交替的TiO2和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层与第二镀膜层，基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间；第一镀膜层由内而外依次由TiO2层与SiO2层交替沉积共66层，包括33层TiO2层与33层SiO2层，最内层为TiO2层直接沉积在基板的一侧表面，最外层为SiO2层；第二镀膜层由内而外依次由TiO2层与SiO2层交替沉积共80层，包括40层TiO2层与40层SiO2层，最内层为TiO2层并直接沉积在基板的另一侧表面，最外层为SiO2层。该发明专利技术的中心波长为866nm、截止区域在300nm-1100nm之间、平均透过率小于0.1％、峰值半宽度在13nm±3nm并透过率大于95％，可广泛应用于Xbox游戏机、人机互动游戏等。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜技术，特别涉及一种体感滤光片。
技术介绍
随着光学摄影技术和各种智能终端设备的大量应用，人机互动成为人们工作和学 习的一种新的形式，就是采用一个摄像机对人体或者人体的某一特殊器官进行立体探测， 这种立体探测则需要一个截止区域在300nm-1100nm、平均透过率小于0. 1%、中心波长在 866]11]1、峰值半宽度在13111]1±3111]1、透过率大于95%的体感滤光片，要求十分严格。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种50%宽度大于13nm，90%的宽度大于 10nm，10%的宽度小于15nm的截止区域透过率小于0. 1%的滤光片，以满足人机互动立体 探测要求。 为达到上述目的，本专利技术的技术方案如下： -种体感滤光片，包括： 白板玻璃材质的基板，以交替的Ti02和Si02为镀膜材料的第一镀膜层、及以交替 的Ti02和Si02为镀膜材料的第二镀膜层，所述基板位于所述第一镀膜层和第二镀膜层之 间； 所述第一镀膜层由内而外依次由Ti02层与Si02层交替沉积共66层，其中包括33 层Ti02层与33层Si02层，即最内层为Ti02层直接沉积在所述基板的一侧表面，最外层为 Si02层；所述第二镀膜层由内而外依次由Ti02层与Si02层交替沉积共80层，其中包括40 层Ti02层与40层Si02层，即最内层为Ti02层并直接沉积在所述基板的另一侧表面，最外 层为Si02层； 所述Ti02层和Si02层采用电子束蒸发和加以离子辅助的形式依次沉积在所述基 板的两侧表面上，并控制温度小于350°C，真空度为10_3pa以下，蒸发速率为10A/S以内。 其中，所述基板的材质为白板玻璃，大小为巾4.1mm，厚度小于2mm，面形精度小于 2入，平行度小于3'，光洁度优于60/40。 其中，所述第一镀膜层由内而外交替的Ti02层与Si02层厚度依次为：Ti02层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 282. 12nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 181. 38nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 362. 75nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 181. 38nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 282. 12nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，Ti02 层 90. 69nm，Si02 层 141. 06nm，共 66 层。 其中，所述第二镀膜层由内而外交替的Ti02层与Si02层厚度依次为：Ti02层 29. 18nm，Si02 层 85. 5nm，Ti02 层 48. 45nm，Si02 层 73. 04nm，Ti02 层 42. 9nm，Si02 层 70. 19nm，Ti02 层 44. 72nm，Si02 层 72. 29nm，Ti02 层 41. 26nm，Si02 层 65. 97nm，Ti02 层 43. 54nm，Si02 层 71. 74nm，Ti02 层 37. 75nm，Si02 层 65. 95nm，Ti02 层 46. 87nm，Si02 层 75. 27nm，Ti02 层 42. 87nm，Si02 层 85. 31nm，Ti02 层 44. 33nm，Si02 层 80. 68nm，Ti02 层 48. 63nm，Si02 层 90. 21nm，Ti02 层 59. 08nm，Si02 层 92. 25nm，Ti02 层 53. 67nm，Si02 层 88. 72nm，Ti02 层 54. 26nm，Si02 层 91. 93nm，Ti02 层 59. 67nm，Si02 层 91. 88nm，Ti02 层 55. 88nm，Si02 层 94. 87nm，Ti02 层 63. 18nm，Si02 层 88. 63nm，Ti02 层 43. 97nm，Si02 层 87. 08nm，Ti02 层 60. 3nm，Si02 层 112. 62nm，Ti02 层 68. 75nm，Si02 层 68. 75nm，Ti02 层 63. 41nm，Si02 层 115. 45nm，Ti02 层 70. 32nm，Si02 层 115. 63nm，Ti02 层 71nm，Si02 层 116. 5nm，Ti02 层 77. 97nm，Si02 层 118. 22nm，Ti02 层 74. 57nm，Si02 层 113. 18nm，Ti02 层 71. 48nm，Si02 层 113. 47nm，Ti02 层 70. 86nm，Si02 层 114. 49nm，Ti02 层 67. 85nm，Si02 层 113. 36nm，Ti02 层 76. 2nm，Si02 层 104. 83nm，Ti02 层 86. 48nm，Si02 层 182. 24nm，Ti02 层 151. 4nm，Si02 层 171. 84nm，Ti02 层 100. 51nm，Si02 层 169. 55nm，Ti02 层 104. 29nm，Si02 层 173. 82nm，Ti02 层 113. 37nm，Si02 层 180nm，Ti本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种体感滤光片，其特征在于，包括：白板玻璃材质的基板(1)，以交替的TiO2和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层(2)、及以交替的TiO2和SiO2为镀膜材料的第二镀膜层(3)，所述基板(1)位于所述第一镀膜层(2)和第二镀膜层(3)之间；所述第一镀膜层(2)由内而外依次由TiO2层与SiO2层交替沉积共66层，其中包括33层TiO2层与33层SiO2层，即最内层为TiO2层直接沉积在所述基板(1)的一侧表面，最外层为SiO2层；所述第二镀膜层(3)由内而外依次由TiO2层与SiO2层交替沉积共80层，其中包括40层TiO2层与40层SiO2层，即最内层为TiO2层并直接沉积在所述基板(1)的另一侧表面，最外层为SiO2层；所述TiO2层和SiO2层采用电子束蒸发和加以离子辅助的形式依次沉积在所述基板(1)的两侧表面上，并控制温度小于350℃，真空度为10‑3pa以下，蒸发速率为以内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王明利，
申请(专利权)人：苏州奥科辉光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32