本发明专利技术的目的在于提供一种防眩膜，其尽管为低雾度但在宽观察角度内具有优异的防眩性，且在配置于图像显示装置时可充分抑制泛白及晃眼的发生。本发明专利技术的防眩膜具备透明支承体、和形成于该支承体上的具有微细的表面凹凸形状的防眩层，其中，该防眩膜的总雾度为0.1％以上且3％以下，表面雾度为0.1％以上且2％以下，对于以入射角30°入射的光，反射角30°的反射率R(30)与反射角40°的反射率R(40)之比R(40)/R(30)为0.00001以上且0.0025以下，由表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算的复振幅的功率谱在特定的2个空间频率下的强度比分别在给定的范围内。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防眩性优异的防眩（antiglare)膜。
技术介绍
对于液晶显示器、等离子体显示器面板、布劳恩管（阴极射线管：CRT)显示器、有 机场致发光（EL)显示器等图像显示装置而言，为了避免因外部光线映入其显示面而引起 的视觉辨认性（視認性）的劣化，在该显示面配置有防眩膜。 作为防眩膜，主要考察了具备表面凹凸形状的透明膜。这样的防眩膜通过利用表 面凹凸形状使外部光线发生散射反射（外部光线散射光）来减少映入，从而显示防眩性。 然而，在外部光线散射光强烈的情况下，可能会导致图像显示装置的显示面整体发白、显示 色彩不鲜明这样的所谓"泛白（白6K ) "的发生。另外，还可能发生图像显示装置的像 素与防眩膜的表面凹凸发生干涉、产生亮度分布而导致而难以辨认的所谓"晃眼（< 7夂 々基于以上背景，对于防眩膜，要求在确保优异的防眩性的同时、充分防止该"泛白"及 "晃眼"的发生。 作为这样的防眩膜，例如在专利文献1中，作为在配置于高精细的图像显示装置 时也不会发生晃眼、且可充分防止泛白的产生的防眩膜，公开了下述防眩膜：其在透明基 材上形成有微细的表面凹凸形状，且该表面凹凸形状的任意剖面曲线的平均长度PSm为 12 μ m以下，该剖面曲线的算术平均高度Pa与平均长度PSm之比Pa/PSm为0.005以上且 0.012以下，该表面凹凸形状的倾角为2°以下的面的比例为50%以下、该倾角为6°以下 的面的比例为90%以上。 专利文献1中公开的防眩膜通过使任意剖面曲线的平均长度PSm非常小，来消除 容易导致晃眼发生的具有50μπι附近的周期的表面凹凸形状，从而能够有效地抑制该晃 眼。但是，对于专利文献1中公开的防眩膜而言，如果要进一步减小雾度（如果要达到低雾 度），则可能会导致从斜向观察配置有该防眩膜的图像显示装置显示面时的防眩性降低。因 此，专利文献1中公开的防眩膜在宽观察角度的防眩性方面，尚存在改良的余地。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2007-187952号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 本专利技术的目的在于提供一种防眩膜，其尽管为低雾度但在宽观察角度内具有优异 的防眩性，且在配置于图像显示装置时可充分抑制泛白及晃眼的发生。 解决问题的方法 本专利技术人为了解决上述问题而进行了深入研究，结果完成了本专利技术。即，本专利技术提 供一种防眩膜，其具备透明支承体、和形成于该支承体上的具有微细的表面凹凸形状的防 眩层， 该防眩膜的总雾度为0.1 %以上且3 %以下、表面雾度为0.1 %以上且2 %以下， 对于以入射角30°入射的光，反射角30°的反射率R(30)与反射角40°的反射率 R(40)之比 R(40)/R(30)为 0· 00001 以上且 0· 0025 以下， 利用下述功率谱计算方法求出的复振幅的功率谱满足下述（1)~（3)的全部条 件： (1)功率谱在空间频率0. 002 μ πΓ1下的强度H (0. 002)与功率谱在空间频率 0. ΟΙμπΓ1 下的强度 Η(0. 01)之比 Η(0. 01)/Η(0. 002)为 0. 02 以上且 0. 6 以下； (2)功率谱在空间频率0. 002 μ πΓ1下的强度H (0. 002)与功率谱在空间频率 0. 02 μ πΓ1下的强度H (0. 02)之比H (0. 02) /H (0. 002)为0. 005以上且0. 05以下；以及 (3)功率谱在空间频率0. 002 μ πΓ1下的强度H (0. 002)与功率谱在空间频率 0.04 μ πΓ1 下的强度 Η(0. 04)之比 Η(0. 04)/H(0.002)为 0.0005 以上且 0.01 以下。〈功率谱计算方法〉 ㈧由上述表面凹凸形状的平均标高确定作为假想的平面的平均面； (B)确定包含上述表面凹凸形状的标高最低的点且与上述平均面平行的作为假想 的平面的最低标高面、和包含上述表面凹凸形状的标高最高的点且与上述平均面平行的作 为假想的平面的最高标高面； (C)对于从垂直于上述最低标高面的主法线方向入射并从上述最高标高面出射的 波长550nm的平面波由上述表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算上述最高标高面 的复振幅，求出此时该复振幅的功率谱。 进而，对于本专利技术的防眩膜而言，优选 使用暗部和明部的宽度分别为0. 125mm、0. 25mm、0. 5mm、l. Omm及2. Omm的五种光 梳测定的透射清晰度之和Tc为375%以上， 使用暗部和明部的宽度分别为0. 25mm、0. 5mm、l. Omm及2. Omm的四种光梳以光的 入射角45°测定的反射清晰度之和Rc (45)为180%以下， 使用暗部和明部的宽度分别为0. 25mm、0. 5mm、l. Omm及2. Omm的四种光梳以光的 入射角60°测定的反射清晰度之和Rc(60)为240%以下。 专利技术效果 根据本专利技术，可提供一种尽管为低雾度，但在宽观察角度内具有充分的防眩性，且 在配置于图像显示装置时可充分抑制泛白及晃眼的发生的防眩膜。【附图说明】 用以简单地说明从防眩层侧以入射角30°入射光时各个角度的防眩膜的 反射率的图。 用以简单地说明防眩膜的表面凹凸形状的标高的图。 用以简单地说明防眩膜的表面凹凸形状的标高与坐标（x，y)的关系的图。 用以简单地说明防眩膜的表面凹凸形状的标高h(x，y)与标高基准面和最 1?标1?面的关系的图。 示意图，示出了离散性地得到防眩膜的表面凹凸形状的标高的状态。 示意图，示出了由根据以离散函数形式得到的表面凹凸形状的标高计算的 复振幅的二维功率谱计算一维功率谱的状态。 示出了根据防眩膜的表面凹凸形状的标高计算得到的复振幅的一维功率 谱H (f)相对于空间频率f的图。 示意性地示出了模具的制造方法（前半部分）的优选的一例的图。 示意性地示出了模具的制造方法（后半部分）的优选的一例的图。 示意性地示出了本专利技术的防眩膜的制造方法中使用的制造装置的优选的 一例的图。 示意性地示出了本专利技术的防眩膜的制造方法中优选的预固化工序的图。 示意性地示出了用于晃眼评价的单元格子（unit cell)的图。 示意性地示出了晃眼评价装置的图。 示出了在实施例1~3及比较例1中使用的图案A的一部分的图。 示出了在实施例4中使用的图案B的一部分的图。 示出了在实施例5中使用的图案C的一部分的图。 示出了在比较例2中使用的图案D的一部分的图。 符号说明 10防眩膜 11光的入射角（30° )， 12朝向正反射角的反射光（30° ) 40模具用基材， 41经过了第1镀敷工序及研磨工序的模具用基材表面（镀层）， 46通过第1蚀刻处理而形成的第1表面凹凸形状， 47通过第2蚀刻处理而进行了形状钝化的表面凹凸形状， 50感光性树脂膜， 60 掩模， 70镀铬后的表面凹凸形状发生了形状钝化的表面， 71镀铬层， 80导出辊， 81透明支承体， 83涂敷区， 86活性能量射线照射装置， 87筒状的模具， 88, 89 夹持辊， 90膜卷绕装置， 103最低标1?面， 104最闻标闻面。【具体实施方式】 以下，根据需要结合附图对本专利技术的优选实施方式进行说明，但该附图所示的尺 寸等是为了便于观察而任意设定的。 本发本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种防眩膜，其具备透明支承体、和形成于该透明支承体上的具有微细的表面凹凸形状的防眩层，其中，该防眩膜的总雾度为0.1％以上且3％以下，表面雾度为0.1％以上且2％以下，对于以入射角30°入射的光，反射角30°的反射率R(30)与反射角40°的反射率R(40)之比R(40)/R(30)为0.00001以上且0.0025以下，利用下述功率谱计算方法求出的复振幅的功率谱满足下述(1)～(3)的全部条件：(1)功率谱在空间频率0.002μm‑1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.01μm‑1下的强度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)为0.02以上且0.6以下；(2)功率谱在空间频率0.002μm‑1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.02μm‑1下的强度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)为0.005以上且0.05以下；以及(3)功率谱在空间频率0.002μm‑1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.04μm‑1下的强度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)为0.0005以上且0.01以下，所述功率谱计算方法包括：(A)由所述表面凹凸形状的平均标高确定作为假想的平面的平均面；(B)确定包含所述表面凹凸形状的标高最低的点且与所述平均面平行的作为假想的平面的最低标高面、和包含所述表面凹凸形状的标高最高的点且与所述平均面平行的作为假想的平面的最高标高面；(C)对于从垂直于所述最低标高面的主法线方向入射并从所述最高标高面出射的波长550nm的平面波由所述表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算所述最高标高面的复振幅，求出此时该复振幅的功率谱。...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：古谷勉，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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